CN207883716U - 一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种挤水滚轮，提供了一种结构简单，可在生产过程中有效保护硅片表面，降低EL不良比例，并节约生产成本的用于湿法刻蚀的挤水滚轮，解决了现有技术中存在的在生产过程中挤水滚轮易磨损，生产成本高，且硅片表面易污染，成品不良品较多等的技术问题，它包括传动轮组及横设于传动轮组上方的支撑轴，在所述支撑轴上套装有光面挤压套筒，且光面挤压套筒的中孔与支撑轴间设有第一间隙，在传动轮组与对应的光面挤压套筒间夹持有硅片，硅片在传动轮组的带动下朝向输出侧移动。

Description

一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮

技术领域

本实用新型涉及一种挤水滚轮，尤其涉及一种可在生产过程中有效保护硅片表面，降低EL不良比例，保证硅片品质的用于湿法刻蚀的挤水滚轮。

背景技术

在太阳能电池片的生产过程中，湿法刻蚀效果决定了太阳能电池的腐蚀效果和清洗效果，且对制程的管控造成严重影响。硅片进行湿法刻蚀时，在输送到各槽体的过程中，硅片是通过上方的挤水滚轮和下方的传动机构夹持着向前行进，其中挤水滚轮固定在传动机构上方的支撑轴上，主要作用是将上个槽体残留在硅片表面的溶液导入下一个槽体，同时去除硅片表面杂质。但过程中存在以下缺陷：挤水滚轮通过海绵套触压在硅片上，海绵套易磨损，维护更换周期短，使用成本高；海绵套极易吸附杂质，接触硅片后容易污染硅片，EL测试后不良品较多；挤水滚轮重量大，易造成堵片或者叠片等异常情况。

发明内容

本实用新型主要是提供了一种结构简单，可在生产过程中有效保护硅片表面，降低EL不良比例，并节约生产成本的用于湿法刻蚀的挤水滚轮，解决了现有技术中存在的在生产过程中挤水滚轮易磨损，生产成本高，且硅片表面易污染，成品不良品较多等的技术问题。

本实用新型的上述技术问题主要是通过下述技术方案得以解决的：一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，包括传动轮组及横设于传动轮组上方的支撑轴，在所述支撑轴上套装有光面挤压套筒，且光面挤压套筒的中孔与支撑轴间设有第一间隙，在传动轮组与对应的光面挤压套筒间夹持有硅片，硅片在传动轮组的带动下朝向输出侧移动。通过在支撑轴上套装光面挤压套筒，由于光面挤压套筒的中孔与支撑轴间带有间隙，即光面挤压套筒吊装在支撑轴上，使用过程中，光面挤压套筒即通过支撑轴定位，通过自身的重量对硅片进行挤压，因此事先根据硅片性能设定好光面挤压套筒的重量即可，同时由于采用光面挤压套筒，即与硅片接触的挤压套筒外环面为粗糙度较小的光滑表面，耐磨性好，不易吸附杂质，因此过程中有效的保护了硅片表面，降低了EL不良比例，同时维修更换率降低，节约了生产成本。

作为优选，与所述光面挤压套筒两端对应的支撑轴上设有定位套，与定位套对应的光面挤压套筒端面上设有沉孔，定位套位于沉孔内，且定位套的外环面与对应的沉孔内环面间设有第二间隙。通过在光面挤压套筒两端对应的支撑轴上设置定位套，光面挤压套筒端面上设置沉孔，即可通过定位套限定光面挤压套筒的左右位置，定位套外环面与沉孔内环面间的第二间隙，确保光面挤压套筒在垂直方向保持自由度。

作为更优选，所述第二间隙小于等于第一间隙。第二间隙小于等于第一间隙时，使光面挤压套筒的两端支撑在定位套上，减小了光面挤压套筒的滚动摩擦。

作为优选，所述光面挤压套筒外环面的粗糙度为200至400μm。光滑的光面挤压套筒外环面减少了其表面吸附杂质量。

作为优选，所述光面挤压套筒为聚偏氟乙烯材料。聚偏氟乙烯材料的光面挤压套筒耐腐蚀和耐磨等性能好，使用寿命长。

因此，本实用新型一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮具有下述优点：通过在支撑轴上套装光面挤压套筒，由于光面挤压套筒的中孔与支撑轴间带有间隙，使用过程中，光面挤压套筒即通过自身的重量对硅片进行挤压，由于光面挤压套筒粗糙度较小，不易吸附杂质，从而有效的保护了硅片表面，降低了EL不良比例，同时维修更换率降低，节约了生产成本；聚偏氟乙烯材料的光面挤压套筒耐腐蚀和耐磨等性能好，使用寿命长。

附图说明：

图1是本实用新型一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮的结构示意图。

具体实施方式：

下面通过实施例，并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步具体的说明。

实施例：

如图1所示，本实用新型的一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，包括传动轮组1及横设于传动轮组1上方的支撑轴2，在支撑轴2上首尾相接的套装着五个光面挤压套筒3，光面挤压套筒3采用聚偏氟乙烯材料制成，其外环面的粗糙度为300μm，与光面挤压套筒3两端对应的支撑轴2上套装固定着定位套6，与定位套6对应的光面挤压套筒3端面上开有沉孔7，定位套6位于沉孔7内，且光面挤压套筒3的中孔与支撑轴2间形成第一间隙4，定位套6的外环面与对应的沉孔7内环面间形成第二间隙8，第二间隙8小于第一间隙4，在传动轮组1与对应的光面挤压套筒3间夹持着硅片5，硅片5在传动轮组1的带动下朝向输出侧移动。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型的构思作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims (5)

1.一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，包括传动轮组（1）及横设于传动轮组（1）上方的支撑轴（2），其特征在于：在所述支撑轴（2）上套装有光面挤压套筒（3），且光面挤压套筒（3）的中孔与支撑轴（2）间设有第一间隙（4），在传动轮组（1）与对应的光面挤压套筒（3）间夹持有硅片（5），硅片（5）在传动轮组（1）的带动下朝向输出侧移动。

2.根据权利要求1所述的一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，其特征在于：与所述光面挤压套筒（3）两端对应的支撑轴（2）上设有定位套（6），与定位套（6）对应的光面挤压套筒（3）端面上设有沉孔（7），定位套（6）位于沉孔（7）内，且定位套（6）的外环面与对应的沉孔（7）内环面间设有第二间隙（8）。

3.根据权利要求2所述的一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，其特征在于：所述第二间隙（8）小于等于第一间隙（4）。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，其特征在于：所述光面挤压套筒（3）外环面的粗糙度为200至400μm。

5.根据权利要求1或2或3所述的一种用于湿法刻蚀的挤水滚轮，其特征在于：所述光面挤压套筒（3）为聚偏氟乙烯材料。