CN114015985A - 蒸镀设备 - Google Patents
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Abstract
本申请提供一种蒸镀设备，涉及蒸镀技术领域，用于解决坩埚存在加热不均匀而影响蒸镀效率及蒸镀质量的技术问题，该蒸镀设备包括加热装置及坩埚；加热装置包括具有容纳腔的壳本体，容纳腔内设置有导热液体；坩埚设置于容纳腔内，坩埚的加热区位于导热液体内，且导热液体能够为坩埚提供蒸镀所需的热量。本申请提供的蒸镀设备，能够对坩埚均匀加热，以提升蒸镀效率及蒸镀质量，从而在待蒸镀基板上形成厚度均一的蒸镀膜层。
Description
技术领域
本申请涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀设备。
背景技术
有机电致发光二极管(Organic Light Emitting Diode，简称OLED)器件具有宽视角、主动发光、功耗低等诸多优点，逐渐成为极具有发展前景的新一代显示技术；随着OLED显示器件的用途愈加广泛，其制作工艺也日趋成熟。
目前常采用蒸镀方式制作OLED显示器件中的有机膜层；现有的蒸镀设备包括坩埚、加热装置及盖板，其中，坩埚具有盛放形成有机膜层的有机蒸镀材料的蒸发腔，盖板盖设在坩埚上方，且盖板具有与蒸发腔连通的喷嘴；加热装置包括电阻丝，其可利用电阻丝对坩埚进行加热，以使蒸发腔内的固体有机蒸镀材料融为液态再升温为气态，并从喷嘴喷出，最后冷却于位于喷嘴上方的基板上，并在基板的表面上形成有机膜层。
然而，利用上述加热装置对坩埚进行加热时，坩埚存在加热不均匀的现象，从而影响蒸镀效率及蒸镀质量。
发明内容
鉴于上述问题，本申请实施例提供一种蒸镀设备，其能够解决坩埚加热不均匀的现象，以提升蒸镀效率及蒸镀质量。
为了实现上述目的，本申请实施例提供如下技术方案：
本申请实施例提供了一种蒸镀设备，用于在待蒸镀基板上形成蒸镀膜层，其包括加热装置及坩埚；所述加热装置包括具有容纳腔的壳本体，所述容纳腔内设置有导热液体；所述坩埚设置于所述容纳腔内，所述坩埚的加热区位于所述导热液体内，且所述导热液体能够为所述坩埚提供蒸镀所需的热量。
在一种可选的实施例中，所述加热装置还包括加热组件；所述壳本体为导热壳体，所述加热组件用于对所述壳本体进行加热。
在一种可选的实施例中，所述坩埚用于放置蒸镀材料；所述导热液体的沸点大于所述蒸镀材料的蒸发温度。
在一种可选的实施例中，所述导热液体包括将氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者混合于四甲基硅酸酯的混合物。
在一种可选的实施例中，所述坩埚漂浮在所述导热液体上；所述坩埚包括坩埚本体和盖板，所述坩埚本体内设置有蒸发腔，所述蒸发腔用于放置蒸发材料；所述坩埚本体的顶部具有与所述蒸发腔连通的敞口，所述盖板盖设在位于所述坩埚本体的敞口处，且所述盖板设置有开口。
在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括多个辅助浮体；所述辅助浮体为设置在所述坩埚本体的底面上的空心壳体；和/或，
所述蒸镀设备还包括可伸缩的密封板；所述密封板设置在所述坩埚与所述壳本体之间，用于密封所述坩埚与所述壳本体之间的缝隙。
在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括高度调节装置；所述高度调整装置用于调整所述坩埚相对所述壳本体的安装高度。
在一种可选的实施例中，所述高度调节装置包括调节板、立板及升降机构；所述立板设置在所述壳本体上，所述调节板的一侧滑动安装在所述立板上，所述调节板的另一侧与所述坩埚连接；所述升降机构设置于所述立板上，并带动所述调节板沿所述立板上下滑动；
