CN207651458U - 一种刻蚀装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种刻蚀装置，属于太阳能电池技术领域，该刻蚀装置包括旋转组件，旋转组件包括旋转平台，旋转平台能够绕自身的中心轴线方向水平旋转；滴液组件，滴液组件包括设置于旋转平台的上方的第一喷射部和第二喷射部；及收集槽，收集槽沿周向环绕旋转平台设置。本实用新型通过将待刻蚀硅片放置于旋转组件上使硅片随旋转平台旋转，并在不同的时刻通过第一喷射部和第二喷射部向旋转平台上的硅片喷射化学制剂，从而去除硅片的背面的掺杂层，解决了现有技术中去除硅片的背面的掺杂层时，将硅片直接接触硅片的背面而导致破坏硅片背面绒面的技术问题，从而使硅片背面的反光率大幅度提升，进而提高了背面的光电转换效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池技术领域，尤其涉及一种刻蚀装置。
背景技术
目前在光伏业界，制造双面电池时，在正面扩散形成pn结的同时，也会在硅片背面附带形成一些掺杂层。比如在制作n型双面电池时，在用BBr3对n型硅片进行正面p型掺杂时，也会在背面附带形成一些p型掺杂层(在0.5微米以内)。而这层p型掺杂层必须去除，以防止在后续的背面n型掺杂时不会与残留的p型层混掺，造成效率的下降。
现有技术中，去除背面掺杂层是使用湿法链式刻蚀设备，用氢氟酸、硝酸、硫酸的混酸溶液与硅片背面接触并产生反应，去除深度约2～3微米。这样虽然可以去除背面附带形成的掺杂层，缺点是同时也破坏了背面的绒面，造成背面对光的反射率大幅度上升，降低了背面的光电转换效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提出一种刻蚀装置，能够解决现有技术中使用混酸溶液去除背面附带形成的掺杂层时，容易破坏背面的绒面的技术问题。
为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：
一种刻蚀装置，包括：
旋转组件，所述旋转组件包括用于放置硅片的旋转平台，所述旋转平台能够绕自身的中心轴线方向水平旋转；
滴液组件，所述滴液组件包括设置于所述旋转平台的上方的第一喷射部和第二喷射部，所述第一喷射部和所述第二喷射能够朝向所述旋转平台喷射液体；及
收集槽，所述收集槽沿周向环绕所述旋转平台设置，以收集所述旋转平台甩出的液体。
进一步的，所述旋转组件还包括基座及固设于所述基座的驱动部，所述驱动部与所述旋转平台连接，以驱动所述旋转平台相对于所述基座水平旋转；
所述收集槽连接于所述基座。
进一步的，所述滴液组件还包括支撑架及转动连接于所述支撑架的安装架，所述第一喷射部和所述第二喷射部均设置于所述安装架上。
进一步的，所述安装架为方形框架，包括第一连接梁和连接于所述第一连接梁的第二连接梁，所述第一喷射部设置于所述第一连接梁上，所述第二喷射部设置于所述第二连接梁上；
所述锁紧部能够穿过所述支撑架与所述第一连接梁和所述第二连接梁可拆卸连接。
进一步的，所述安装架为条形结构，所述第一喷射部和第二喷射部间隔设置。
进一步的，所述第一喷射部和所述第二喷射部均包括若干个喷嘴。
进一步的，所述第一喷射部的若干个所述喷嘴串联，所述第二喷射部的若干个所述喷嘴串联。
进一步的，所述收集槽包括槽本体及连接于所述槽本体的内挡板和外挡板，所述内挡板位于所述旋转平台的下方，所述外挡板位于所述旋转平台的外周且高于所述旋转平台设置。
进一步的，所述外挡板包括连接于所述槽本体的竖板和连接于所述竖板的斜板，所述斜板沿靠近所述旋转组件的方向倾斜并与所述竖板之间设置有夹角。
本实用新型的有益效果：
本实用新型通过将待刻蚀硅片放置于旋转组件上使硅片随旋转平台旋转，并在不同的时刻通过第一喷射部和第二喷射部向旋转平台上的硅片喷射化学制剂，从而去除硅片的背面的掺杂层，解决了现有技术中去除硅片的背面的掺杂层时，将硅片直接接触硅片的背面而导致破坏硅片背面绒面的技术问题，从而使硅片背面的反光率大幅度提升，进而提高了背面的光电转换效率。
附图说明
图1是本实用新型提供的刻蚀装置的结构示意图；
图2是本实用新型提供的收集槽的剖视图。
图中：
1、旋转组件；11、基座；12、旋转平台；
2、收集槽；21、槽本体；22、内挡板；23、外挡板；
231、竖板；232、斜板；
3、滴液组件；31、支撑架；32、安装架；
321、第一连接梁；322、第二连接梁；
4、第一喷射部；5、第二喷射部；6、锁紧部。
具体实施方式
为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。
实施例一
