CN207883694U - 透光柔性基板及amoled器件 - Google Patents

Abstract

本实用新型属电子技术领域，具体公开了一种透光柔性基板及AMOLED器件。透光柔性基板包括层叠设置的第一有机膜层、第一无机膜层，第一无机膜层包括至少一层第一无机材料层和至少一层第二无机材料层，第二无机材料层与第一无机材料层相邻设置并位于第一无机材料层远离第一有机膜层的一侧表面上；第一无机材料层的折射率大于第一有机膜层的折射率，第二无机材料层的折射率小于第一有机膜层的折射率。光从第一有机膜层进入第一无机膜层时，易发生多次反射，提高第一有机膜层对反射光的吸收率。本实用新型还提供包括上述透光柔性基板的AMOLED器件，具有较高的光吸收率，利于从玻璃基板上剥离。

Description

透光柔性基板及AMOLED器件

技术领域

本实用新型属于显示技术领域，具体涉及一种透光柔性基板及AMOLED器件。

背景技术

主动式有机发光二极管(AMOLED，Active Matrix Organic Light EmittingDiode)因其具有自发光、超轻薄、响应速度快、视角宽、功耗低等优点，被认为是最具有潜力的显示器件。采用柔性衬底制成弯曲或者折叠的柔性显示器件，成为显示器件的一个重要发展方向。现有技术中主流的柔性AMOLED器件主要包显示屏、偏光片和设置在顶层的触摸屏传感器。在制备柔性AMOLED器件过程中，首先在玻璃基板上制备柔性基板，然后在柔性基板上依次制备上述显示屏、偏光片和触摸屏传感器，制备完成后常采用LLO(Laser LiftOff)法将柔性基板从玻璃基板上剥离，为达到较好的剥离效果，则需要柔性基板具有高的激光吸收率；同时，柔性AMOLED器件在镀膜过程中还需激光透射柔性基板以进行对位，则要求柔性基板具有良好的对位光透射率。而现有的柔性基板为层叠设置在玻璃基板上的第一PI层、第一硅基薄膜层、第二PI层以及第二硅基薄膜层。第一硅基薄膜层、第二硅基薄膜层为常规的SiO/SiN/α-Si膜层，使得柔性基板具备良好的缓冲作用以及水氧阻隔功能，但是由于SiO的折射率小于PI的折射率，将柔性基板从玻璃基板上剥离时，激光穿过第一PI层(为光密介质)后受到第一硅基薄膜层(为光疏介质)较弱的折射作用而逸出，使得第一PI层对激光的吸收率较低，从而影响剥离效果；同时，第一硅基薄膜层中SiO膜层的厚度接近于激光波长，使得激光在SiO膜层中产生的反射光与入射光干涉相消，减弱了激光反射强度，进一步降低第一PI层对光的吸收率，导致剥离效果更差。同样地，激光作为对位光由第二硅基薄膜层进入第二PI层时，由于第二硅基薄膜层中SiO膜层的厚度接近于激光波长，激光被第二硅基薄膜层中SiO膜层反射，削弱激光入射光强，影响AMOLED膜层的对位效果。

实用新型内容

因此，本实用新型要解决的技术问题在于克服现有技术中柔性基板的光吸收率、透射率较差的难题。

为此，本实用新型提供一种透光柔性基板，包括层叠设置的第一有机膜层、第一无机膜层，其特征在于，所述第一无机膜层包括无机材料单元层，所述无机材料单元层包括至少一层第一无机材料层和至少一层第二无机材料层，所述第二无机材料层与所述第一无机材料层相邻设置并位于所述第一无机材料层远离所述第一有机膜层的一侧表面上；

所述第一无机材料层的折射率大于所述第一有机膜层的折射率，所述第二无机材料层的折射率小于所述第一有机膜层的折射率。

可选的，所述第一无机膜层至少包括两个相邻设置的所述无机材料单元层。

可选的，还包括第一第三无机材料层，所述第一第三无机材料层叠设置在所述无机材料单元层远离所述第一有机膜层一侧的表面上；所述第一第三无机材料层上还依次设置有第三第二无机材料层、第三第一无机材料层。

可选的，所述无机材料单元层中，所述第一无机材料层的厚度为λ/4n₁，所述第二无机材料层的厚度均λ/4n₂；所述第一第三无机材料层的厚度大于等于500埃，所述第三第二无机材料层的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃；所述第三第一无机材料层厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₁、n₂分别为所述第一无机材料层、所述第二无机材料层的折射率。