优选的，所述升降机构包括丝杆、滑块及驱动电机；所述滑块套设在所述丝杆上，且所述滑块与所述调节板连接；所述驱动电机用于驱动所述丝杆转动，使得所述滑块沿所述立板上下移动。
在一种可选的实施例中，所述高度调节装置还包括控制单元及与其信号连接的液位检测装置；所述壳本体的侧壁设置有与所述容纳腔连通的液位检测口，所述液位检测装置的检测端安装在所述液位检测口；所述控制单元用于接收所述液位检测装置的液位变化值，以计算所述调节板的移动量H，并传输至所述驱动电机；所述驱动电机根据所述调节板的移动量H调整所述调节板的高度；
优选的，所述调节板的移动量H满足：H＝(1+K1-K2)·(H0-Ht)；
H0为初始时蒸镀材料的蒸发面与待蒸镀基板之间的距离符合蒸镀条件时，所述导热液体对应的液位；Ht为在至少一个待蒸镀基板上形成蒸镀膜层后，所述导热液体对应的液位；K1为蒸镀材料的蒸发面的下降高度H耗料与导热液体的液面下降高度H液降之间的比例系数；
K1＝H耗料/H液降＝ρ液S液/ρ料S耗料；
K2为坩埚整体上升高度H坩埚与导热液体的液面下降高度H液降之间的比例系数，其中，ρ液gS液H液降＝ρ坩埚整体gS坩埚H坩埚；
其中，ρ液为导热液体的密度，S液为壳本体内的横截面积；ρ料为蒸镀材料的密度；S耗料为蒸镀材料蒸发面的表面积；ρ坩埚整体为坩埚与蒸镀材料的总体重量与坩埚的体积的比值；S坩埚为坩埚的截面积。
在一种可选的实施例中，所述蒸镀设备还包括多个水平方向调整机构；沿所述壳本体的周向，各所述水平方向调整机构分别安装在所述壳本体的侧壁上；位于所述壳本体内的所述水平方向调整机构的一端与所述坩埚本体的侧壁抵接；
优选的，所述水平方向调整机构包括调节杆，所述调节杆与所述壳本体通过螺纹连接；所述调节杆远离所述坩埚本体的一端设置有旋钮，所述调节杆靠近所述坩埚的一端设置有导轮，且所述导轮与所述坩埚本体的侧壁抵接。
与相关技术相比，本申请实施例提供的蒸镀设备具有以下优点；
本申请实施例提供的蒸镀设备，其包括加热装置及坩埚；加热装置包括壳本体，壳本体具有容纳腔，容纳腔内设置有导热液体，坩埚设置在容纳腔内，且坩埚的加热区与导热液体接触，从而导热液体内的热量可为坩埚提供蒸镀所需的热量。
与相关技术中通过电阻丝直接对坩埚进行加热相比，本申请实施例中的加热装置利用导热液体对坩埚进行加热，导热液体内的热量可均匀传输至坩埚的加热区，可使坩埚的加热区受热均匀，可提升蒸镀效率及蒸镀质量。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本申请实施例提供的蒸镀装置与待蒸镀基板的布置示意图；
图2为本申请实施例提供的坩埚的结构示意图；
图3为本申请实施例提供的高度调节装置与坩埚的连接示意图；
图4为图3中的A处放大示意图；
图5为本申请实施例提供的水平方向调整机构、壳本体及坩埚的连接示意图；
图6为图5中B处放大示意图。
附图标记说明：
10-壳本体；
11-容纳腔；111-液位检测口；112-压强检测口；113-排压口；114-注液口；115-排液口；
20-坩埚；
21-坩埚本体；22-盖板；201-蒸发腔；221-开口；222-安装边；
30-导热液体；
40-密封板；
50-高度调节装置；
51-调节板；52-立板；53-升降机构；531-滑轨基座；532-滑块；
60-辅助浮体；
70-水平方向调整机构；
71-旋钮；72-调节杆；73-导轮；
80-蒸发面；
100-蒸镀设备；
200-基板。
具体实施方式