本实施例提供了一种刻蚀装置，如图1所示，该刻蚀装置包括旋转组件1，包括基座11、旋转平台12及驱动部，所述驱动部固设于所述基座11并与所述旋转平台12连接，以驱动所述旋转平台12相对于所述基座11水平旋转；滴液组件3，包括支撑架31及转动连接于所述支撑架31的安装架32，所述安装架32上设置有第一喷射部4和第二喷射部5，所述第一喷射部4和第二喷射部5位于所述旋转组件1的上方，使得第一喷射部4和第二喷射部5能够向所述旋转平台12上的硅片喷射液体，其中液体为化学制剂；收集槽2，沿周向环绕所述旋转平台12设置，并连接于基座11，以收集所述旋转平台12甩出的液体；及锁紧部6，所述锁紧部6可拆卸的连接于所述安装架32和所述支撑架31。其中，第一喷射部4用于向旋转平台12上的硅片喷射的化学制剂为化学反应液，可以为氢氧化钾、氢氧化钠、四甲基氢氧化铵等碱性溶液或者为氢氟酸与硝酸的混合溶液，第二喷射部5用于向旋转平台12上的硅片喷射去离子水，用于冲刷残留的化学反应液。
上述驱动部为电机，用于驱动旋转平台12相对于基座11水平旋转。
本实施例通过将待刻蚀硅片放置于旋转组件1上使硅片随旋转平台12旋转，并在不同的时刻通过第一喷射部4和第二喷射部5向旋转平台12上的硅片喷射化学制剂，从而去除硅片的背面的掺杂层，解决了现有技术中去除硅片的背面的掺杂层时，将硅片直接接触硅片的背面而导致破坏硅片背面绒面的技术问题，从而使硅片背面的反光率大幅度提升，进而提高了背面的光电转换效率。此外，通过利用旋转组件1的离心作用，使化学制剂向硅片的边缘流动，并在硅片表面迅速平铺形成一层薄薄的反应液的溶液膜，从而刻蚀反应均匀可控，不会由于反应太快导致背面刻蚀深度过大，从而破坏或摧毁硅片背面的绒面。飞溅的化学制剂最终进入收集槽2内，避免了对周边环境的腐蚀，同时，当停止向硅片滴液后，又能够利用离心作用，达到甩干硅片的目的。
上述安装架32为方形框架，两端通过转轴转动连接于支撑架31，安装架32包括第一连接梁321和连接于所述第一连接梁321的第二连接梁322，所述第一喷射部4设置于所述第一连接梁321上，所述第二喷射部5设置于所述第二连接梁322上。其中，锁紧部6能够穿过支撑架31能够与第一连接梁321和第二连接梁322可拆卸连接，具体地，锁紧部6为螺杆，第一连接梁321、第二连接梁322及支撑架31均设有螺纹孔，所述第一连接梁321和所述第二连接梁322的螺纹孔对称设置于所述安装架32上，支撑架31的螺纹孔分别与第一连接梁321的螺纹孔和第二连接梁322的螺纹孔对应设置，且支撑架31的螺纹孔通过锁紧部6分别与第一连接梁321的螺纹孔和第二连接梁322的螺纹孔螺纹连接。当需要向硅片喷射化学反应液时，旋转安装架32，使第一喷射部4正对于硅片的背部，且支撑架31上的螺纹孔分别与第一连接梁321和第二连接梁322上的螺纹孔正对，并通过锁紧部6锁紧固定；当需要向硅片喷射去离子水时，旋转安装架32，使第二喷射部5正对于硅片，且支撑架31上的螺纹孔分别与第一连接梁321和第二连接梁322上的螺纹孔正对，并通过锁紧部6锁紧固定。
此外，本实施例还提供了支撑架31与安装架32另一种连接方式，第一连接梁321、第二连接梁322及支撑架31上均设有螺纹孔，所述第一连接梁321和所述第二连接梁322的螺纹孔对称设置于所述安装架32上且关于转轴对称，支撑架31的螺纹孔能够与所述第一连接梁321的螺纹孔正对或者与第二连接梁322的螺纹孔正对。当支撑架31上的螺纹孔与第一连接梁321上的螺纹孔正对时，螺杆依次与支撑架31的螺纹孔及第一连接梁321的螺纹孔螺纹连接，从而实现对安装架32的固定；当支撑架31上的螺纹孔与第二连接梁322上的螺纹孔正对时，螺杆依次与支撑架31的螺纹孔及第二连接梁322的螺纹孔螺纹连接，从而实现对安装架32的固定，从而实现第一喷射部4和第二喷射部5位置的转换。
上述第一喷射部4和所述第二喷射部5均包括若干个喷嘴，所述第一喷射部4和所述第二喷射部5均包括若干个喷嘴。需要说明的是，所述第一喷射部4和所述第二喷射部5均连接有流量阀(图中未示出)，从而实现第一喷射部4的喷嘴和第二喷射部5的喷嘴上能够以特定的滴速进行喷射，从而实现对化学制剂的滴速的控制，从而实现对硅片的背面的绒面的保护。
上述收集槽2为环形槽，从而实现周向环绕旋转平台12，当硅片随旋转组件1旋转时，硅片上的化学制剂在离心力的作用下，向硅片的边缘流动，飞溅的化学制剂甩出旋转平台12并掉落于收集槽2内，从而避免了化学制剂对周围环境的腐蚀。具体地，如图2所示，收集槽2包括槽本体21及连接于所述槽本体21的内挡板22和外挡板23，所述内挡板22位于所述旋转平台12的下方，所述外挡板23位于所述旋转平台12的外周且高于旋转平台12设置。其中，内挡板22靠近旋转平台12设置，外挡板23远离旋转平台12设置，将内档板22低于旋转平台12设置，方便将化学制剂甩入收集槽2内，将外挡板23高于旋转平台12设置，对旋转平台12甩出的化学制剂起到阻挡作用，使化学制剂能够沿外挡板23滑入槽本体21内。
其中，上述外挡板23包括连接于所述槽本体21的竖板231和连接于所述竖板231的斜板232，所述斜板232沿靠近所述旋转组件1的方向倾斜并与所述竖板231之间设置有夹角，从而有效地防止化学制剂落入收集槽2之外。
