CN208433383U - 具有自清洗功能的排气切换装置 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 41
- 239000003599 detergent Substances 0.000 claims abstract description 27
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 24
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000003447 ipsilateral effect Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 12
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 4
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 claims 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 abstract description 8
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 abstract description 8
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract description 8
- 239000003344 environmental pollutant Substances 0.000 abstract description 3
- 231100000719 pollutant Toxicity 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 17
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000001039 wet etching Methods 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 238000005842 biochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 231100001010 corrosive Toxicity 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N potassium nitrate Chemical compound [K+].[O-][N+]([O-])=O FGIUAXJPYTZDNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012797 qualification Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000002912 waste gas Substances 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
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- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
本实用新型提供一种具有自清洗功能的排气切换装置，包括排气切换箱、清洗管路、排气挡板及驱动器，所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口，所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧，所述排水口位于所述排气切换箱的底部；所述清洗管路一端连接至一清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部；所述排气挡板位于所述排气切换箱的内部，且位于所述排气口所在的同一侧；所述驱动器位于所述排气切换箱的外部，所述驱动器与所述排气挡板相连接，以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置结构简单，使用方便，能有效去除盐结晶及其他污染物。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种半导体制造设备，特别是涉及一种具有自清洗功能的排气切换装置。
背景技术
半导体芯片制造过程涉及成百上千道工艺，这些工艺过程中用到多种强腐蚀性溶液和气体，尤其是在湿刻工艺中，不仅大量使用多种酸性溶液，比如氢氟酸、盐酸、磷酸和硝酸等，还大量使用多种碱性溶液，比如氢氧化钠、氢氧化钾及氨水等。在同一芯片的制造过程中，根据工艺制程的不同，需使用不同的酸性或碱性药液，根据制程过程中所使用的药液不同，机台的废气排放端需要同步切换到酸性排气或碱性排气。现有的机台，比如湿刻设备的每个反应腔都连接有一个酸碱排气切换的装置，通过控制它来实现酸碱排气切换。具体的，在酸碱切换装置内部设有一块挡板，通过该挡板的转动遮挡相应的排气口以实现酸碱排气的切换。但是在酸碱排气切换过程中，不可避免地会有酸性气体和碱性气体在排气切换装置内相遇并发生化学反应形成盐结晶，比如氯化氢气体和氨气相遇后反应生成氯化铵，这些盐结晶沉积在排气切换装置的内部，造成挡板转动时摩擦力增大，一旦挡板转不到既定位置，设备会产生报警，工艺生产将立即停止。这种意外的停机不仅容易导致当期的晶圆报废，还极易引发上下工艺段的连锁反应，造成严重的经济损失。