正如背景技术所述，相关技术中的蒸镀设备中的坩埚存在加热不均匀的现象，从而影响蒸镀效率及蒸镀质量的问题，经申请人研究发现，出现这种问题的原因在于，现有的加热装置通常由多个电阻丝缠绕而成，多个电阻丝形成的不同的加热区域，可对坩埚的加热区的各对应位置进行加热；但是加热装置长时间使用后，部分电阻丝会出现加热不良，导致不同加热区域所提供给坩埚的热量不同，从而造成坩埚的加热区受热不均匀，进而影响蒸镀效率及蒸镀质量。
针对上述技术问题，本申请实施例提供了一种蒸镀设备，其包括加热装置及坩埚；加热装置包括具有容纳腔的壳本体，容纳腔内设置有导热液体，坩埚设置在容纳腔内，并且坩埚的加热区与导热液体接触，导热液体能够为坩埚提供蒸镀所需的热量，导热液体中的热量可均匀传输至坩埚的加热区，以使坩埚的加热区受热均匀，可提升了蒸镀效率及蒸镀质量。
为了使本申请实施例的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动的前提下所获得的所有其它实施例，均属于本申请保护的范围。
如图1所示，本申请实施例提供的蒸镀设备100，蒸镀设备100安装在蒸镀室内，并用于制作显示器件的蒸镀膜层；例如，蒸镀室在蒸镀设备100上方设置有载板，以将待蒸镀基板200安装在载板上，从而使得待蒸镀基板200位于蒸镀设备100的上方，并与蒸镀设备100相对。
蒸镀设备100内放置有用于形成蒸镀膜层的蒸镀材料，蒸镀材料可以是形成显示器件的有机膜层的蒸镀材料。蒸镀设备100可对蒸镀材料进行加热，以使固态的蒸镀材料熔融，进一步升温并变化为气态蒸镀材料，气态蒸镀材料可从蒸镀设备100的顶部喷出，以在待蒸镀基板200的表面冷却并形成蒸镀膜层。
本实施例中的蒸镀设备100包括安装腔，安装腔内设置有加热装置和坩埚20。示例性地，蒸镀设备100包括加热台(图中未示出)，上述安装腔设置于加热台内，加热装置及坩埚20可安装在加热台的安装腔内。
本实施例的加热装置包括壳本体10，壳本体10设置有容纳腔11，坩埚20设置在容纳腔11内，容纳腔11的形状与可坩埚20的形状相匹配。例如，坩埚20可以是矩形坩埚，则壳本体10可以是矩形壳体，并具有矩形的容纳腔11，坩埚20可居中设置在容纳腔11内。当然，在一些实施例中，容纳腔11的形状也可根据实际需要进行设置，能够保证坩埚20安装于容纳腔11即可，本实施例对容纳腔11的形状不作限制。
如图2所示，坩埚20包括坩埚本体21及盖板22，坩埚本体21包括蒸发腔201，蒸发腔201用于盛放蒸镀材料；蒸发腔201与位于坩埚本体21顶部的敞口连通，蒸镀材料可呈水平填充在蒸发腔201内；盖板22盖设在坩埚本体21的敞口处，并密封蒸发腔201。
盖板22上设置有多个开口221，多个开口221可沿盖板22的长度方向间隔设置，每个开口221均与蒸发腔201连通，每个开口221处分别设置有喷嘴，由喷嘴喷出的气态蒸镀材料可喷射至位于其上方的待蒸镀基板200上，使得在待蒸镀基板200上形成蒸镀膜层。
壳本体10内设置有导热液体30，待坩埚20安装于壳本体10内时，坩埚20的加热区位于导热液体30内，即坩埚20的加热区浸入导热液体30内，导热液体30可以为坩埚20提供蒸镀所需的热量，且导热液体30内的热量可传输至坩埚20的加热区，以对坩埚20的加热区进行均匀加热。
例如，坩埚20的加热区可至少包括坩埚本体21的底面以及坩埚本体21的部分侧壁，部分侧壁与坩埚本体21的底面相连接；或者坩埚20的加热区为坩埚本体21的底面或者坩埚本体21的侧壁；本实施例对此不加以限制。优选地，加热区包括坩埚本体21的底面以及部分坩埚本体21的部分侧壁，如此设置，可提升坩埚本体21的加热面积，提升蒸镀效率。
