CN208604240U - 一种预处理装置及物理气相沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种预处理装置及物理气相沉积设备，包括底座和顶板，底座内部通过卡扣固定安装有集尘板，底座上端安装有处理腔，处理腔内表面排列安装有射频线圈，处理腔内部镶嵌安装有石英罩，利用底座、垫脚、集尘板、主板、卡扣板、风扇、封闭板、集尘槽和出风口，将晶圆倒放进行处理，杂质掉落到石英罩，风扇增加吸力，且杂质容易收集，设备更换方便，优化了空间结构，便于维修，清洁，同时更好的解决了晶圆二次污染的问题；利用支撑柱、顶板、进口板、出口板、移动柜、端块和液压伸缩杆，可以控制晶圆移动，更好的进行预处理，且设备自动化程度高，自动进行处理，防护性强，不易对操作人员造成损害。

Description

一种预处理装置及物理气相沉积设备

技术领域

本实用新型涉及预处理相关技术领域，具体为一种预处理装置及物理气相沉积设备。

背景技术

在对晶圆表面进行物理气相沉积，例如溅射工艺时，需要对晶圆表面进行预处理，在等离子气氛下去除晶员表面的自然氧化层、表面杂质离子、油污、颗粒等，以改善溅射前晶圆的表面状态，以提高后续物理气相沉积形成的薄膜的沉积质量。从晶圆表面去除的氧化物等杂质需要进行粘附处理，目前粘附的杂质容易在工艺工程中因为各种原因脱落到晶圆表面造成二次污染。因此，需要解决预处理过程中对晶圆表面造成缺陷的问题，目前，预处理装置针对晶圆二次污染的问题将存放基台倒放，污染直接落下，减小污染，但没有解决晶圆容易掉落，或者杂质无法掉落的问题，且设备加工工艺过程中存在静电，操作人员不易长时间工作，设备缺乏自动性，所以现有的预处理装置还是不够完善，为此本实用新型提出一种预处理装置及物理气相沉积设备用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种预处理装置及物理气相沉积设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种预处理装置及物理气相沉积设备，包括底座和顶板，所述底座内部通过卡扣固定安装有集尘板，所述底座底部左右两侧分别焊接有垫脚，所述垫脚为L形，所述底座上端安装有处理腔，所述处理腔内表面排列安装有射频线圈，所述处理腔内部镶嵌安装有石英罩，所述石英罩为半球状，且底部凹处与集尘板相对应，所述处理腔上端左右两侧分别焊接两根支撑柱，两侧所述支撑柱之间分别镶嵌安装有进口板和出口板，所述支撑柱顶部焊接固定在顶板下表面，所述顶板上端安装有移动柜，所述顶板下端对应移动柜安装有端块，所述端块底部焊接有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆底部安装有限位台。

优选的，所述限位台包括基板、支架和晶圆，所述基板底部左右两侧分别焊接有支架，所述支架之间固定安装有晶圆。

优选的，所述集尘板包括主板、卡扣板、风扇、封闭板、集尘槽和出风口，所述主板左右两侧分别焊接有卡扣板，所述主板内部镶嵌有风扇，所述风扇中心处安装有封闭板，所述封闭板内部镶嵌安装有集尘槽，所述风扇表面外侧等距安装有若干个出风口。

优选的，所述卡扣板与底座固定连接，所述出风口固定在风扇外侧扇叶上方，所述出风口外侧安装有铁丝网。

优选的，所述进口板固定在出口板右侧，且进口板和出口板内部对应限位台中空。

优选的，所述端块与液压伸缩杆固定连接，且端块顶部与移动柜固定连接。

优选的，所述顶板内部安装有滑轨，所述移动柜与滑轨固定连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.利用底座、垫脚、集尘板、主板、卡扣板、风扇、封闭板、集尘槽和出风口，将晶圆倒放进行处理，杂质掉落到石英罩，风扇增加吸力，且杂质容易收集，设备更换方便，优化了空间结构，便于维修，清洁，同时更好的解决了晶圆二次污染的问题。

2.利用支撑柱、顶板、进口板、出口板、移动柜、端块和液压伸缩杆，可以控制晶圆移动，更好的进行预处理，且设备自动化程度高，自动进行处理，防护性强，不易对操作人员造成损害。

3.利用限位台、基板、支架和晶圆，晶圆倒置存放的同时，不易掉落，同时保证了预处理过程中，杂质的排出，杂质不会掉落到晶圆上，晶圆质量高，处理效果好。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型集尘板的结构示意图；

图3为本实用新型限位台的结构示意图。

图中：底座1、垫脚2、处理腔3、支撑柱4、顶板5、限位台6、集尘板7、射频线圈8、进口板9、出口板10、移动柜11、端块12、液压伸缩杆13、石英罩14、基板61、支架62、晶圆63、主板71、卡扣板72、风扇73、封闭板74、集尘槽75、出风口76。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种预处理装置及物理气相沉积设备，包括底座1和顶板5，底座1内部通过卡扣固定安装有集尘板7，底座1底部左右两侧分别焊接有垫脚2，垫脚2为L形，底座1上端安装有处理腔3，处理腔3内表面排列安装有射频线圈8，处理腔3内部镶嵌安装有石英罩14，石英罩14为半球状，且底部凹处与集尘板7相对应，处理腔3上端左右两侧分别焊接两根支撑柱4，两侧支撑柱4之间分别镶嵌安装有进口板9和出口板10，支撑柱4顶部焊接固定在顶板5下表面，顶板5上端安装有移动柜11，顶板5下端对应移动柜11安装有端块12，端块12底部焊接有液压伸缩杆13，液压伸缩杆13底部安装有限位台6。

