CN207874521U - 陶瓷施釉坯体擦底装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置包括滚筒座、滚筒和传送带，所述滚筒座设置在支架的顶部，所述滚筒设置在滚筒座上，所述传送带设置在两个以上的滚筒上；所述第二传送装置包括滚轮座、滚轮和传送条，所述滚轮座设置在支架的下部和顶部，所述滚轮上设有转轴，所述滚轮通过转轴设置在滚轮座上，所述传送条设置在支架下部和顶部的滚轮上。本实用新型的陶瓷施釉坯体擦底装置具有自动化程度高，工作效率高，并且能将陶瓷施釉坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，提高产品质量。

Description

陶瓷施釉坯体擦底装置

技术领域

本实用新型涉及一种陶瓷加工装置，具体是一种陶瓷施釉坯体擦底装置。

背景技术

现有的陶瓷制品的表面一般都会覆盖一层釉料。釉是覆盖在陶瓷制品表面的无色或有色的玻璃质薄层，是用矿物原料与其它原料按一定比例配合并经过研磨而制成的浆料，其施于坯体表面，经一定温度煅烧而成。陶瓷釉料能够增加陶瓷制品的机械强度、热稳定性和电介强度，还具有美化器物、便于清洗、不被尘土腥秽侵蚀等特点。

陶瓷坯体喷釉或浸釉后，为防止底部积釉，造成烧成过程中粘板、惊风，甚至爆炸，均须对陶瓷坯体底部剩釉进行擦拭，传统上均采用人工手段进行擦拭，人工擦拭不但效率低，而且劳动强度大；再者，由于工人的技术水平的差异，易造成产品质量的不稳定，不利于提高生产效率和保证产品质量。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种自动化程度高，工作效率高，并且能将陶瓷施釉坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，提高产品质量的陶瓷施釉坯体擦底装置。

本实用新型是这样实现的：

一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置设置在支架的前部，所述第二传送装置设置在支架的后部，所述第一传送装置包括滚筒座、滚筒和传送带，所述滚筒座设置在支架的顶部，所述滚筒设置在滚筒座上，所述传送带设置在两个以上的滚筒上，所述传送带呈平行循环传送形状；所述第二传送装置包括滚轮座、滚轮和传送条，所述滚轮座设置在支架的下部和顶部，所述滚轮上设有转轴，所述滚轮通过转轴设置在滚轮座上，所述传送条设置在支架下部和顶部的滚轮上，所述传送条呈三角循环传送形状。

进一步优选，所述滚轮上设有两个轮体，两个轮体之间通过轴承连接，所述轮体上设有托腔，所述传送条为两条，平行设置在轮体的托腔上。

进一步优选，所述平行设置的传送条之间的宽度小于陶瓷底的直径，所述托腔上的两条传送条传送速度不同。

进一步优选，所述支架上设有支持杆，所述支持杆上设有传感器。

进一步优选，所述传送带和传送条的两侧均设有防护栏。

进一步优选，所述第一传送装置和第二传送装置均设有驱动机构，第一传送装置设有的驱动机构与滚筒连接，第二传送装置设有的驱动机构与滚轮连接。

进一步优选，所述驱动机构为伺服电机。

本实用新型突出的实质性特点和显著的进步是：

本实用新型陶瓷施釉坯体擦底装置通过设置第一传送装置、第二传送装置和擦底机构，陶瓷坯体喷釉或浸釉后放入第一传送装置中，陶瓷坯体喷釉或浸釉后放入第一传送装置中，当陶瓷坯体由第一传送装置传送至第二传送装置时，陶瓷坯体在第二传送装置传送，由于第二传送装置上的两条传送条传送的速度不同，一条快、一条慢，陶瓷坯体就可以在两条传送条旋转，完成陶瓷坯体的擦底，传感器检测到陶瓷坯体时，将信号传送至控制器，控制器反馈到上脚蜡装置，上脚蜡装置顶起对陶瓷坯体底部进行上脚蜡，然后由第二传送装置将陶瓷坯体传送至下一工序，整个陶瓷坯体底部剩釉的擦拭在传送带上进行，自动化程度高，工作效率高，能将陶瓷施釉坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，提高产品质量，并且不需要增加生产工序和成套的擦底设备，降低了生产成本。