需要说明的是，导热液体30常温下为液体，导热液体30的沸点大于蒸镀材料蒸发时所需的温度；例如，若蒸镀材料蒸发所需的温度为500℃，则导热液体30的沸点可在500℃以上。进一步地，导热液体30可以是由多种不同沸点的混合物组成且密度较大的液体，并通过调整不同混合物的混合比例，可调整导热液体30的沸点温度，其沸点温度大于500℃。
例如，导热液体30可以是将氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者混合于四甲基硅酸酯的混合物，即导热液体可包括四甲基硅酸酯，以及混合在四甲基硅酸酯中的氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者，并且可根据蒸镀材料的蒸发温度调整氢氧化钠、氢氧化钾的混合至四甲基硅酸酯的比例，以调整导热液体30的沸点温度。可理解的是，若蒸镀材料的蒸发温度小于400℃时，可选择加热油作为导热液体。
本实施例中当蒸镀设备100处于工作状态时，导热液体内的热量可传输至坩埚的加热区，并能够使坩埚20的加热区受热均匀，从而使得蒸镀材料加热均匀，可提升蒸镀设备的蒸镀效率及蒸镀质量。
进一步地，导热液体内的热量可来自壳本体10，即壳本体10可以是导热壳体，加热装置还包括加热组件，加热组件可以是电热阻丝，电热阻丝可布置在加热台的安装腔内，并位于壳本体10下方。加热组件可选择性地与壳本体10接触，其可采用热辐射的方式对壳本体10进行加热。例如，加热装置与壳本体10的底面接触，并将其热量通过壳本体10传输至导热液体30内，并且热量在导热液体30均匀分布。
在上述实施例的基础上，当坩埚20安装在壳本体10内时，壳本体10与坩埚20之间形成密封的容纳腔11。如此设置，可防止导热液体30受热蒸发形成的气态的导热液体30从容纳腔11内流出，而污染蒸镀膜层。
本实施例中坩埚20可漂浮在导热液体30上，沿坩埚20的高度方向，随着导热液体30的液面升降，坩埚20在壳本体10内上、下浮动，为实现对壳本体10与坩埚20之间的缝隙进行密封，本实施例提供的蒸镀设备100还包括可伸缩的密封板40，密封板40可采用波纹密封板制作；密封板40设置在坩埚20与壳本体10之间，用于密封坩埚20与壳本体10之间的缝隙。
在一种实施方式中，盖板22盖设在坩埚本体21的边缘处，且盖板22的边缘凸出坩埚本体21的边缘并形成安装边222。例如，盖板22为矩形盖板，坩埚本体21可以是矩形壳体，盖板22盖设在坩埚本体21的敞口处，且盖板22的周向边缘凸出于坩埚本体21并形成安装边222，安装边222可盖设在壳本体10上，密封板40设置在安装边222与壳本体10之间。
例如沿高度方向，密封板40的上侧与安装边222连接，并且两者之间保持密封；密封板40的下侧与壳本体10的敞口边缘连接，并且两者之间保持密封。如此设置，当坩埚20在导热液体30内上、下浮动时，密封板40可对安装边222与壳本体10之间缝隙进行密封，使得坩埚20与壳本体10之间始终保持密封。
本实施例提供的蒸镀设备还包括辅助浮体60，辅助浮体60设置在坩埚20的底部，辅助浮体60用于为坩埚20提供更多的浮力，以使坩埚20漂浮于导热液体30内。
具体地，蒸镀设备100包括多个辅助浮体60，辅助浮体60为具有空腔的壳体，以增大坩埚20的浮力。辅助浮体60可与坩埚本体21一体制作，辅助浮体60可以是由坩埚本体21的底面朝向外侧凸起的封闭的空心壳体。多个辅助浮体60可等间隔布置在坩埚20的底部，可使坩埚20受力均匀，使得坩埚20呈水平状态漂浮在导热液体30内。如此设置，可使位于坩埚20内的蒸镀材料的蒸发面80呈水平状态，使蒸发面80各位置到待蒸镀基板200的距离相等，提升形成在待蒸镀基板200的蒸镀膜层的各处厚度均一性。