进一步地，限位台6包括基板61、支架62和晶圆63，基板61底部左右两侧分别焊接有支架62，支架62之间固定安装有晶圆63，晶圆63倒置存放的同时，不易掉落，同时保证了预处理过程中，杂质的排出。

进一步地，集尘板7包括主板71、卡扣板72、风扇73、封闭板74、集尘槽75和出风口76，主板71左右两侧分别焊接有卡扣板72，主板71内部镶嵌有风扇73，风扇73中心处安装有封闭板74，封闭板74内部镶嵌安装有集尘槽75，风扇73表面外侧等距安装有若干个出风口76，杂质掉落到石英罩，风扇增加吸力，且杂质容易收集，设备更换方便，优化了空间结构，便于维修，清洁。

进一步地，卡扣板72与底座1固定连接，出风口76固定在风扇73外侧扇叶上方，出风口76外侧安装有铁丝网，更好的解决了晶圆63二次污染的问题。

进一步地，进口板9固定在出口板10右侧，且进口板9和出口板10内部对应限位台6中空，设备自动化程度高，自动进行处理和晶圆63进出。

进一步地，端块12与液压伸缩杆13固定连接，且端块12顶部与移动柜11固定连接，可以控制晶圆63上下移动，更好的进行预处理。

进一步地，顶板5内部安装有滑轨，移动柜11与滑轨固定连接，使晶圆63在设备内部移动。

工作原理：实际操作时，操作人员将晶圆63放在限位台6的支架62内，打开设备，移动柜11在顶板5上移动，同时控制端块12，晶圆63通过进口板9进入设备，运行到石英罩14上方，液压伸缩杆13将限位台6下降，自动进行预处理，射频线圈8运行，对晶圆63进行预处理，晶圆63的正面朝向处理腔3的底部，去除的晶圆63表面的氧化物等杂质直接掉落在处理腔3内的石英罩14上，避免对晶圆63表面造成二次污染，从而可以提高对晶圆63表面进行预处理的效果，集尘板7内部的风扇73运作，负压风力通过出风口76对上方进行减压，杂质掉落在集尘槽75内，处理结束后，可以直接将集尘板7从底座1取下，进行清理，晶圆63处理完成后，自动进行移动，从出口板10排出，防护性好，且不会发生污染，晶圆63更好的进行后续的物理气相沉淀形成的薄膜质量。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种预处理装置及物理气相沉积设备，包括底座(1)和顶板(5)，其特征在于：所述底座(1)内部通过卡扣固定安装有集尘板(7)，所述底座(1)底部左右两侧分别焊接有垫脚(2)，所述垫脚(2)为L形，所述底座(1)上端安装有处理腔(3)，所述处理腔(3)内表面排列安装有射频线圈(8)，所述处理腔(3)内部镶嵌安装有石英罩(14)，所述石英罩(14)为半球状，且底部凹处与集尘板(7)相对应，所述处理腔(3)上端左右两侧分别焊接两根支撑柱(4)，两侧所述支撑柱(4)之间分别镶嵌安装有进口板(9)和出口板(10)，所述支撑柱(4)顶部焊接固定在顶板(5)下表面，所述顶板(5)上端安装有移动柜(11)，所述顶板(5)下端对应移动柜(11)安装有端块(12)，所述端块(12)底部焊接有液压伸缩杆(13)，所述液压伸缩杆(13)底部安装有限位台(6)。

2.根据权利要求1所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述限位台(6)包括基板(61)、支架(62)和晶圆(63)，所述基板(61)底部左右两侧分别焊接有支架(62)，所述支架(62)之间固定安装有晶圆(63)。

3.根据权利要求1所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述集尘板(7)包括主板(71)、卡扣板(72)、风扇(73)、封闭板(74)、集尘槽(75)和出风口(76)，所述主板(71)左右两侧分别焊接有卡扣板(72)，所述主板(71)内部镶嵌有风扇(73)，所述风扇(73)中心处安装有封闭板(74)，所述封闭板(74)内部镶嵌安装有集尘槽(75)，所述风扇(73)表面外侧等距安装有若干个出风口(76)。

4.根据权利要求3所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述卡扣板(72)与底座(1)固定连接，所述出风口(76)固定在风扇(73)外侧扇叶上方，所述出风口(76)外侧安装有铁丝网。

5.根据权利要求1所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述进口板(9)固定在出口板(10)右侧，且进口板(9)和出口板(10)内部对应限位台(6)中空。

6.根据权利要求1所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述端块(12)与液压伸缩杆(13)固定连接，且端块(12)顶部与移动柜(11)固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种预处理装置及物理气相沉积设备，其特征在于：所述顶板(5)内部安装有滑轨，所述移动柜(11)与滑轨固定连接。