CN208281140U - 真空发生器的真空破坏结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种真空发生器的真空破坏结构,其本体内部设有输入埠、真空埠、排出埠、以及一真空发生器,通过该真空发生器将从该输入埠供给的气压流体转为负压,使该真空埠得以进行吸着机构的动作,而一真空破坏电磁阀配合设置于该本体内,并连通至该真空埠的一导流通道,能使该输入埠输入的气压流体部分通过该真空破坏电磁阀,另一真空破坏二口二位阀,则同样设于该导流通道内,用以提升通过的气压流体的流量,以让真空埠切换真空破坏状态的反应更为灵敏。
Description
技术领域
本实用新型关于一种真空发生器的真空破坏结构,该本体内部设置有一真空破坏电磁阀,当本体内部呈真空发生或真空保持状态下,将一真空破坏二口二位阀设置与该真空破坏电磁阀相连通至真空埠的一导流通道内,以提升气压流体通过的流量,使切换至真空破坏状态的反应速度更为灵敏的目的。
背景技术
现有技术的真空发生器90,请参阅如图5所示,其中可见一真空发生器90,其内部包含有一输入埠91、一真空埠92、一排出埠93,且各埠通过通路相连通,该通路中还设置有一真空发生电磁阀95与一真空破坏电磁阀96,而该输入埠91主要用于供一气压源94输入用,而排出埠93则是供气压源94输出用,该真空埠92则是连接吸着机构所用。
当该气压源94通过流体路径941,通过该真空发生电磁阀95进行运作时,得以将原本正压转为负压,使该真空埠92产生真空吸力,以达到前述吸着机构的用途,此处气压源转换的详细过程,于本实用新型领域为常见技术,故不加以赘述。
然而,再请参阅如图6所示,其为图5中的真空破坏电磁阀96的局部放大示意图,该真空破坏电磁阀96通常会具有供前述气压源94输入用的一输入口962、以及一输出口963,当真空发生器90呈真空发生状态需进行真空解除时,一般会通过该真空破坏电磁阀96将输入口962所流入的气压源94,经由阀出气口961推动后,让该气压源94得以通过输出口963排出,借助解除真空状态。
其中,该真空破坏电磁阀96破坏真空发生状态的流量,通常会局限于该阀出气口961的面积,而当真空发生器90的容量越大时,则真空破坏电磁阀96与其它相关构件的体积将会增加许多,故凭借前述结构于实际应用与研究后知悉,其有必须改善的缺点。
实用新型内容
本实用新型为一种真空发生器的真空破坏结构,其主要技术性目的,是将一真空破坏二口二位阀设于该导流通道内,通过该真空破坏电磁阀输出的流量再一次驱动,使其破坏真空的流量得以不受限于原有的真空破坏电磁阀,让其破坏真空发生状态的反应更为灵敏。
其次要技术性目的,在于将一逆止阀设置于该真空埠与排出埠两者之间,让该真空埠于吸着机构时,能配合该真空发生电磁阀停止运作,让能充满负压的真空埠形成真空保持状态。
本实用新型真空发生器的真空破坏结构,其由具备输入埠、真空埠、排出埠、以及一真空发生电磁阀的一本体,加以配合一真空破坏电磁阀所组成,而其中该真空破坏电磁阀配合设置于该本体内通连至该真空埠的一导流通道,能使该输入埠输入的气压流体的部分通过该真空破坏电磁阀,而另有一真空破坏二口二位阀设于该导流通道内,以提升通过的气压流体的流量,使该真空埠切换真空破坏状态的反应更为灵敏的目的。
附图说明
图1是为本实用新型于准备状态的结构示意图。
图2是为本实用新型于真空发生状态的结构示意图。
图3是为本实用新型于真空保持状态的结构示意图。
图4是为本实用新型于真空破坏状态的结构示意图。
图5是为现有技术的结构示意图。
图6是为图5的局部结构放大示意图。
元件标号说明:
10...本体
101...输入埠
102...真空埠
1021...真空过滤器
103...排出埠
104...逆止阀
11...真空发生电磁阀
12...导流通道
20...真空破坏电磁阀
21...真空破坏二口二位阀
22...破坏调整钮
P...气压流体
PA...正压
PB...负压
90...真空发生器
91...输入埠
92...真空埠
93...排出埠
94...气压源
941...流体路径
95...真空发生电磁阀
96...真空破坏电磁阀
961...阀出气口
962...输入口
963...输出口
具体实施方式
通常根据本实用新型,该最佳的可行的实施例,并配合图1~4详细说明后,以增加对本实用新型的了解。
本实用新型为一种真空发生器的真空破坏结构,其结构包含有:一本体10,其内部具有供一气压流体P连接的一输入埠101、连接至吸着机构的一真空埠102、用于将该输入埠101所供给的气压流体P排出至外部的一排出埠103、以及用于在从该输入埠101所供给压力流体P的作用下产生负压PB的一真空发生电磁阀11,其前述吸着机构例如:吸着垫suctionpad等,通过维持吸着状态下运送,并通过破坏真空状态来取消吸着状态,使附有吸着机构的工件被释放在预定的位置上。