在蒸镀的过程中，随着蒸镀材料的损耗，其质量逐渐下降；坩埚20在导热液体30内逐渐上浮，而导热液体30的液位逐渐下降；同时，蒸镀材料的蒸发面80在坩埚20内的高度也有所下降。因此，上浮后的坩埚20，蒸镀材料的蒸发面80所处的高度与初始设定的蒸发面80所处的高度(此高度为蒸镀刚开始时满足蒸镀条件的设定高度)之间存在高度差，因此为提升形成在各待蒸镀基板200上的蒸镀膜层的厚度均一性，需要对坩埚20在壳本体10内的安装高度进行调整。
例如，上浮后的坩埚20，位于其蒸发腔内的蒸镀材料的蒸发面80所处的高度低于初始设定的蒸发面80所处的高度，需要对坩埚20的高度进行调整，以使调整后的蒸发腔内的蒸镀材料的蒸发面80所处的高度与初始设定的蒸发面80所处的高度一致。
如图3和图4所示，本实施例提供的蒸镀设备100还包括高度调节装置50，高度调节装置50安装在安装腔内，并位于壳本体10的外侧。高度调节装置50用于调整坩埚20在壳本体10内的安装高度，从而可调整蒸镀材料的蒸发面80与待蒸镀基板200之间的距离，以使得两者之间的距离满足初始时符合蒸镀条件的设定的距离，以提升形成在各蒸镀基板上的蒸镀膜层的厚度均一性。
具体地，本实施例提供的高度调节装置50包括调节板51、立板52及升降机构53；其中，立板52可垂直安装在安装腔内，并且立板52位于壳本体10的外侧；或者立板52安装在壳本体10上，即立板52可安装在壳本体10的外侧壁上。调节板51的一侧连接在立板52上，并相对立板52可滑动，以使调节板51在立板52上的高度可调；调节板51的另一侧与坩埚20连接，例如，调节板51的另一侧可与坩埚20的安装边222连接。
升降机构53安装在立板52上，并且升降机构53与调节板51连接，并为调节板51提供驱动力，以使调节板51在立板52上滑动，从而调整调节板51的高度，进一步可调整坩埚20在壳本体10内的安装高度，从而可对蒸镀材料的蒸发面80与待蒸镀基板200之间的距离进行调整。
进一步地，上述升降机构53可以是滚珠直线滑轨机构，其包括丝杆(图中未示出)、滑块532、驱动电机(图中未示出)以及滑轨基座531，滑轨基座531固定在立板52朝向坩埚本体21的一侧，并且滑轨基座531的长度方向与立板52的高度方向一致。驱动电机安装在滑轨基座531的底端，并且驱动电机的驱动端与丝杆连接，丝杆的长度方向与上述滑轨基座531的长度方向一致，并且丝杆转动设置在滑轨基座531上。
滑块532套设在丝杆上，并且滑块532与丝杆之间设置有滚珠，以降低两者之间的摩擦力，以使滑块532可沿丝杆自由滑动。当丝杆转动时，滑块532可沿丝杆的轴向上、下移动。滑块532与调节板51固定连接，当滑块532在丝杆上移动时，调节板51的高度可调，从而可调整坩埚20的整体高度。
利用本实施例提供的高度调节装置50调整坩埚20的高度过程如下：
首先，将具有蒸镀材料的坩埚20放入壳本体10内，使坩埚20处于漂浮状态；此时，坩埚20及调节板51的重力小于导热液体30的浮力，调节板51可沿丝杆上自由滑动，不受驱动电机的驱动力等影响，记录此时导热液体30的高度H0。
其次，待加热装置对蒸镀材料进行加热，并且在至少一个待蒸镀基板200上形成有机膜层后，可对坩埚20高度进行调整；使坩埚20再次处于漂浮状态，记录此时的导热液体30的高度为Ht，并计算坩埚20所需上升高度。
当蒸镀材料被消耗后，坩埚20会上升并且导热液体30的液位会下降，则根据质量守恒原理，蒸镀材料消耗部分所具有的重力等于导热液体30的体积变化产生的浮力，即ρ液gS液H液降＝ρ料gS耗料H耗料，其中，ρ液为导热液体的密度；S液为壳本体内的横截面积；ρ料为蒸镀材料的密度；S耗料为蒸镀材料蒸发面的表面积，由于因ρ液、S液、ρ料、S耗料为定值，即H液降与H耗料为线性关系，可求出K1＝H耗料/H液降＝ρ液S液/ρ料S耗料，即可以简化为H耗料＝K1·H液降，其中，K1为定值。
