CN208414539U - 一种真空镀膜用加工装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种真空镀膜用加工装置，包括主转轴、主转盘、次转盘和托盘，主转轴下端固定连接主转盘，主转盘下端固定连接次转盘，次转盘中间设有伸缩杆，次转盘下端外围设有夹持件，伸缩杆下端固定连接另一个次转盘，该次转盘上端设有夹持件，下端固定连接托盘，在上下端的夹持件之间固定夹持基片，该转盘下端设有次转轴，次转轴下端穿过托盘，末端固定连接从动轮，托盘上端面中间固定连接一个电机，电机下端传动输出端穿过托盘，末端固定连接主动轮，主动轮和从动轮之间通过皮带传动连接，本实用新型可以稳定的夹持住基片，增加基片在镀膜过程中的稳定性，防止基片下端与真空室壁产生摩擦，造成不良品。

Description

一种真空镀膜用加工装置

技术领域

本实用新型涉及到真空镀膜装置技术领域，具体为一种真空镀膜用加工装置。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

现有的真空镀膜装置有立式、卧式等多种形式，其中立式真空镀膜装置，在镀膜过程中，基片不会产生变形，镀膜效果更好，但是现有的立式真空镀膜装置夹持基片不够稳定，镀膜时需要带动基片转动，基片本身不能转动，使镀膜效果有所降低，且在转动的过程中，基片下端没有固定装置，导致基片下端可能会与真空室壁产生摩擦，损伤镀上的膜，造成不良品，且现有真空镀膜装置只能适应统一长度基片的镀膜，不能更改基片长度，对镀膜工作造成不便，为此，本实用新型提出一种真空镀膜用加工装置用于解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜用加工装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜用加工装置，包括主转轴、主转盘、次转盘和托盘，所述主转轴下端固定连接主转盘，所述主转盘下端固定连接两组次转盘，每组所述次转盘都设有两个，一个固定连接在主转盘下端，另一个固定连接在托盘上端，所述次转盘中间设有伸缩杆，所述次转盘下端外围设有夹持件，所述伸缩杆下端固定连接另一个次转盘，下端的次转盘上设有夹持件，在夹持件之间固定夹持基片，固定在托盘上的转盘下端设有次转轴，所述次转轴下端穿过托盘，所述次转轴末端固定连接从动轮，所述托盘上端面中间固定连接一个电机，所述电机下端传动输出端穿过托盘，传动输出端末端固定连接主动轮，所述主动轮和从动轮之间通过皮带传动连接。

优选的，所述次转盘共有两组，次转盘上端设有次转轴，所述次转轴固定连接在主转盘内。

优选的，所述伸缩杆由上套杆和下套杆两部分组成，上套杆的下端设有收缩缝，上套杆下端的内壁上设有限位块，下套杆固定连接在上套杆内，下套杆上端外壁上设有限位槽，所述限位槽与限位块滑动连接，在上套杆和下套杆连接处外侧螺纹连接一个紧固旋钮。

优选的，所述紧固旋钮接口处直径大于或等于上套杆直径，紧固旋钮内壁为倾斜状，所述紧固旋钮末端开口直径小于上套杆直径且大于或等于下套杆直径。

优选的，所述主动轮共有两组，两组主动轮通过皮带各连接一个从动轮。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.本实用新型可以稳定的夹持住基片，增加基片在镀膜过程中的稳定性，固定住基片的下端，防止基片下端与真空室壁产生摩擦，造成不良品，在镀膜过程中使基片本身可以实现自转，增加镀膜效率，同时本实用新型可以适应不同长度基片的夹持，增加便利性；

2.本实用新型设有次转盘，次转盘通过电机带动转动，通过次转盘可实现基片的自转，使基片镀膜更加均匀，镀膜效率更高；

3.本实用新型设有托盘，通过托盘可以将基片底端固定，防止转动镀膜时基片随旋转离心与真空室壁产生摩擦，损伤镀膜层，造成不良品；

4.本实用新型设有伸缩杆，伸缩杆一方面起到连接主转盘和托盘的作用，另一方面通过伸缩杆的伸缩可适应不同长度基片的夹持，提高工作便利性。

附图说明

图1为本实用新型主视图；

图2为图1的俯视图；

图3为图1中A处结构放大示意图；

图4为图3的结构示意图。

图中：1主转轴、2主转盘、3次转盘、4夹持件、5基片、6伸缩杆、7托盘、8电机、9主动轮、10皮带、11从动轮、12次转轴、13紧固旋钮、14限位槽、15收缩缝、16限位块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种真空镀膜用加工装置，包括主转轴1、主转盘2、次转盘3和托盘7，主转轴1下端固定连接主转盘2，主转盘2下端固定连接两组次转盘3，每组次转盘3都设有两个，一个固定连接在主转盘2下端，另一个固定连接在托盘7上端，次转盘3中间设有伸缩杆6，次转盘3下端外围设有夹持件4，伸缩杆6下端固定连接另一个次转盘3，下端的次转盘3上设有夹持件4，在夹持件4之间固定夹持基片5，固定在托盘7上的转盘3下端设有次转轴12，次转轴12下端穿过托盘7，次转轴12末端固定连接从动轮11，托盘7上端面中间固定连接一个电机8，电机8下端传动输出端穿过托盘7，传动输出端末端固定连接主动轮9，主动轮9和从动轮11之间通过皮带10传动连接。