实用新型内容
鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种具有自清洗功能的排气切换装置，用于解决现有技术中因沉积在切换装置内部的盐结晶导致挡板不能转到既定的位置而导致的设备停机等问题。
为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种具有自清洗功能的排气切换装置，包括排气切换箱、清洗管路、排气挡板及驱动器，所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口，所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧，所述排水口位于所述排气切换箱的底部；所述清洗管路一端连接至一清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部；所述排气挡板位于所述排气切换箱的内部，且位于所述排气口所在的同一侧；所述驱动器位于所述排气切换箱的外部，所述驱动器与所述排气挡板相连接，以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。
优选地，所述清洗管路包括竖向管路、横向管路和多个喷嘴，所述竖向管路一端连接至所述清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部且与所述横向管路相连接，所述横向管路沿所述排气口所在的侧壁的横向分布，多个所述喷嘴位于所述横向管路上且所述喷嘴的开口朝向所述排气口所在的侧壁。
优选地，所述清洗管路还包括辅助连接管路，所述辅助连接管路连接于所述竖向管路和所述横向管路之间。
优选地，所述喷嘴包括锥形喷嘴、矩形喷嘴、扇形喷嘴或柱形喷嘴。
优选地，所述喷嘴位于所述排气口的上方。
优选地，所述驱动器包括气缸。
优选地，所述进气口和所述排气口位于所述排气切换箱的相对两侧的侧壁上，所述进水口位于所述排气切换箱的顶部。
优选地，所述排气切换装置还包括流量调节阀，所述流量调节阀位于所述清洗管路上且位于所述排气切换箱的外部。
优选地，所述排气口的数量为2个。
优选地，所述排气挡板上还设有密封圈，所述密封圈位于所述排气挡板与所述排气口相接触的表面上。
如上所述，本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置，具有以下有益效果：本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置，通过设置专门的清洗管路对排气切换装置内部定期做清洗，以去除位于所述排气切换装置内部，尤其是位于排气挡板所在的侧壁上的盐结晶等颗粒，避免因沉积的盐结晶导致挡板无法转到既定位置而引发的设备停机等问题。本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置结构简单，使用方便，能有效去除排气切换装置内部的盐结晶及其他污染物，使得排气切换装置正常工作，保障设备的稳定和连续工作，使得生产率得到极大提升。
附图说明
图1显示为本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置的结构示意图。
图2显示为本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置的驱动器和排气挡板的连接示意图。
元件标号说明
1 排气切换箱
11 进气口
12 排气口
13 进水口
14 排水口
2 清洗管路
21 竖向管路
22 横向管路
23 喷嘴
24 辅助连接管路
25 流量调节阀
3 清洗液体源
4 排气挡板
5 驱动器
6 结晶颗粒
具体实施方式
以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。
请参阅图1至图2。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容所能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质技术内容的变更下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
如图1及图2所示，本实用新型提供一种具有自清洗功能的排气切换装置，包括排气切换箱1、清洗管路2、排气挡板4及驱动器5，所述排气切换箱1上设有进气口11、多个排气口12、进水口13和排水口14，所述进气口11和多个所述排气口12位于所述排气切换箱1的不同侧，所述排水口14位于所述排气切换箱1的底部；所述清洗管路2一端连接至一清洗液体源3，另一端通过所述进水口11延伸到所述排气切换箱1的内部；所述排气挡板4位于所述排气切换箱1的内部，且位于所述排气口12所在的同一侧；所述驱动器5位于所述排气切换箱1的外部，所述驱动器5与所述排气挡板4相连接，以驱动所述排气挡板4于多个所述排气口12之间移动。所述排气挡板4通常是紧贴所述排气切换箱1的侧壁表面转动，因而所述排气切换箱1的侧壁表面需保持绝对的清洁和平滑，一旦在所述排气挡板4的转动路径上有颗粒物，就极易导致所述排气挡板4的摩擦阻力增大，甚至不能转到预定的位置，不能对所述排气口14进行密封，导致废气排放不能正常进行，就将引发设备报警，造成严重的生产事故。