再者将坩埚和坩埚内的蒸镀材料视为一个整体，在蒸镀过程中坩埚上升时导热液体30的体积变化产生的浮力等于坩埚整体的重力变化，即ρ液gS液H液降＝ρ坩埚整体gS坩埚H坩埚，其中，ρ坩埚整体为坩埚与蒸镀材料的总体重量与坩埚的体积的比值；S坩埚为坩埚的截面积；由于ρ液、S液、ρ坩埚整体、S坩埚为定值，因此H坩埚与H液降为线性关系，可求出K2值，即可以简化为H坩埚＝K2·H液降，其中，K2为定值。
因此，坩埚20所需调节的高度(使蒸发面80恢复至初始时设定的高度)即调节板51所需的上升高度H＝H液降+H料降-H坩埚＝H液降+K1·H液降-K2·H液降＝(1+K1-K2)·H液降，即H＝(1+K1-K2)·(H0-Ht)。
在利用高度调节装置50对坩埚20的高度进行调整时，需计算导热液体30的液位变化，因此本实施例提供的蒸镀设备100还包括液位检测装置以及控制单元，其中，液位检测装置用于检测导热液体30的液位变化，控制单元根据液位变化计算调节板51所需的调整高度H，并将调节板51所需调整的高度H传输至驱动电机，以调整调节板51的高度，从而调整坩埚20内的蒸镀材料的蒸发面80与待蒸镀基板200的之间的距离。
如图5所示，本实施例提供的壳本体10的侧壁设置有液位检测口111，且液位检测口111与容纳腔11连通。液位检测装置包括检测端，检测端安装在液位检测口111处，并用于检测容纳腔11内的导热液体30的液位变化。液位检测装置的检测端与控制单元信号连接，可将检测的导热液体30的液位变化值传输至控制单元。
控制单元根据液位变化值可计算调节板51所需的调整高度H，并将调节板51所需的调整高度H传输至滚珠直线滑轨机构的驱动电机，从而驱动电机动作，并带动丝杆旋转，可带动调节板51上升或下降，进一步带动坩埚20在导热液体30内移动，以使得坩埚20内的蒸镀材料的蒸发面80与待蒸镀基板200之间的距离符合蒸镀开始时设定的距离，以保证形成在各基板200上的蒸镀膜层的厚度均一。
继续参阅图5，在上述实施例的基础上，为进一步提升基板200上的蒸镀膜层各区域的厚度均一，需将坩埚20居中设置在壳本体10内。为此，本申请实施例在壳本体10与坩埚20之间设置有水平方向调整机构70，水平方向调整机构70用于调整坩埚20在壳本体10内的位置。
本实施例提供的蒸镀设备100包括多个水平方向调整机构70，多个水平方向调整机构70沿壳本体10的周向间隔布置，且每个水平方向调整机构70安装在壳本体10的侧壁上，且水平方向调整机构70位于壳本体10内的端部与坩埚本体21的侧壁抵接，通过调整水平方向调整机构70的端部相对壳本体10的位置，从而达到调整坩埚20在壳本体10内的漂浮位置。
示例性地，壳本体10为矩形壳体，多个水平方向调整机构70可分布布置在壳本体10的每个侧壁上；例如，蒸镀设备100包括四个水平方向调整机构70，四个水平方向调整机构70沿壳本体10均匀间隔布置，且每个壳本体10的侧壁上分别设置有一个水平方向调整机构70，在一组相对设置的侧壁上，两个水平方向调整机构70相对设置。
如图6所示，水平方向调整机构70包括调节杆72、旋钮71和导轮73，其中，旋钮71和导轮73分别安装在调节杆72的两端，调节杆72垂直于壳本体10的侧壁安装，壳本体10设置有螺纹孔，调节杆72设置有与上述螺纹孔配合的螺纹，调节杆72通过螺纹安装在螺纹孔内，并且调节杆72伸入壳本体10内的长度可调。
旋钮71位于壳本体10外，转动旋钮71可调整调节杆72在壳本体10内的延伸长度；导轮73位于壳本体10内，并且导轮73用于与坩埚本体21的侧壁抵接，如此设置，可减少水平方向调整机构70与坩埚本体21之间的摩擦力，防止坩埚本体21的侧壁受损。