附图说明

图1是本实用新型陶瓷施釉坯体擦底装置的主视结构示意图；

图2是本实用新型滚轮与轴承连接的结构示意图；

图3是本实用新型滚轮的结构示意图；

图中序号相对的部件名称：

支架1、滚轮座2、滚筒座3、滚轮4、滚筒5、传送带6、传送条7、支持杆8、传感器9、防护栏10、轴承11、轮体12、托腔13。

具体实施方式

以下结合附图及实施例对本实用新型陶瓷体内自动施釉装置作进一步的说明。

实施例1

如图1所示，本实用新型的一种陶瓷施釉坯体擦底装置，包括支架1、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置设置在支架1的前部，所述第二传送装置设置在支架1的后部，所述第一传送装置包括滚筒座3、滚筒5和传送带6，所述滚筒座3设置在支架1的顶部，所述滚筒5设置在滚筒座3上，所述传送带6设置在两个以上的滚筒5上，所述传送带6呈平行循环传送形状；所述第二传送装置包括滚轮座2、滚轮4和传送条7，所述滚轮座2设置在支架1的下部和顶部，所述滚轮4上设有转轴，所述滚轮4通过转轴设置在滚轮座2上，所述传送条8设置在支架1下部和顶部的滚轮4上，所述传送条7呈三角循环传送形状。

如图2-3所示，所述滚轮4上设有两个轮体12，两个轮体12之间通过轴承11连接，所述轮体12上设有托腔13，所述传送条7为两条，平行设置在轮体12的托腔13上。

所述平行设置的传送条7之间的宽度小于陶瓷底的直径，所述托腔13上的两条传送条7传送速度不同。

所述支架1上设有支持杆8，所述支持杆8上设有传感器9。

所述传送带6和传送条7的两侧均设有防护栏10。

所述第一传送装置和第二传送装置均设有驱动机构，第一传送装置设有的驱动机构与滚筒5连接，第二传送装置设有的驱动机构与滚轮4连接。

所述驱动机构为伺服电机。

工作时，陶瓷坯体喷釉或浸釉后放入第一传送装置中，当陶瓷坯体由第一传送装置传送至第二传送装置时，陶瓷坯体在第二传送装置传送，由于第二传送装置上的两条传送条传送的速度不同，一条快、一条慢，陶瓷坯体就可以在两条传送条旋转，完成陶瓷坯体的擦底，传感器检测到陶瓷坯体时，将信号传送至控制器，控制器反馈到上脚蜡装置，上脚蜡装置顶起对陶瓷坯体底部进行上脚蜡，然后由第二传送装置将陶瓷坯体传送至下一工序，整个陶瓷坯体底部剩釉的擦拭在传送带上进行，自动化程度高，工作效率高，能将陶瓷施釉坯体底部的剩釉迅速而有效地擦拭干净，提高产品质量，并且不需要增加生产工序和成套的擦底设备，降低了生产成本。

尽管本实用新型的实施方案已公开如上，但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用，它完全可以被适用于各种适合本实用新型的领域，对于熟悉本领域的人员而言，可容易地实现另外的修改，因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下，本实用新型并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。

Claims (7)

1.一种陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：包括支架（1）、第一传送装置和第二传送装置，所述第一传送装置设置在支架（1）的前部，所述第二传送装置设置在支架（1）的后部，所述第一传送装置包括滚筒座（3）、滚筒（5）和传送带（6），所述滚筒座（3）设置在支架（1）的顶部，所述滚筒（5）设置在滚筒座（3）上，所述传送带（6）设置在两个以上的滚筒（5）上，所述传送带（6）呈平行循环传送形状；所述第二传送装置包括滚轮座（2）、滚轮（4）和传送条（7），所述滚轮座（2）设置在支架（1）的下部和顶部，所述滚轮（4）上设有转轴，所述滚轮（4）通过转轴设置在滚轮座（2）上，所述传送条（7）设置在支架（1）下部和顶部的滚轮（4）上，所述传送条（7）呈三角循环传送形状。

2.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述滚轮（4）上设有两个轮体（12），两个轮体（12）之间通过轴承（11）连接，所述轮体（12）上设有托腔（13），所述传送条（7）为两条，平行设置在轮体（12）的托腔（13）上。

3.根据权利要求2所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述平行设置的传送条（7）之间的宽度小于陶瓷底的直径，所述托腔（13）上的两条传送条（7）传送速度不同。

4.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述支架（1）上设有支持杆（8），所述支持杆（8）上设有传感器（9）。

5.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述传送带（6）和传送条（7）的两侧均设有防护栏（10）。

6.根据权利要求1所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述第一传送装置和第二传送装置均设有驱动机构，第一传送装置设有的驱动机构与滚筒（5）连接，第二传送装置设有的驱动机构与滚轮（4）连接。

7.根据权利要求6所述的陶瓷施釉坯体擦底装置，其特征在于：所述驱动机构为伺服电机。