所述排气口12一般至少包括酸性排气口和碱性排气口，分别用于排放酸性气体和碱性气体，所述酸性排气口和所述碱性排气口分别连接至不同的排气装置，以分别对不同属性的废气进行无害化处理。当然，所述排气口12可以不止有两个，比如还可以设有普通气体排气口，当然，当所述排气口12不止两个时，所述排气挡板4的数量也需相应增加。所述排水口14可以连接至厂务端的废水排放管路，且所述排水口14处可设置密封盖(未图示)，以在排气过程中使所述排水口14保持关闭状态，避免废气通过所述排气口14漏出。需要说明的是，虽然本实施例中所述排水口14位于所述排气切换箱1的底部，但在其他实施例中，所述排水口14也可以位于靠近所述排气切换箱1的底部的所述排气切换箱1的侧壁。
作为示例，所述排气切换箱1优选矩形箱体，以便于其他结构的安装设置，所述排气切换箱1的材质可以为不锈钢材质，但内外表面均需做防酸碱腐蚀的处理。所述排气切换箱1在排气切换过程中，不可避免地会有酸性气体和碱性气体在箱体内相遇并发生化学反应，产生结晶颗粒6沉积在所述排气切换箱1的内壁上，位于所述排气挡板4周围的所述结晶颗粒6会影响到所述排气挡板4的正常转动，一旦所述排气挡板4因受所述结晶颗粒6的影响不能转动预定的排气口的位置，会导致设备的报警，引发设备停机，严重影响工艺生产，因此必须及时把所述结晶颗粒6去除。
作为示例，所述清洗管路2包括竖向管路21、横向管路22和多个喷嘴23，所述竖向管路21一端连接至所述清洗液体源3，另一端通过所述进水口13延伸到所述排气切换箱1的内部且与所述横向管路22相连接，所述横向管路22沿所述排气口12所在的侧壁的横向分布，且所述横向管路22的长度至少要大于多个所述排气口12之间的最大距离，多个所述喷嘴23位于所述横向管路22上，且所述喷嘴23的开口朝向所述排气口12所在的侧壁，所述喷嘴23优选位于所述排气口12的上方，以保证所述喷嘴23喷射出的清洗液体能尽量喷射到所述排气口12所在的整个侧壁上。所述喷嘴23包括但不限于锥形喷嘴、矩形喷嘴、扇形喷嘴或柱形喷嘴，优选锥形喷嘴，以使所述喷嘴23的喷射范围尽量大。当然，需要特别说明的是，此处对所述清洗管路2的描述是基于所述清洗管路2位于所述排气切换箱1内的部分所做的描述，实际上位于所述排气切换箱1外部的液体连接管路的长度及方向可以根据所述清洗液体源3与所述排气切换箱1的距离不同而灵活设置。所述清洗液体源3优选去离子水源，因为所述结晶颗粒6基本都易溶于水，因而利用去离子水即可轻松去除所述结晶颗粒6，当然，在必要的情况下，所述清洗液体源3也可以是弱酸性液体，甚至可以设置包含去离子水和弱酸液体的多个所述清洗液体源3，以在需要时对所述排气切换箱1进行多重清洗。由于所述清洗管路2位于所述排气切换箱1内，故所述清洗管路2需选用防酸碱腐蚀的材质，如PVC，PP材质等，当然，在特殊的位置，比如所述喷嘴23可选择陶瓷材质。所述清洗管路2的设置需考虑使所述喷嘴23尽量靠近所述排气口12所在的侧壁，因而所述清洗管路2还可以设置辅助连接管路24，所述辅助连接管路24连接于所述竖向管路21和所述横向管路22之间，通过调节所述辅助连接管路24的长度可以调节所述喷嘴23和所述排气口12所在的侧壁的距离。且进一步地，可以在所述排气切换箱1外部设置一升降器(未图示)，将所述升降器与所述清洗管路2相连接以驱动所述清洗管路2在垂直方向上移动，此时还可以在所述横向管路22上设置一排毛刷，通过所述升降器的上下移动，带动所述清洗管路2，尤其是所述横向管路22在垂直方向的上下移动，以对所述排气口12所在的侧壁表面进行彻底清洗。
作为示例，所述驱动器5优选气缸，当然，所述驱动器5也可以是其他类型的驱动马达。
作为示例，所述进气口11和所述排气口12位于所述排气切换箱1的相对两侧的侧壁上，所述进水口13位于所述排气切换箱1的顶部，当然，所述进水口13也可以位于侧壁上，但需要注意的是在所述进水口13处需做好密封，比如在所述清洗管路2和所述进水口13的连接处设置一密封圈。
作为示例，所述排气切换装置还包括流量调节阀25，所述流量调节阀25位于所述清洗管路2上且位于所述排气切换箱1的外部，所述流量调节阀25用于调节清洗液体的流量，同时也可以控制清洗液体的供应与中断，所述流量调节阀25可以与设备的控制端电脑相连接，以基于所述设备的整体的生产工艺进行清洗液体的定时供应，比如，设置为与所述设备的反应腔的自动清洗周期完全一致，这样对所述排气切换装置的清洗不需额外的时间，最大程度保证设备的生产率。
作为示例，所述排气挡板4上还设有密封圈(未图示)，所述密封圈位于所述排气挡板4与所述排气口12相接触的表面上，以保证当所述排气挡板4转动至预定的所述排气口12所在的位置时，能完全实现对对应的所述排气口12的密封，避免酸性废气和碱性废气的接触，所述密封圈的尺寸至少大于所述排气口12的尺寸。为避免对所述排气挡板4的转动造成影响，可以在所述排气挡板4上设置凹槽，将所述密封圈设置于所述凹槽内。
对所述排气切换箱1内，尤其是对所述排气挡板4所在的侧壁表面进行清洗以去除位于表面的所述结晶颗粒6后，为避免清洗后水分残留在所述排气切换箱1内，所述排气切换箱1上还可以设置干燥气体进气口(未图示)，将一干燥气体通过所述干燥气体进气口通入到所述排气切换箱1内以对所述排气切换箱1内进行干燥，去除残留水分。在进行干燥时，保证所述排气口12和所述排水口14中的至少一个保持打开状态即可。
本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置可连接至其他任何需要酸碱排气的设备，比如刻蚀设备，化学气相沉积设备等。本实用新型结构简单，使用方便。