当需要对坩埚20在壳本体10内的位置进行调整时，可通过转动旋钮71以使得调节杆72远离旋钮71的一端朝向坩埚本体21移动或者远离坩埚本体21移动，进而调整坩埚本体21在壳本体10地位置，使坩埚本体21居中位于壳本体10内；同时，上述调整机构可对坩埚本体21进行夹持限位，可保证坩埚本体21在导热液体30漂浮时的稳定性，进一步提升各基板200上的蒸镀膜层的厚度均一性。
继续参阅图5，需要说明的是，壳本体10上不仅设置有水平方向调整机构70及液位检测口111；根据需要壳本体10还设置有排液口115、注液口114、排压口113以及压强检测口112，相应地，蒸镀设备100还包括压强检测装置及排压阀，压强检测装置的检测端设置在压强检测口112，排压阀设置在排液口15处；压强检测装置的检测端及排压阀分别与控制单元信号连接。
压强检测装置的检测端将检测的实际压强值传输至控制单元；控制单元将预设的蒸镀所需的压强值与实际压强值进行比较后，选择性地打开排压阀，以进行泄压。例如，当壳本体10内的实际压强值大于预设的蒸镀所需的压强值时，则控制单元控制排压打开，以降低壳本体10内的压强。需要说明的是，上述注液口114及排液口115用于对壳本体10内的导热液体进行补充或者更换。
本说明书中各实施例或实施方式采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分相互参见即可。
应当指出，在说明书中提到的“一个实施例”、“实施例”、“示例性实施例”、“一些实施例”等表示所述的实施例可以包括特定特征、结构或特性，但未必每个实施例都包括该特定特征、结构或特性。此外，这样的短语未必是指同一实施例。此外，在结合实施例描述特定特征、结构或特性时，结合明确或未明确描述的其他实施例实现这样的特征、结构或特性处于本领域技术人员的知识范围之内。
一般而言，应当至少部分地由语境下的使用来理解术语。例如，至少部分地根据语境，文中使用的术语“一个或多个”可以用于描述单数的意义的任何特征、结构或特性，或者可以用于描述复数的意义的特征、结构或特性的组合。类似地，至少部分地根据语境，还可以将诸如“一”或“所述”的术语理解为传达单数用法或者传达复数用法。
此外，文中为了便于说明可以使用空间相对术语，例如，“下面”、“以下”、“下方”、“以上”、“上方”等，以描述一个元件或特征相对于其他元件或特征的如图所示的关系。空间相对术语意在包含除了附图所示的取向之外的处于使用或操作中的器件的不同取向。装置可以具有其他取向(旋转90度或者处于其他取向上)，并且文中使用的空间相对描述词可以同样被相应地解释。
最后应说明的是：以上各实施例仅用以说明本申请的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述各实施例对本申请进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分或者全部技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本申请各实施例技术方案的范围。
Claims (10)
1.一种蒸镀设备，用于在待蒸镀基板上形成蒸镀膜层，其特征在于，所述蒸镀设备包括加热装置及坩埚；
所述加热装置包括具有容纳腔的壳本体，所述容纳腔内设置有导热液体；
所述坩埚设置于所述容纳腔内，所述坩埚的加热区位于所述导热液体内，且所述导热液体能够为所述坩埚提供蒸镀所需的热量。
2.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述加热装置还包括加热组件；
所述壳本体为导热壳体，所述加热组件用于对所述壳本体进行加热。
