CN208270940U - 一种大型曝光机用可增加良率的改进结构 - Google Patents
一种大型曝光机用可增加良率的改进结构 Download PDFInfo
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Abstract
本实用新型公开了一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，包括机体、下玻璃和导气条，所述机体的上方左侧固定有真空泵，且真空泵的右侧安装有固定柱，所述固定柱的右下方设置有底板，且底板的上方安装有下框架，所述下玻璃固定于下框架的上方，所述固定柱的右侧安装有后板，且后板的上方固定有气缸，所述气缸的下端设置有活塞杆，且活塞杆的两侧固定有联动杆，所述联动杆的下方安装有上框架，且上框架的下方固定有上玻璃，所述底板的两侧设置有滑槽。该大型曝光机用可增加良率的改进结构设置有两个真空泵，真空泵可以利用真空吸嘴通过导气条将产品区域内的空气排走，使得膜材在密闭环境的曝光过程中能够避免受到外界环境的污染。
Description
技术领域
本实用新型涉及大型曝光机技术领域，具体为一种大型曝光机用可增加良率的改进结构。
背景技术
曝光机是一种通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备，其工艺流程简单，生产效率高，制造成本低，广泛应用于半导体制造，光电电子，衍射光学等领域的精细印制和精度对准。
现有的曝光机通常不具备压紧部件，容易造成膜材翘曲产生不良作业造成曝光质量下降，严重时可能造成产品报废，且产品作业区域内密封性不好容易形成间隙造成光的散射导致实际曝光图文与底片相差较大图文不符，为此，我们提出一种大型曝光机用可增加良率的改进结构。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，以解决上述背景技术中提出的现有的曝光机通常不具备压紧部件，容易造成膜材翘曲产生不良作业造成曝光质量下降，严重时可能造成产品报废，且产品作业区域内密封性不好容易形成间隙造成光的散射导致实际曝光图文与底片相差较大图文不符的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，包括机体、下玻璃和导气条，所述机体的上方左侧固定有真空泵，且真空泵的右侧安装有固定柱，所述固定柱的右下方设置有底板，且底板的上方安装有下框架，所述下玻璃固定于下框架的上方，所述固定柱的右侧安装有后板，且后板的上方固定有气缸，所述气缸的下端设置有活塞杆，且活塞杆的两侧固定有联动杆，所述联动杆的下方安装有上框架，且上框架的下方固定有上玻璃，所述底板的两侧设置有滑槽，所述下框架的内部设置有定位凹槽，且定位凹槽的内侧固定有膨胀密封圈，所述膨胀密封圈的内侧安装有下玻璃，且下玻璃的两侧固定有夹具，所述膨胀密封圈的上方固定有真空吸嘴，且真空吸嘴的右侧设置有气压传感器，所述导气条安装于气压传感器的右侧。
优选的，所述真空泵通过导气条与真空吸嘴相连接，其设置有两个，且真空泵之间关于机体的竖直中心线相对称。
优选的，所述底板与滑槽之间构成活动结构，且底板与滑槽之间的尺寸相吻合。
优选的，所述下玻璃与上玻璃之间的尺寸面积相同，且上玻璃通过活塞杆和气缸构成升降结构。
优选的，所述联动杆与活塞杆和气缸之间构成一体化结构，且联动杆与上框架之间为焊接。
优选的，所述膨胀密封圈呈方形中空状结构，且膨胀密封圈的厚度与下玻璃的厚度相等。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该大型曝光机用可增加良率的改进结构设置有两个真空泵，真空泵可以利用真空吸嘴通过导气条将产品区域内的空气排走，使得膜材在密闭环境的曝光过程中能够避免受到外界环境的污染，保证了曝光的良好质量，同时解决了光的散射使得实际曝光图文和底片图文一致，不会形成曝光不良，下玻璃和上玻璃能够对膜材进行压平，使得产品能更好地铺开进行作业，防止膜材翘曲造成的曝光图文倾斜，有利于真空吸附提高生产良率，以解决大尺寸(55寸到110寸)曝光时产品铺开不平而造成不良，气缸可以带动活塞杆和联动杆的上下运动，便于上框架和上玻璃的上下移动，联动杆与上框架之间为焊接能够使得安装更加紧固，避免上框架受重力作用脱落对机体的其他部位造成损坏，下框架的内部设置定位凹槽可以放置下玻璃，膨胀密封圈对下玻璃起到密封和固定紧密的作用，气压传感器能够检测产品区域内的气压值，避免产品区域内气压过低或者过高造成的膜材薄膜变形，底板与滑槽之间构成活动结构使得底板可以通过滑槽抽出，便于放入和取出曝光好的膜材。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型下框架俯视结构示意图；
图3为本实用新型真空吸嘴局部放大结构示意图。
图中：1、机体，2、真空泵，3、固定柱，4、底板，5、下框架，6、下玻璃，7、后板，8、活塞杆，9、气缸，10、联动杆，11、上框架，12、上玻璃，13、滑槽，14、定位凹槽，15、膨胀密封圈，16、夹具，17、真空吸嘴，18、气压传感器，19、导气条。