上述槽本体21的截面为半圆形结构，也可以为方形结构，本实施例对槽本体21的截面的形状不作限定。
实施例二
本实施例提供了一种刻蚀装置，具体地提供了安装架32的另一种结构，安装架32为条形结构，所述第一喷射部4和第二喷射部5间隔设置。其中，支撑架31和安装架32上均设有螺纹孔，锁紧部6分别与支撑架31和安装架32上的螺纹孔螺纹连接从而实现第一喷射部4和第二喷射部5位置的调节，从而避免安装架32对其它部件的干涉。
本实施例中的其他结构与实施一相同，不再一一赘述。
注意，以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施方式的限制，上述实施方式和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内，本实用新型的要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (10)
1.一种刻蚀装置，其特征在于，包括：
旋转组件(1)，所述旋转组件(1)包括用于放置硅片的旋转平台(12)，所述旋转平台(12)能够绕自身的中心轴线方向水平旋转；
滴液组件(3)，所述滴液组件(3)包括设置于所述旋转平台(12)的上方的第一喷射部(4)和第二喷射部(5)，所述第一喷射部(4)和所述第二喷射部(5)能够朝向所述旋转平台(12)喷射液体；及
收集槽(2)，所述收集槽(2)沿周向环绕所述旋转平台(12)设置，以收集所述旋转平台(12)甩出的液体。
2.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述旋转组件(1)还包括基座(11)及固设于所述基座(11)的驱动部，所述驱动部与所述旋转平台(12)连接，以驱动所述旋转平台(12)相对于所述基座(11)水平旋转；
所述收集槽(2)连接于所述基座(11)。
3.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述滴液组件(3)还包括支撑架(31)及转动连接于所述支撑架(31)的安装架(32)，所述第一喷射部(4)和所述第二喷射部(5)均设置于所述安装架(32)上。
4.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述刻蚀装置还包括锁紧部(6)，所述锁紧部(6)可拆卸的连接于所述安装架(32)和所述支撑架(31)。
5.根据权利要求4所述的刻蚀装置，其特征在于，所述安装架(32)为方形框架，包括第一连接梁(321)和连接于所述第一连接梁(321)的第二连接梁(322)，所述第一喷射部(4)设置于所述第一连接梁(321)上，所述第二喷射部(5)设置于所述第二连接梁(322)上；
所述锁紧部(6)能够穿过所述支撑架(31)与所述第一连接梁(321)和所述第二连接梁(322)可拆卸连接。
6.根据权利要求3所述的刻蚀装置，其特征在于，所述安装架(32)为条形结构，所述第一喷射部(4)和第二喷射部(5)间隔设置。
7.根据权利要求5或6所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一喷射部(4)和所述第二喷射部(5)均包括若干个喷嘴。
8.根据权利要求7所述的刻蚀装置，其特征在于，所述第一喷射部(4)的若干个所述喷嘴串联，所述第二喷射部(5)的若干个所述喷嘴串联。
9.根据权利要求1所述的刻蚀装置，其特征在于，所述收集槽(2)包括槽本体(21)及连接于所述槽本体(21)的内挡板(22)和外挡板(23)，所述内挡板(22)位于所述旋转平台(12)的下方，所述外挡板(23)位于所述旋转平台(12)的外周且高于所述旋转平台(12)设置。
10.根据权利要求9所述的刻蚀装置，其特征在于，所述外挡板(23)包括连接于所述槽本体(21)的竖板(231)和连接于所述竖板(231)的斜板(232)，所述斜板(232)沿靠近所述旋转组件(1)的方向倾斜并与所述竖板(231)之间设置有夹角。
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| CN113805367A (zh) * | 2021-09-17 | 2021-12-17 | 无锡迪渊特科技有限公司 | 蚀刻机安装用蚀刻架自动锁紧装置 |
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2017
- 2017-12-28 CN CN201721881385.2U patent/CN207651458U/zh active Active
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