一真空破坏电磁阀20,配合设于该本体10内并连通至该真空埠102的一导流通道12,能使该输入埠101输入的气压流体P部分通过该真空破坏电磁阀20,而该导流通道12内更设有一真空破坏二口二位阀21,主要设于该真空破坏电磁阀20的后端,当气压流体P通过该真空破坏电磁阀20后,再次进入至该真空破坏二口二位阀21后,能借助提升通过的气压流体P的流量,进而使该真空埠102于切换真空破坏状态的反应更为灵敏。
而由图1所示,可见本体10内部的输入埠101、真空埠102、排出埠103之间设有许多通道及构件,以相互连接让气压流体P得以从正压PA转为负压PB,进一步达到吸着机构的目的。
再请参阅如图2所示,当气压流体P由输入埠101输入后,会先经由内部通道,分别传送至该真空发生电磁阀11及真空破坏电磁阀20内,且两者电磁阀都各具备有一输入口及输出口,而通过该真空发生电磁阀11的气压流体P随通道流至该排出埠103,其过程中都为正压PA,且于通过该排出埠103前会转换为负压PB,使该真空埠102产生真空吸力;其前述气压流体P流通至该真空破坏电磁阀20的输入口,就不再流通,借此让真空埠102能产生吸着机构的功能。
再请参阅如图3所示,当完成真空发生状态时,则将真空发生电磁阀11的输入口关闭,此时的气压流体P将不能在该本体10内继续流通,而位于该真空埠102与该排出埠103之间另外还设有一逆止阀104,当排出埠103内没有正压PA通过排出时,该逆止阀104将会关闭,借此得以让该真空埠102维持着吸着机构的情况,也就是真空保持状态。
然而,再请参阅如图4所示,当前述真空保持状态时,若要进行解除时,则该真空破坏电磁阀20将会开启输入口,让该气压流体P经内部流通至输出口排出,而前述导流通道12的定义是于该真空破坏电磁阀20从输出口至真空埠102的此段通道,后续则延该导流通道12至该真空埠102排出正压PA,借此破坏真空状态,而达到解除吸着机构的目的。
其前述导流通道12内,更设有一破坏调整钮22,其主要设于该导流通道12至真空埠102的中间,具体而言是位于该真空破坏二口二位阀21的后段,主要能用以控制通过该真空破坏二口二位阀21流通的气压流体P的流量大小;而前述真空埠102内更设有一真空过滤器1021,主要能供该真空埠102流入的流体所含粉尘移除。
综上所述,本实用新型真空发生器的真空破坏结构,主要通过该真空破坏电磁阀11配合导流通道12增加设置一真空破坏二口二位阀21,以使通过该真空破坏电磁阀11的气压流体P,再次通过该真空破坏二口二位阀21提升气压流体P的流量,让破坏真空状态的流量能够满足,且更进一步通过利用该真空埠102与排出埠103之间设置的逆止阀104,能使吸着机构的状态不需持续输入该气压流体P,亦能保持一定时间进行动作。
Claims (4)
1.一种真空发生器的真空破坏结构,包含有:
一本体(10),其内部具有:供一气压流体(P)连接的一输入埠(101)、连接至吸着机构的一真空埠(102)、用于将该输入埠(101)所供给的气压流体(P)排出至外部的一排出埠(103)、以及用于在从该输入埠(101)所供给压力流体(P)的作用下产生负压(PB)的一真空发生电磁阀(11);
其特征在于:一真空破坏电磁阀(20),配合设于该本体(10)内,并连通至该真空埠(102)的一导流通道(12),能使该输入埠(101)输入的气压流体(P)部分通过该真空破坏电磁阀(20),而一真空破坏二口二位阀(21),设于该导流通道(12)内,用以提升通过的气压流体(P)的流量,使该真空埠(102)切换真空破坏状态的反应更为灵敏。
2.根据权利要求1所述的真空发生器的真空破坏结构,其特征在于,更包含有:一逆止阀(104),设于该真空埠(102)与该排出埠(103)之间,使该真空埠(102)于吸着机构时,配合该真空发生电磁阀(11)停止运作,能让充满负压(PB)的该真空埠(102)形成真空保持状态。
3.根据权利要求1所述的真空发生器的真空破坏结构,其特征在于,该导流通道(12)更包含有:一破坏调整钮,设置于该导流通道(12)至真空埠(102)的中间,用以控制由该真空破坏二口二位阀(21)流通的气压流体(P)的流量大小。
4.根据权利要求1所述的真空发生器的真空破坏结构,其特征在于,该本体(10)更包含有:一真空过滤器(1021),设于该真空埠(102)内,该真空过滤器(1021)能将从该真空埠(102)流入的流体所含粉尘移除。
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CN111810710A (zh) * | 2019-04-10 | 2020-10-23 | 台湾气立股份有限公司 | 节能型真空控制阀 |
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