CN207646276U - 一种具有可移动坩埚的蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种蒸镀设备，包括：用于容纳蒸镀材料的内坩埚、容纳所述内坩埚的外坩埚，还包括设置于所述内坩埚底部的升降机构，所述升降机构为弹簧机构，用于控制所述内坩埚在所述外坩埚内的上升和下降；还包括喷射口，位于所述外坩埚的上部，用于使蒸发或升华后的蒸镀材料通过；还包括加热单元，所述加热单元设置在外坩埚的外部，用于加热容纳于所述内坩埚内部的蒸镀材料使其达到熔化或升华温度以上的某一温度值。实用新型提供的蒸镀设备，可以使得蒸镀材料在玻璃上沉积速率保持一致，还降低了功耗，并且蒸镀材料性质稳定，不易劣化，提高了蒸镀材料的利用率和蒸镀工艺的良率。
Description
技术领域
本实用新型涉及蒸镀工艺技术领域，特别是涉及一种蒸镀设备。
背景技术
OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二级管，简称OLED)显示屏由于具有薄、轻、宽视角、主动发光、响应速度快、能耗小、驱动电压低、工作温度范围宽、发光效率高及可柔性显示等优点，已被列为极具发展前景的下一代显示技术。在基板上形OLED 器件通常采用蒸镀工艺，具体为加热蒸镀材料，使蒸镀材料熔化（或升华）成蒸汽，然后凝结在基板表面成膜，从而形成OLED 器件的功能层。
现有的蒸镀制程中，通常采用电阻丝对内坩埚内的材料进行加热。随着蒸镀的进行，蒸镀材料形成的液面会逐渐下降。这会产生两个不利后果：其一，液面高度的变化会影响到玻璃上的沉积速率；其二，材料变少而加热装置难以实时调整使得局部可能温度过高，材料易出现劣化并影响器件性能。
实用新型内容
本实用新型提供一种蒸镀设备，包括：用于容纳蒸镀材料的内坩埚，还包括容纳所述内坩埚的外坩埚，还包括设置于所述内坩埚底部的升降机构，所述升降机构为弹簧机构，用于控制所述内坩埚在所述外坩埚内的上升和下降，还包括喷射口，位于所述外坩埚的上部，用于使蒸发或升华后的蒸镀材料通过，还包括加热单元，所述加热单元设置在外坩埚的外部，用于加热容纳于所述内坩埚内部的蒸镀材料使其达到熔化或升华温度以上的某一温度值。
可选地，所述弹簧机构控制所述内坩埚在所述外坩埚内的上升和下降，使得在蒸镀过程中，容纳于所述内坩埚内部的蒸镀材料的液面高度始终一致。
可选地，所述弹簧机构连接所述内坩埚的底部和所述外坩埚内侧的底部。
可选地，在蒸镀工艺开始前，所述内坩埚内放置有初始量的蒸镀材料，所述内坩埚及所述蒸镀材料压缩所述弹簧机构，所述弹簧机构产生压缩形变；随着蒸镀工艺的进行，所述蒸镀材料逐渐被消耗，所述弹簧机构的压缩形变逐渐变小，以推动所述内坩埚向上移动。
可选地，所述蒸镀设备还包括缓冲机构，所述缓冲机构与所述弹簧机构一起连接所述内坩埚的底部和所述外坩埚内侧的底部，用于减少内坩埚可能出现的振动。
可选地，所述缓冲机构可以为阻尼器，所述阻尼器可以为粘滞阻尼器或无摩擦阻尼器。
可选地，所述内坩埚及所述外坩埚采用陶瓷、石英、石墨、铬、铬合金、钛、钛合金等耐高温、耐磨损材质制成。
可选地，所述外坩埚底部开小孔，用于保持内坩埚及外坩埚之间与蒸镀腔室内不存在压强差。
可选地，所述加热单元设置于所述蒸镀材料的液面上方或下方，并且所述加热单元和所述蒸镀材料的液面之间的距离保持不变。
可选地，所述加热单元设置于机电机构上，在蒸镀前后所述加热单元的位置可由所述机电机构控制。
本实用新型提供的蒸镀设备，使内坩埚可以相对于外坩埚运动，从而保持蒸镀材料液面的高度始终保持一致，可以使得蒸镀材料在玻璃上沉积速率保持一致，提高了蒸镀工艺的良率。另外，由于蒸镀材料的液面始终在同一高度，只需要在该液面处或距离该液面一定距离处设置加热单元，就可以稳定地保持对蒸镀材料的加热效果，降低了功耗，并且蒸镀材料性质稳定，不易劣化，提高了蒸镀材料的利用率和蒸镀工艺的良率。
附图说明
图1为本实用新型一具体实施方式提供的蒸镀装置在初始状态及蒸镀过程中的示意图。
图2为本实用新型另一具体实施方式提供的蒸镀装置在初始状态及蒸镀过程中的示意图。
具体实施方式
现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的范例；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将更加全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。
此外，所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施例中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本实用新型的实施例的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本实用新型的技术方案而没有特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组元、装置、步骤等。在其它情况下，不详细示出或描述公知方法、装置、实现或者操作以避免模糊本实用新型的各方面。
附图中所示的状态图仅是示例性说明，不是必须包括所有的内容和操作/步骤，也不是必须按所描述的顺序执行。例如，有的操作/步骤还可以分解，而有的操作/步骤可以合并或部分合并，因此实际执行的顺序有可能根据实际情况改变。
图1为本实用新型一具体实施方式提供的蒸镀装置在初始状态及蒸镀过程中的示意图，图1中，图1(a)为蒸镀设备在蒸镀工艺初始状态的示意图。蒸镀设备包括用于容纳蒸镀材料19的内坩埚10，还包括容纳内坩埚10的外坩埚11，还包括设置于内坩埚10底部的升降机构12，该升降机构12控制内坩埚10在外坩埚11内的上升和下降，蒸镀设备还包括喷射口13，位于外坩埚11的上部，用于使蒸发或升华后的蒸镀材料通过；还包括加热单元18，该加热单元18用于加热容纳于内坩埚10内部的蒸镀材料使其达到熔化或升华温度以上的某一温度值。