可选的，还包括第二有机膜层，第二无机膜层；

所述第二有机膜层设置在所述第三第一无机材料层远离所述第一有机膜层的一侧表面上，所述第二无机膜层设置在所述第二有机膜层远离所述第一有机膜层的一侧表面上。

可选的，所述第二无机膜层为层叠设置的第四第二无机材料层、第二第三无机材料层、第五第二无机材料层以及第四第一无机材料层。

可选的，所述第四第二无机材料层的厚度为λ/4n₂，所述第二第三无机材料层的厚度大于等于500埃，所述第五第二无机材料层的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃，所述第四第一无机材料层的厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₂为所述第二无机材料层的折射率。

可选的，所述第一无机材料层为α-Si层；所述第二无机材料层为SiO层；所述第一第三无机材料层和所述第二第三无机材料层为SiN层。

可选的，所述第一有机膜层为聚酰亚胺层，厚度为6～10μm；

所述第二有机膜层为聚酰亚胺层，厚度为6～10μm。

本实用新型还提供一种包括上述透光柔性基板的AMOLED器件。

本实用新型技术方案，具有如下优点：

1.本实用新型提供的透光柔性基板，包括层叠设置的第一有机膜层、第一无机膜层，第一无机膜层包括无机材料层单元层，无机材料单元层包括至少一层第一无机材料层和至少一层第二无机材料层，第二无机材料层与第一无机材料层相邻设置并位于第一无机材料层远离第一有机膜层的一侧表面上；第一无机材料层的折射率大于第一有机膜层的折射率，第二无机材料层的折射率小于第一有机膜层的折射率。

此结构的透光柔性基板，光从第一有机膜层进入第一无机膜层时，由于第一无机材料层的折射率大于第一有机膜层，光在第一无机材料层中易发生折射；然后光由第一无机材料层进入第二无机材料层，由于第二无机材料层的折射率小于第一有机膜层的折射率，也即，第二无机材料层的折射率小于第二无机材料层的折射率，使得光线在第一无机材料层与第二无机材料层之间的界面极易发生反射，然后再经第一无机材料层进入第一有机膜层，提高第一有机膜层对反射光的吸收率，即第一无机材料层和第二无机材料层形成了从第一有机膜层入射的光的反射膜。而且，该结构的透光柔性基板结构简单，易于制备。

2.本实用新型提供的透光柔性基板，由第一无机材料层和第二无机材料层构成的无机材料层单元设置成至少两个重复结构，更进一步加强了对光线的反射作用，提高第一有机膜层对光的吸收率。

3.本实用新型提供的透光柔性基板，无机材料层单元结构中的第一无机材料层和第二无机材料层的厚度分别设置成λ/4n₁、λ/4n₂，其中，λ为入射光波长，n₁、n₂分别为第一无机材料层、第二无机材料层的折射率，以消除光在同一材料层界面处的反射光与入射光发生半波损失，保证反射光的强度，增加第一有机膜层对反射光的吸收。

4.本实用新型提供的透光柔性基板，在第一无机膜层上设置第二有机膜层、第二无机膜层，将第二无机膜层设置成特定厚度，以消除入射光在第二无机薄膜中的中半波损失，提高入射光在第二无机膜层中的透射率。

5.本实用新型提供的透光柔性基板，在无机材料单元层远离第一有机膜层一侧表面上依次设置第一第三无机材料层、第三第二无机材料层，能够有效阻止空气中水氧进入，防止AMOLED器件寿命的衰减。

6.本实用新型提供的透光柔性基板，第二无机膜层包括第二第三无机材料层、第五第二无机材料层，进一步阻止空气中水氧进入AMOLED器件。

7.本实用新型提供的透光柔性基板可以应用于柔性AMOLED显示器件中，第一有机膜层具备良好的反射光吸收率，改善了透光柔性基板与玻璃基板的剥离效果；第二无机膜层具有良好的透射率，保证AMOLED在镀膜过程的对位效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例1提供的透光柔性基板结构示意图；

附图标记说明：

11-第一有机膜层；12-第二有机膜层；

21-第一无机膜层；211-第一第一无机材料层；212-第一第二无机材料层；213-第二第一无机材料层；214-第二第二无机材料层；215-第一第三无机材料层；216-第三第二无机材料层；217-第三第一无机材料层；

22-第二无机膜层；221-第四第二无机材料层；222-第二第三无机材料层；223-第五第二无机材料层；224-第四第一无机材料层。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