3.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚用于放置蒸镀材料；
所述导热液体的沸点大于所述蒸镀材料的蒸发温度。
4.根据权利要求3所述的蒸镀设备，其特征在于，所述导热液体包括将氢氧化钠、氢氧化钾中的至少一者混合于四甲基硅酸酯的混合物。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的蒸镀设备，其特征在于，所述坩埚漂浮在所述导热液体上；
所述坩埚包括坩埚本体和盖板，所述坩埚本体内设置有蒸发腔，所述蒸发腔用于放置蒸发材料；
所述坩埚本体的顶部具有与所述蒸发腔连通的敞口，所述盖板盖设在位于所述坩埚本体的敞口处，且所述盖板设置有开口。
6.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括多个辅助浮体；
所述辅助浮体为设置在所述坩埚本体的底面上的空心壳体；
和/或，所述蒸镀设备还包括可伸缩的密封板；
所述密封板设置在所述坩埚与所述壳本体之间，用于密封所述坩埚与所述壳本体之间的缝隙。
7.根据权利要求1所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括高度调节装置；
所述高度调整装置用于调整所述坩埚相对所述壳本体的安装高度。
8.根据权利要求7所述的蒸镀设备，其特征在于，所述高度调节装置包括调节板、立板及升降机构；
所述立板设置在所述壳本体上，所述调节板的一侧滑动安装在所述立板上，所述调节板的另一侧与所述坩埚连接；
所述升降机构设置于所述立板上，并带动所述调节板沿所述立板上下滑动；
优选的，所述升降机构包括丝杆、滑块及驱动电机；
所述滑块套设在所述丝杆上，且所述滑块与所述调节板连接；
所述驱动电机用于驱动所述丝杆转动，使得所述滑块沿所述立板上下移动。
9.根据权利要求8所述的蒸镀设备，其特征在于，所述高度调节装置还包括控制单元及与其信号连接的液位检测装置；
所述壳本体的侧壁设置有与所述容纳腔连通的液位检测口，所述液位检测装置的检测端安装在所述液位检测口；
所述控制单元用于接收所述液位检测装置的液位变化值，以计算所述调节板的移动量H，并传输至所述驱动电机；
所述驱动电机根据所述调节板的移动量H调整所述调节板的高度；
优选的，所述调节板的移动量H满足：H＝(1+K1-K2)·(H0-Ht)；
H0为初始时蒸镀材料的蒸发面与待蒸镀基板之间的距离符合蒸镀条件时，所述导热液体对应的液位；Ht为在至少一个待蒸镀基板上形成蒸镀膜层后，所述导热液体对应的液位；K1为蒸镀材料的蒸发面的下降高度H耗料与导热液体的液面下降高度H液降之间的比例系数；
K1＝H耗料/H液降＝ρ液S液/ρ料S耗料；
K2为坩埚整体上升高度H坩埚与导热液体的液面下降高度H液降之间的比例系数，其中，ρ液gS液H液降＝ρ坩埚整体gS坩埚H坩埚；
其中，ρ液为导热液体的密度，S液为壳本体内的横截面积；ρ料为蒸镀材料的密度；S耗料为蒸镀材料蒸发面的表面积；ρ坩埚整体为坩埚与蒸镀材料的总体重量与坩埚的体积的比值；S坩埚为坩埚的截面积。
10.根据权利要求5所述的蒸镀设备，其特征在于，所述蒸镀设备还包括多个水平方向调整机构；
沿所述壳本体的周向，各所述水平方向调整机构分别安装在所述壳本体的侧壁上；
位于所述壳本体内的所述水平方向调整机构的一端与所述坩埚本体的侧壁抵接；
优选的，所述水平方向调整机构包括调节杆，所述调节杆与所述壳本体通过螺纹连接；
所述调节杆远离所述坩埚本体的一端设置有旋钮，所述调节杆靠近所述坩埚的一端设置有导轮，且所述导轮与所述坩埚本体的侧壁抵接。
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