综上所述，本实用新型提供一种具有自清洗功能的排气切换装置，包括排气切换箱、清洗管路、排气挡板及驱动器，所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口，所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧，所述排水口位于所述排气切换箱的底部；所述清洗管路一端连接至一清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部；所述排气挡板位于所述排气切换箱的内部，且位于所述排气口所在的同一侧；所述驱动器位于所述排气切换箱的外部，所述驱动器与所述排气挡板相连接，以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。本实用新型的具有自清洗功能的排气切换装置结构简单，使用方便，且能有效去除排气切换装置内部的盐结晶及其他污染物，使得排气切换装置正常工作，保障设备的稳定和连续工作，使得生产率得到极大提升。所以，本实用新型有效克服了现有技术中的种种缺点而具高度产业利用价值。
上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。
Claims (10)
1.一种具有自清洗功能的排气切换装置，其特征在于，包括：
排气切换箱，所述排气切换箱上设有进气口、多个排气口、进水口和排水口，所述进气口和多个所述排气口位于所述排气切换箱的不同侧，所述排水口位于所述排气切换箱的底部；清洗管路，所述清洗管路一端连接至一清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部；
排气挡板，位于所述排气切换箱的内部，且位于所述排气口所在的同一侧；
驱动器，位于所述排气切换箱的外部，所述驱动器与所述排气挡板相连接，以驱动所述排气挡板于多个所述排气口之间移动。
2.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述清洗管路包括径向管路、横向管路和多个喷嘴，所述径向管路一端连接至所述清洗液体源，另一端通过所述进水口延伸到所述排气切换箱的内部且与所述横向管路相连接，所述横向管路沿所述排气口所在的侧壁的横向分布，多个所述喷嘴位于所述横向管路上且所述喷嘴的开口朝向所述排气口所在的侧壁。
3.根据权利要求2所述的排气切换装置，其特征在于：所述清洗管路还包括辅助连接管路，所述辅助连接管路连接于所述径向管路和所述横向管路之间。
4.根据权利要求2所述的排气切换装置，其特征在于：所述喷嘴包括锥形喷嘴、矩形喷嘴、扇形喷嘴或柱形喷嘴。
5.根据权利要求2至4任一项所述的排气切换装置，其特征在于：所述喷嘴位于所述排气口的上方。
6.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述驱动器包括气缸。
7.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述进气口和所述排气口位于所述排气切换箱的相对两侧的侧壁上，所述进水口位于所述排气切换箱的顶部。
8.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述排气切换装置还包括流量调节阀，所述流量调节阀位于所述清洗管路上且位于所述排气切换箱的外部。
9.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述排气口的数量为2个。
10.根据权利要求1所述的排气切换装置，其特征在于：所述排气挡板上还设有密封圈，所述密封圈位于所述排气挡板与所述排气口相接触的表面上。
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821246946.6U CN208433383U (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 具有自清洗功能的排气切换装置 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201821246946.6U CN208433383U (zh) | 2018-08-03 | 2018-08-03 | 具有自清洗功能的排气切换装置 |
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|---|---|
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| CN (1) | CN208433383U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112543673A (zh) * | 2019-06-27 | 2021-03-23 | 北京康肯环保设备有限公司 | 废气除害单元 |
-
2018
- 2018-08-03 CN CN201821246946.6U patent/CN208433383U/zh not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN112543673A (zh) * | 2019-06-27 | 2021-03-23 | 北京康肯环保设备有限公司 | 废气除害单元 |
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20190125 |
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