在图1中，该升降机构12为弹簧机构，弹簧机构12连接内坩埚10的底部和外坩埚11内侧的底部。在蒸镀工艺开始前，内坩埚10内放置有初始量的蒸镀材料19，该内坩埚10及蒸镀材料19压缩弹簧机构12，使弹簧机构12产生压缩形变。
请接着参考图1(b)，随着蒸镀工艺的进行，蒸镀材料19逐渐被消耗，弹簧机构12的压缩形变逐渐变小，弹簧机构12推动着内坩埚10向上移动，使蒸镀材料19液面的高度和初始状态时的液面高度一致。
本实用新型提供的蒸镀装置，通过升降机构保持蒸镀材料19的液面在整个蒸镀工艺过程中都处于同一高度，可以使得蒸镀材料在玻璃上沉积速率保持一致，提高了蒸镀工艺的良率。另外，由于蒸镀材料的液面始终在同一高度，只需要距离该液面一定距离处设置加热单元18，就可以稳定地保持对蒸镀材料的加热效果，简化了结构、降低了功耗，并且蒸镀材料性质稳定，不易劣化，提高了蒸镀材料的利用率和蒸镀工艺的良率。可选地，加热单元可以设置在外坩埚11的外部，在图1结构中，加热单元18设置在外坩埚11的外部，为环绕外坩埚11的外侧一圈的电阻丝，并且位于蒸镀材料液面的上方，在其他实施方式中，加热单元的位置及结构还可以为其他。
请参考图2，图2为本实用新型另一具体实施方式提供的蒸镀装置在的示意图。蒸镀设备包括用于容纳蒸镀材料29的内坩埚20，还包括容纳内坩埚20的外坩埚21，还包括设置于内坩埚20底部的弹簧机构22，还包括喷射口23，还包括加热单元28。和图1不同之处在于，另一具体实施方式中蒸镀装置还包括缓冲机构24，所述缓冲机构24与所述弹簧机构22一起连接所述内坩埚20的底部和所述外坩埚21内侧的底部，用于减少内坩埚20可能出现的振动。在蒸镀前添加蒸镀材料29时，在添加材料的速度较快时，会在弹簧机构22和蒸镀材料29重力的共同作用下产生振动。同理，在蒸镀速度较快时，也会产生小幅振动。振动会增加内坩埚20和外坩埚21之间的摩擦，从而可能产生额外的热量和杂质，不利于蒸镀过程的精确控制。和图1另一不同之处在于，加热单元28设置于机电机构27上，在蒸镀前后加热单元28的位置可由机电机构27控制。在图2所示的具体实施方式中，加热单元28位于蒸镀材料29液面的下方。需要说明的是，初始量的蒸镀材料并不是需要在内坩埚中放满蒸镀材料，或者某一固定量的蒸镀材料，初始量的蒸镀材料是相对蒸镀工艺开始后，减少后的蒸镀材料的量而言的，其本身可为任何合适量的蒸镀材料。和图1不同之处还在于，外坩埚21的底部设有小孔26，小孔26用于保持内坩埚20及外坩埚21之间与蒸镀腔室内不存在压强差。
可选地，内坩埚20及外坩埚21采用陶瓷、石英、石墨、铬、铬合金、钛、钛合金等耐高温、耐磨损材料制成。优选地，内坩埚20及外坩埚21的材料采用石墨或钛。
可选地，加热单元设置于蒸镀材料的液面附近，也可以处于液面上方或下方，在图2所示结构中，加热单元28为设置在外坩埚21外侧环绕一周的电阻丝，并且加热单元28设置在蒸镀材料29液面的下方，在其他实施方式中，加热单元还可以设置在液面的上方或与液面持平，因为液面是保持不动的，因此加热单元设置在液面上方还是下方还是与液面持平，不影响对蒸镀材料的加热效果。
本实用新型提供的蒸镀设备，使内坩埚可以相对于外坩埚运动，从而保持蒸镀材料液面的高度始终保持一致，可以使得蒸镀材料在玻璃上沉积速率保持一致，提高了蒸镀工艺的良率。另外，由于蒸镀材料的液面始终在同一高度，只需要距离该液面一定距离处设置加热单元，就可以稳定地保持对蒸镀材料的加热效果，简化了结构、降低了功耗，并且蒸镀材料性质稳定，不易劣化，提高了蒸镀材料的利用率和蒸镀工艺的良率。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的实用新型后，将容易想到本实用新型的其它实施方案。本申请旨在涵盖本实用新型的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本实用新型的一般性原理并包括本实用新型未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本实用新型的真正范围和精神由下面的权利要求指出。应当理解的是，本实用新型并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本实用新型的范围仅由所附的权利要求来限制。
Claims (11)
1.一种蒸镀设备，其特征在于，包括：用于容纳蒸镀材料的内坩埚、容纳所述内坩埚的外坩埚，还包括设置于所述内坩埚底部的升降机构，所述升降机构为弹簧机构，用于控制所述内坩埚在所述外坩埚内的上升和下降；还包括喷射口，位于所述外坩埚的上部，用于使蒸发或升华后的蒸镀材料通过；还包括加热单元，所述加热单元设置在外坩埚的外部，用于加热容纳于所述内坩埚内部的蒸镀材料使其达到熔化或升华温度以上的某一温度值。
2.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述弹簧机构控制所述内坩埚在所述外坩埚内的上升和下降，使得在蒸镀过程中，容纳于所述内坩埚内部的蒸镀材料的液面高度始终一致。
3.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述弹簧机构连接所述内坩埚的底部和所述外坩埚内侧的底部。
4.如权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，在蒸镀工艺开始前，所述内坩埚内放置有初始量的蒸镀材料，所述内坩埚及所述蒸镀材料压缩所述弹簧机构，所述弹簧机构产生压缩形变；随着蒸镀工艺的进行，所述蒸镀材料逐渐被消耗，所述弹簧机构的压缩形变逐渐变小，以推动所述内坩埚向上移动。