进一步的，次转盘3共有两组，次转盘3上端设有次转轴12，次转轴12固定连接在主转盘2内，次转盘3和次转轴12可以使基片5进行转动，增加与基材的接触，使镀膜效果更好。

进一步的，伸缩杆6由上套杆和下套杆两部分组成，上套杆的下端设有收缩缝15，上套杆下端的内壁上设有限位块16，下套杆固定连接在上套杆内，下套杆上端外壁上设有限位槽14，限位槽14与限位块16滑动连接，在上套杆和下套杆连接处外侧螺纹连接一个紧固旋钮13，伸缩杆6的伸缩可以适应不同长度基片5的夹持，并通过紧固旋钮13固定伸缩杆6，且限位块16和限位槽14配合卡接，可防止转动时伸缩杆6滑动旋转，无法使次转盘12转动的情况。

进一步的，紧固旋钮13接口处直径大于或等于上套杆直径，紧固旋钮13内壁为倾斜状，紧固旋钮13末端开口直径小于上套杆直径且大于或等于下套杆直径，紧固旋钮13套在上套杆和下套杆的连接处，并通过螺纹紧固，可将伸缩杆6长度固定，增加稳定性。

进一步的，主动轮9共有两组，两组主动轮9通过皮带10各连接一个从动轮11，主动轮9通过皮带10带动从动轮11，使次转轴12旋转，带动次转盘3旋转，再带动基片5旋转，使基片5与基材产生更多接触，使镀膜效率增加。

工作原理：工作时，首先调整伸缩杆6，使长度合适夹持基片5，将基片5上下端夹持在上下端的夹持件4中，启动真空镀膜装置，使主转轴1旋转，主转轴1带动主转盘2，主转盘2带动次转盘3旋转，使基片5绕主转轴1公转，托盘7固定基片5的下端，防止基片5离心与真空室壁产生摩擦，同时托盘7上设有电机8，电机8下端传动输出点上固定连接主动轮9，主动轮9通过皮带10带动从动轮11，从动轮11带动次转轴12，次转轴12带动次转盘3旋转，使基片5进一步旋转，使基片5与基材产生更多接触，使镀膜效率增加。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种真空镀膜用加工装置，包括主转轴(1)、主转盘(2)、次转盘(3)和托盘(7)，其特征在于：所述主转轴(1)下端固定连接主转盘(2)，所述主转盘(2)下端固定连接两组次转盘(3)，每组所述次转盘(3)都设有两个，一个固定连接在主转盘(2)下端，另一个固定连接在托盘(7)上端，所述次转盘(3)中间设有伸缩杆(6)，所述次转盘(3)下端外围设有夹持件(4)，所述伸缩杆(6)下端固定连接另一个次转盘(3)，下端的次转盘(3)上设有夹持件(4)，在夹持件(4)之间固定夹持基片(5)，固定在托盘(7)上的转盘(3)下端设有次转轴(12)，所述次转轴(12)下端穿过托盘(7)，所述次转轴(12)末端固定连接从动轮(11)，所述托盘(7)上端面中间固定连接一个电机(8)，所述电机(8)下端传动输出端穿过托盘(7)，传动输出端末端固定连接主动轮(9)，所述主动轮(9)和从动轮(11)之间通过皮带(10)传动连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用加工装置，其特征在于：所述次转盘(3)共有两组，次转盘(3)上端设有次转轴(12)，所述次转轴(12)固定连接在主转盘(2)内。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用加工装置，其特征在于：所述伸缩杆(6)由上套杆和下套杆两部分组成，上套杆的下端设有收缩缝(15)，上套杆下端的内壁上设有限位块(16)，下套杆固定连接在上套杆内，下套杆上端外壁上设有限位槽(14)，所述限位槽(14)与限位块(16)滑动连接，在上套杆和下套杆连接处外侧螺纹连接一个紧固旋钮(13)。

4.根据权利要求3所述的一种真空镀膜用加工装置，其特征在于：所述紧固旋钮(13)接口处直径大于或等于上套杆直径，紧固旋钮(13)内壁为倾斜状，所述紧固旋钮(13)末端开口直径小于上套杆直径且大于或等于下套杆直径。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用加工装置，其特征在于：所述主动轮(9)共有两组，两组主动轮(9)通过皮带(10)各连接一个从动轮(11)。