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，包括机体1、下玻璃6和导气条19，机体1的上方左侧固定有真空泵2，且真空泵2的右侧安装有固定柱3，真空泵2通过导气条19与真空吸嘴17相连接，其设置有两个，且真空泵2之间关于机体1的竖直中心线相对称，真空泵2可以利用真空吸嘴17通过导气条19将产品区域内的空气排走，使得膜材在密闭环境中的曝光过程中能够避免受到外界环境的污染，保证了曝光的良好质量，真空泵2能够增大排气的效率，固定柱3的右下方设置有底板4，且底板4的上方安装有下框架5，下玻璃6固定于下框架5的上方，固定柱3的右侧安装有后板7，且后板7的上方固定有气缸9，气缸9的下端设置有活塞杆8，且活塞杆8的两侧固定有联动杆10，通过联动杆10与活塞杆8和气缸9之间构成一体化结构使得气缸9可以带动联动杆10与活塞杆8共同移动，联动杆10与上框架11之间为焊接能够使得安装更加紧固，避免上框架11受重力作用脱落对机体1的其他部位造成损坏，联动杆10的下方安装有上框架11，且上框架11的下方固定有上玻璃12，下玻璃6与上玻璃11之间的尺寸面积相同能够使得下玻璃6与上玻璃11紧密贴合到一起，便于曝光操作，上玻璃12通过活塞杆8和气缸9构成升降结构能够使活塞杆8和气缸9带动上框架11和上玻璃12的上下移动，从而对下玻璃6进行压紧，底板4的两侧设置有滑槽13，底板4与滑槽13之间的尺寸相吻合使得底板4与滑槽13之间构成活动结构，方便底板4的移动，使底板4可以通过滑槽13抽出，便于放入和取出曝光好的膜材，下框架5的内部设置有定位凹槽14，且定位凹槽14的内侧固定有膨胀密封圈15，膨胀密封圈15内部方形中空状结构与下玻璃6的尺寸相吻合，膨胀密封圈15的厚度与下玻璃6的厚度相等使得膨胀密封圈15对下玻璃6起到密封和固定紧密的作用，膨胀密封圈15的内侧安装有下玻璃6，且下玻璃6的两侧固定有夹具16，膨胀密封圈15的上方固定有真空吸嘴17，且真空吸嘴17的右侧设置有气压传感器18，导气条19安装于气压传感器18的右侧。
工作原理：对于这类的大型曝光机用可增加良率的改进结构，首先将真空泵2固定到机体1的上方两侧，然后将固定柱3和底板4安装到机体1的正上方，再将下玻璃6安装到下框架5内侧的定位凹槽14中，并将下玻璃6的外侧固定上膨胀密封圈15，使得下玻璃6与定位凹槽14安装紧密，上框架11与上玻璃12之间同样如此，然后将下框架5固定于底板4上，再将气缸9固定于后板7的上方，并将活塞杆8和联动杆10固定于气缸9的下端，然后将上框架11与联动杆10之间焊接起来，使用曝光机进行作业时，可以通过滑槽13抽出底板4，将需要曝光的膜材放入下玻璃6上，开启气缸9，利用活塞杆8和联动杆10带动上玻璃12下压，使得上玻璃12和下玻璃6贴合紧密，然后启动真空泵2，利用真空吸嘴17通过导气条19将产品区域内的空气排走，使得产品区域内形成真空状态，同时可以根据气压传感器18检测产品区域内的气压值，该气压传感器18的型号为MAT316，避免产品区域内气压过低或者过高造成膜材薄膜变形，然后对膜材进行曝光作业，就这样完成大型曝光机用可增加良率的改进结构的使用过程。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，包括机体(1)、下玻璃(6)和导气条(19)，其特征在于：所述机体(1)的上方左侧固定有真空泵(2)，且真空泵(2)的右侧安装有固定柱(3)，所述固定柱(3)的右下方设置有底板(4)，且底板(4)的上方安装有下框架(5)，所述下玻璃(6)固定于下框架(5)的上方，所述固定柱(3)的右侧安装有后板(7)，且后板(7)的上方固定有气缸(9)，所述气缸(9)的下端设置有活塞杆(8)，且活塞杆(8)的两侧固定有联动杆(10)，所述联动杆(10)的下方安装有上框架(11)，且上框架(11)的下方固定有上玻璃(12)，所述底板(4)的两侧设置有滑槽(13)，所述下框架(5)的内部设置有定位凹槽(14)，且定位凹槽(14)的内侧固定有膨胀密封圈(15)，所述膨胀密封圈(15)的内侧安装有下玻璃(6)，且下玻璃(6)的两侧固定有夹具(16)，所述膨胀密封圈(15)的上方固定有真空吸嘴(17)，且真空吸嘴(17)的右侧设置有气压传感器(18)，所述导气条(19)安装于气压传感器(18)的右侧。
2.根据权利要求1所述的一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，其特征在于：所述真空泵(2)通过导气条(19)与真空吸嘴(17)相连接，其设置有两个，且真空泵(2)之间关于机体(1)的竖直中心线相对称。
3.根据权利要求1所述的一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，其特征在于：所述底板(4)与滑槽(13)之间构成活动结构，且底板(4)与滑槽(13)之间的尺寸相吻合。
4.根据权利要求1所述的一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，其特征在于：所述下玻璃(6)与上玻璃(12)之间的尺寸面积相同，且上玻璃(12)通过活塞杆(8)和气缸(9)构成升降结构。
5.根据权利要求1所述的一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，其特征在于：所述联动杆(10)与活塞杆(8)和气缸(9)之间构成一体化结构，且联动杆(10)与上框架(11)之间为焊接。
6.根据权利要求1所述的一种大型曝光机用可增加良率的改进结构，其特征在于：所述膨胀密封圈(15)呈方形中空状结构，且膨胀密封圈(15)的厚度与下玻璃(6)的厚度相等。
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| CN201820694109.3U CN208270940U (zh) | 2018-05-10 | 2018-05-10 | 一种大型曝光机用可增加良率的改进结构 |
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2018
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