CN207969296U - 一种电磁波屏蔽膜 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种电磁波屏蔽膜,电磁波屏蔽膜由下往上依次包括可转移载体层、有色绝缘层、复合阻隔层、金属层、导电胶层以及保护层,可转移载体层直接覆盖于需要屏蔽电磁波的物体上,保护层位于最上层。相对于现有技术,超薄电磁波屏蔽膜的总厚度仅在7μm到10μm,有效节省了柔性线路板装配空间;复合阻隔层可以大幅度提高导电层与外界介质的阻隔性,提高了电磁屏蔽效果。
Description
技术领域
本发明属于电子元件领域,具体涉及一种电磁波屏蔽膜。
背景技术
信息、通讯产业的不断进步带动了微电子业的高速发展,挠性印制线路板(FPCB)在移动手机、笔记本电脑、液晶显示屏等诸多领域得到了更加广泛的应用。随着通讯器材朝着多功能、智能化以及高频高速等方向的发展,使得内部及外部的电磁干扰问题变得日益凸显,目前解决此问题的传统做法为在已制作好贴有覆盖膜的线路板外层再覆贴电磁波屏蔽膜,现有技术采用蒸镀的方式在覆盖膜表面直接镀一层金属或金属合金,以达到抗电磁干扰的作用,但是此结构的镀层直接裸露在外,抗污及抗氧化等效果较差。
另外,电子产品轻、薄的极致需求,使得电磁屏蔽膜本身厚度要求越来越薄,目前市售产品的厚度均在12~25μm之间,很少有同类产品低于12μm。有色绝缘层本身有耐药性、耐折耐挠曲、阻燃等诸多优点,但随着电子通讯业的发展,本身有减薄趋势,制程中避免不了针孔、条纹等缺陷,一定程度上减弱了有色绝缘层的绝缘阻隔功能。
发明内容
有鉴于此,微电子业对印刷线路板的要求日益严谨,本实用新型提供一种具有阻隔功能的超薄电磁波屏蔽膜。
本实用新型提供一种电磁波屏蔽膜,由下往上依次包括可转移载体层、有色绝缘层、复合阻隔层、金属层、导电胶层以及保护层。可转移载体层位于最下层,直接覆盖于需要屏蔽电磁波的物体上,保护层位于最上层。
优选的,电磁波屏蔽膜的总厚度为7μm到10μm之间。
优选的,复合阻隔层为至少含有二氧化硅、三氧化二铝和氧化锆其中一种无机物的复合阻隔层。
优选的,复合阻隔层的厚度为0.05μm到0.5μm,0.1μm到0.15μm为更佳。
优选的,有色绝缘层的厚度为3μm到5μm。
优选的,金属层是铝、钛、镍、铜、银、金的一种或其任意组合,或者其他金属合金。
优选的,金属层的厚度为0.05μm到0.5μm,0.1μm到0.15μm为更佳。
优选的,导电胶层的厚度为3μm到5μm。
优选的,可转移载体膜的厚度为30nm到100nm,50nm到75nm为更佳。
优选的,保护层为离型膜或离型纸。
附图说明
图1为本实用新型较佳实施例的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型,并不用于限定本实用新型。
请参阅图1,本实用新型提供一种电磁波屏蔽膜,由下往上依次包括可转移载体层1、有色绝缘层2、复合阻隔层3、金属层4、导电胶层5以及保护层6。
可转移载体层1,是指一面经过电晕、涂覆离型剂等处理,具有一定的离型功能,载膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜、聚对萘二甲酸乙二醇酯(PEN)膜、聚酰亚胺膜中的一种,厚度为30-100nm(纳米),优选厚度为50-75nm,离型力为5-500g/25cm。
有色绝缘层2,是指具有绝缘功能的涂层,所述“有色”是指除了涵盖传统黑色和白色两种颜色以外,还包括红、橙、黄、绿、青、蓝、紫等颜色或者两种以上颜色的叠加,以达到很好的色彩识别的功效,通过涂覆方式在载膜1的离型面形成一层均匀的绝缘涂层,厚度是在3μm到5μm。有色绝缘层除了有更加鲜艳丰富的色彩外,还具有良好的遮蔽性、耐弯折性及绝缘性。
复合阻隔层3,具有高阻隔性,其通过物理气相沉积方法在有色绝缘层2的表面形成一层均匀致密的阻隔层,该复合阻隔层3的介质包括二氧化硅、三氧化二铝、氧化锆等一种或多种无机组合物,具有高阻隔的特性,显著提高绝缘性,复合阻隔层3的厚度为0.05μm到0.5μm。优选地,厚度在0.1μm到0.15μm。
金属层4,具有导通电性,其通过物理气相沉积、丝印、喷涂或涂覆等一种或多种方法在复合阻隔层3的表面形成一层均匀、稳定、通电性优良的导电层4,该导电层4的导电介质包括铝、钛、镍、铜、银、金等一种或其任意组合,或者其他金属合金。金属层4的厚度为0.05μm到0.5μm。优选地,厚度在0.1μm到0.15μm。
导电胶层5,是指具有良好剥离强度、阻燃性、耐热性、优良导电性以及耐弯折性能等的环氧树脂系粘结剂、饱和聚酯系粘结剂、丙烯酸酯类粘结剂中的一种或多种组合物或其中的改性组合物,在导电层4的表面涂覆一层均匀的导电胶层5,厚度为3~5μm。
保护层6,是指为了保护粘结剂层的离型膜和离型纸中的一种。
实施例
在可转移载体层1表面涂覆绝缘黑色油墨,以15m/min的车速通过烘箱,制得黑色绝缘层2,干胶厚度4μm;在黑色绝缘层2的表面采用物理气相沉积方法中的真空磁控溅射方法,在黑色绝缘层2表面沉积一层0.1微米的均匀三氧化二铝层,该三氧化二铝层即为复合阻隔层3。
在金属层4制作的过程中,是在已制作好的表面采用物理气相沉积方法中的真空磁控溅射方法,在复合阻隔层3表面沉积一层0.1微米的均匀铜金属层,该铜金属层即为金属层4。
而导电胶层5的制作是在以上步骤完成后,在导电层4面涂覆环氧树脂粘结剂,以10m/min的车速通过烘箱,并通过压合辊贴合75微米厚、离型力为120g/25cm的离型膜6,干胶厚度为4μm。
通过以上工序,制得总厚度仅为8.2微米的超薄电磁波屏蔽膜,以适应超薄市场的需求。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用于限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所做的任何修改、等同替换、改进等,均应包括在本实用新型保护的范围之内。
Claims (10)
1.一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述电磁波屏蔽膜由下往上依次包括可转移载体层、有色绝缘层、复合阻隔层、金属层、导电胶层以及保护层,所述可转移载体层直接覆盖于需要屏蔽电磁波的物体上,所述保护层位于最上层。
2.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述电磁波屏蔽膜的总厚度为7μm到10μm之间。
3.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述复合阻隔层为至少含有二氧化硅、三氧化二铝和氧化锆其中一种无机物的复合阻隔层。
4.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述复合阻隔层的厚度为0.05μm到0.5μm。
5.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述有色绝缘层的厚度为3μm到5μm。
6.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述金属层是铝、钛、镍、铜、银、金的一种或其任意组合,或者其他金属合金。
7.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述金属层的厚度为0.05μm到0.5μm。
8.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述导电胶层的厚度为3μm到5μm。
9.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述可转移载体层的厚度为30nm到100nm。
10.如权利要求1所述的一种电磁波屏蔽膜,其特征在于:所述保护层为离型膜或离型纸。
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