本实用新型可以以许多不同的形式实施，而不应该被理解为限于在此阐述的实施例。相反，提供这些实施例，使得本公开将是彻底和完整的，并且将把本实用新型的构思充分传达给本领域技术人员，本实用新型将仅由权利要求来限定。在附图中，为了清晰起见，会夸大层和区域的尺寸和相对尺寸。应当理解的是，当元件例如层被称作“形成在”或“设置在”另一元件“上”时，该元件可以直接设置在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，当元件被称作“直接形成在”或“直接设置在”另一元件上时，不存在中间元件。

实施例1

本实施例提供一种透光柔性基板，如图1所示，包括层叠设置的第一有机膜层11、第二无机膜层21、第二有机膜层12以及第二无机膜层22。

第一有机膜层11选自但不限于现有技术中适于作柔性膜层的有机材料层以及未开发出的适于作柔性膜层的有机材料层至少一种，如聚酰亚胺层，其厚度为6～10μm。

作为本实用新型的一个实施例，本实施例中，第一有机膜层11为聚酰亚胺层，其厚度8μm。

第一无机膜层21包括至少一个无机材料单元层，每个无机材料单元层包括至少一层第一无机材料层和至少一层第二无机材料层，其厚度分别为λ/4n₁、λ/4n₂；其中，λ为入射光波长，n₁、n₂分别为第一无机材料层、第二无机材料层的折射率。

第一无机材料层的折射率大于第一有机膜层11折射率，如第一无机材料层为α-Si层，第二无机材料层折射率小于第一有机膜层11折射率，如第二无机材料层为SiO层。在每个无机材料层中，第二无机材料层与第一无机材料层相邻设置并位于第一无机材料层远离第一有机膜层11的一侧表面上。

光线在第一有机膜层11传输过程中，第一有机膜层11将吸收部分光线，其余光线进入第一无机膜层21。在光线由第一有机膜层11进入第二无机膜层21过程中，由于第一无机材料层的折射率大于第一有机膜层11的折射率，光线将在第一无机材料层与第一有机膜层11的界面发生折射，改变光的传输路线，而且光线在第一有机膜层11中的入射角大于光线在第一无机材料层的出射角。然后光线继续由第一无机材料层进入第二无机材料层，由于第二无机材料层的折射率小于第一有机膜层11的折射率，自然地，第二无机材料层的折射率小于第一无机材料层的折射率，而且二者的折射率差别较大。因此，光线在第一无机材料层与第二无机材料层的界面发生部分反射或者全反射，反射光再经第一无机材料层进入第一有机膜层11，增强了第一有机膜层11对光的吸收。

作为本实用新型的一个实施例，本实施例中，第一无机膜层21的包括相邻设置的两个无机材料单元层，每个无机材料单元层包括一层第一无机材料层和一层第二无机材料单元层，则两个无机材料单元层的结构为：第一第一无机材料层211、第一第二无机材料层212、第二第一无机材料层213和第二第二无机材料层214。第一无机材料层为α-Si层，第二无机材料层为SiO层，则两个无机材料单元层结构为：α-Si层/SiO层/α-Si层/SiO层。

作为本实用新型可变换的实施例，还可以设置一个无机材料单元层，或者三个无机材料单元层，等等。只要能够对由第一有机膜层11的入射光起到多次反射作用即可，均可实现本实用新型的目的，属于本实用新型保护的范围。

第一无机膜层21还包括第一第三无机材料层215、第三第二无机材料层216、第三第一无机材料层217，第一第三无机材料层215设置在无机材料单元层远离第一有机膜层11一侧的表面上。第一第三无机材料层215的厚度大于等于500埃，第三第二无机材料层216的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃，第三第一无机材料层217厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₁、n₂分别为所述第一无机材料层、所述第二无机材料层的折射率。

AMOLED有一个致命的弱点，怕氧怕水，一旦有氧气或者水汽进入到器件里，就会引起器件寿命的衰减。本实施例中，第一第三无机材料层215、第三第二无机材料层216的设置，能够有效阻止空气中水氧进入，防止AMOLED器件寿命的衰减。

作为本实用新型的一个实施例，本实施例中，第一第三无机材料层215为SiN层，其厚度为500埃；第三第二无机材料层216为SiO层，其厚度为6000-λ/2n₂埃；第三第一无机材料层217为SiO层，其厚度为100埃。

第二有机膜层12设置在第三第一无机材料层217远离第一有机膜层11的一侧表面上，第二有机膜层12选自但不限于现有技术中适于作柔性膜层的有机材料层以及未开发出的适于作柔性膜层的有机材料层至少一种，如聚酰亚胺层，其厚度为6～10μm。