5.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，还包括缓冲机构，所述缓冲机构与所述弹簧机构一起连接所述内坩埚的底部和所述外坩埚内侧的底部，用于减少内坩埚可能出现的振动。
6.如权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述缓冲机构为阻尼器。
7.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述内坩埚及所述外坩埚采用陶瓷、石英、石墨、铬、铬合金、钛或钛合金材质制成。
8.如权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述外坩埚底部开小孔，用于保持内坩埚及外坩埚之间与蒸镀腔室内不存在压强差。
9.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述加热单元设置于所述蒸镀材料的液面上方或下方，并且所述加热单元和所述蒸镀材料的液面之间的距离保持不变。
10.如权利要求2所述的蒸镀设备，其特征在于，所述加热单元设置于机电机构上，在蒸镀前后所述加热单元的位置可由所述机电机构控制。
11.如权利要求6所述的蒸镀设备，其特征在于，所述阻尼器为粘滞阻尼器或无摩擦阻尼器。
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Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109468594A (zh) * | 2018-12-17 | 2019-03-15 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 用于制作有机发光二极管的蒸镀装置 |
| CN111424240A (zh) * | 2020-05-29 | 2020-07-17 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种蒸镀坩埚 |
| CN113481472A (zh) * | 2020-06-08 | 2021-10-08 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种蒸镀坩锅 |
| CN114015985A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-02-08 | 合肥维信诺科技有限公司 | 蒸镀设备 |
| CN114182209A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-03-15 | 福建华佳彩有限公司 | 一种oled材料蒸镀坩埚装置及其使用方法 |
| CN114231912A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-25 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种蒸镀装置及其控制方法 |
| CN114277339A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀源及蒸镀方法 |
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Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109468594A (zh) * | 2018-12-17 | 2019-03-15 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 用于制作有机发光二极管的蒸镀装置 |
| CN111424240A (zh) * | 2020-05-29 | 2020-07-17 | 云谷（固安）科技有限公司 | 一种蒸镀坩埚 |
| CN113481472A (zh) * | 2020-06-08 | 2021-10-08 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种蒸镀坩锅 |
| CN114015985A (zh) * | 2021-11-15 | 2022-02-08 | 合肥维信诺科技有限公司 | 蒸镀设备 |
| CN114015985B (zh) * | 2021-11-15 | 2024-05-07 | 合肥维信诺科技有限公司 | 蒸镀设备 |
| CN114231912A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-03-25 | 武汉天马微电子有限公司 | 一种蒸镀装置及其控制方法 |
| CN114277339A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-04-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 蒸镀源及蒸镀方法 |
| CN114182209A (zh) * | 2022-01-18 | 2022-03-15 | 福建华佳彩有限公司 | 一种oled材料蒸镀坩埚装置及其使用方法 |
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| GR01 | Patent grant | ||
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Granted publication date: 20180724 |