作为本实用新型的一个实施例，本实施例中，第二有机膜层12为聚酰亚胺层，其厚度8μm。

第二无机膜层22设置在第二有机膜层12远离第一有机膜层11的一侧表面上。第二无机膜层22为层叠设置的第四第二无机材料层221，第二第三无机材料层222，第五第二无机材料层223以及第四第一无机材料层224。

其中，第四第二无机材料层221的厚度为λ/4n₂，第二第三无机材料层222的厚度大于等于500埃，第五第二无机材料层223的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃，第四第一无机材料层224的厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₂为所述第二无机材料层的折射率。

在第二有机膜层12上设置上述厚度的无机材料层，提高了光线在第二无机膜层22、第二有机膜层12中的透射率，有利于镀膜过程中的对位，改善对位效果。同时，第二第三无机材料层222和第五第二无机材料层223的设置，进一步阻止空气中水氧进入AMOLED器件。

作为本实用新型的一个实施例，本实施例中，第四第二无机材料层221为SiO层，其厚度为λ/4n₂；第二第三无机材料222为SiN层，其厚度为500埃；第五第二无机材料层223为SiO层，其厚度为6000-λ/2n₂埃；第四第一无机材料层224为α-Si层，其厚度为100埃。

实施例2

本实施例提供一种包括实施例1的透光柔性基板的AMOLED器件。

显然，上述实施例仅仅是为清楚地说明所作的举例，而并非对实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说，在上述说明的基础上还可以做出其它不同形式的变化或变动。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。而由此所引伸出的显而易见的变化或变动仍处于本实用新型创造的保护范围之中。

Claims (10)

1.一种透光柔性基板，包括层叠设置的第一有机膜层、第一无机膜层，其特征在于，所述第一无机膜层包括无机材料单元层，所述无机材料单元层包括至少一层第一无机材料层和至少一层第二无机材料层，所述第二无机材料层与所述第一无机材料层相邻设置并位于所述第一无机材料层远离所述第一有机膜层的一侧表面上；

所述第一无机材料层的折射率大于所述第一有机膜层的折射率，所述第二无机材料层的折射率小于所述第一有机膜层的折射率。

2.根据权利要求1所述的透光柔性基板，其特征在于，所述第一无机膜层至少包括两个相邻设置的所述无机材料单元层。

3.根据权利要求1或2所述的透光柔性基板，其特征在于，还包括第一第三无机材料层，所述第一第三无机材料层叠设置在所述无机材料单元层远离所述第一有机膜层一侧的表面上；所述第一第三无机材料层上还依次设置有第三第二无机材料层、第三第一无机材料层。

4.根据权利要求3所述的透光柔性基板，其特征在于，所述无机材料单元层中，所述第一无机材料层的厚度为λ/4n₁，所述第二无机材料层的厚度均λ/4n₂；所述第一第三无机材料层的厚度大于等于500埃，所述第三第二无机材料层的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃；所述第三第一无机材料层厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₁、n₂分别为所述第一无机材料层、所述第二无机材料层的折射率。

5.根据权利要求3所述的透光柔性基板，其特征在于，还包括第二有机膜层，第二无机膜层；

所述第二有机膜层设置在所述第三第一无机材料层远离所述第一有机膜层的一侧表面上，所述第二无机膜层设置在所述第二有机膜层远离所述第一有机膜层的一侧表面上。

6.根据权利要求5所述的透光柔性基板，其特征在于，所述第二无机膜层为层叠设置的第四第二无机材料层、第二第三无机材料层、第五第二无机材料层以及第四第一无机材料层。

7.根据权利要求6所述的透光柔性基板，其特征在于，所述第四第二无机材料层的厚度为λ/4n₂，所述第二第三无机材料层的厚度大于等于500埃，所述第五第二无机材料层的厚度大于等于6000-λ/2n₂埃，所述第四第一无机材料层的厚度为50～300埃；

其中，λ为入射光波长，n₂为所述第二无机材料层的折射率。

8.根据权利要求6所述的透光柔性基板，其特征在于，所述第一无机材料层为α-Si层；所述第二无机材料层为SiO层；所述第一第三无机材料层和所述第二第三无机材料层为SiN层。

9.根据权利要求5所述的透光柔性基板，其特征在于，所述第一有机膜层为聚酰亚胺层，厚度为6～10μm；

所述第二有机膜层为聚酰亚胺层，厚度为6～10μm。

10.一种包括如权利要求1或2所述的透光柔性基板的AMOLED器件。