CN207502916U - 光刻装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光刻装置。所述光刻装置，包括一上端开口的腔体，还包括锥形盖板；所述锥形盖板的底部与所述腔体连接，用于封闭所述腔体的开口；所述锥形盖板的底部还连接有至少一容纳腔，用于接收沿所述锥形盖板的侧面滑落的光刻胶溶剂。本实用新型避免了冷凝的光刻胶溶剂从盖板滴落而对晶圆造成的污染，延长了光刻装置的清洗周期，从而降低了晶圆制造的成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种光刻装置。
背景技术
随着智能手机、平板电脑等移动终端向小型化、智能化、节能化的方向发展，芯片的高性能、集成化趋势明显，促使芯片制造企业积极采用先进工艺，对制造出更快、更省电的芯片的追求愈演愈烈。尤其是许多无线通讯设备的主要元件需用40nm以下先进半导体技术和工艺，因此对先进工艺产能的需求较之以往显著上升，带动集成电路厂商不断提升工艺技术水平，通过缩小晶圆水平和垂直方向上的特征尺寸以提高芯片性能和可靠性，以及通过3D结构改造等非几何工艺技术和新材料的运用来影响晶圆的电性能等方式实现硅集成的提高，以迎合市场需求。然而，这些技术的革新或改进都是以晶圆的生成、制造为基础。
晶圆是指硅半导体集成电路制作所用的硅晶片，由于其形状为圆形，故称为晶圆。在硅晶片上可加工、制作成各种电路元件结构，而称为有特定电性功能的集成电路产品。
光刻是晶圆制造过程中的一个关键步骤，其主要作用是将掩膜版上的图形复制到晶圆上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。一般的光刻工艺要经过清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等工序。在光刻的过程中需要使用光刻胶，而光刻胶中含量最大的成分便是溶剂。
附图1是现有技术中光刻装置的结构示意图。如图1所示，现有的光刻装置包括一腔体11、以及位于所述腔体11内部的承载台13，所述腔体11的上端具有一盖板12，用以封闭所述腔体11。在进行光刻的过程中，晶圆14置于承载台13上，光刻胶涂敷在所述晶圆14表面。在对所述晶圆14加热的过程中，光刻胶中的溶剂会受热挥发，为了能够将受热挥发的溶剂及时排出，在所述盖板12上设置有多个开口121。但是，仍然会有部分溶剂凝结在所述盖板12的内侧面。经过长时间的累积，不仅造成光刻装置清洗困难，而且过多凝结的溶剂会在烘烤过程中掉落在晶圆表面，对晶圆造成污染，影响晶圆产品的质量。
实用新型内容
本实用新型提供一种光刻装置，用以解决现有技术中光刻胶中的溶剂因受热挥发而易对晶圆造成污染的问题，同时延长光刻装置的清洗周期。
为了解决上述问题，本实用新型提供了一种光刻装置，包括一上端开口的腔体，还包括锥形盖板；所述锥形盖板的底部与所述腔体连接，用于封闭所述腔体的开口；所述锥形盖板的底部还连接有至少一容纳腔，用于接收沿所述锥形盖板的侧面滑落的光刻胶溶剂。
优选的，所述锥形盖板的顶角角度为60°～170°。
优选的，所述锥形盖板为圆锥形盖板或棱锥形盖板。
优选的，所述锥形盖板为圆锥形盖板，且所述圆锥形盖板的母线长度为150mm～500mm。
优选的，所述锥形盖板与所述容纳腔采用一体成型工艺制作而成。
优选的，所述锥形盖板的底部与所述容纳腔为可拆卸连接。
优选的，至少一容纳腔包括多个容纳腔，且多个容纳腔关于所述锥形盖板的轴线对称设置。
优选的，所述容纳腔为一长度、高度、宽度均为3cm的凹槽。
优选的，所述锥形盖板的侧面设置有多个排气孔，用于排出受热挥发的光刻胶溶剂。
优选的，所述锥形盖板与所述容纳腔均采用不锈钢材质制作而成。
本实用新型提供的光刻装置，通过将光刻装置中的盖板由平板状改为锥形形状，并在锥形盖板的底部增加用于接收光刻胶溶剂的容纳腔，使得冷凝在锥形盖板内侧面的光刻胶溶剂能够沿锥形盖板的侧面滑下，并最终被所述容纳腔收集，避免了冷凝的光刻胶溶剂从盖板滴落而对晶圆造成的污染，延长了光刻装置的清洗周期，从而降低了晶圆制造的成本。
附图说明
附图1是现有技术中光刻装置的结构示意图；
附图2是本实用新型具体实施方式中光刻装置的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型提供的光刻装置的具体实施方式做详细说明。
本具体实施方式提供了一种光刻装置，附图2是本实用新型具体实施方式中光刻装置的结构示意图。如图2所示，本具体实施方式提供的光刻装置，包括一上端开口的腔体21，所述腔体21中设置有一承载台23，所述承载台23用于承载晶圆24。在光刻过程中，光刻胶被涂敷于所述晶圆24表面，光刻胶中的溶剂受热会挥发。为了避免挥发的光刻胶溶剂对所述晶圆24的表面造成污染，本具体实施方式提供的光刻装置还包括锥形盖板22；所述锥形盖板22的底部与所述腔体21连接，用于封闭所述腔体21的开口。这样，将所述晶圆置于了由所述腔体21与所述锥形盖板22构成的密闭空间内，避免外界环境对光刻工艺的影响。其中，所述锥形盖板22与所述腔体21的连接方式，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，本领域技术人员可以根据实际需要进行设置。所述锥形盖板22的底部还连接有至少一容纳腔25，用于接收沿所述锥形盖板22的侧面滑落的光刻胶溶剂。具体来说，当光刻胶溶剂受热挥发遇到温度较低的锥形盖板22后，会冷凝为附着于所述锥形盖板侧面的小液滴，这些小液滴在重力的作用下会沿所述锥形盖板22的侧面滑落，并最终被位于所述锥形盖板底部的所述容纳腔25接收。这样，一方面，有效避免了冷凝的光刻胶溶剂掉落于所述晶圆24的表面而对晶圆造成污染的问题；另一方面，减少了光刻胶溶剂在所述锥形盖板22上的聚集，减少了锥形盖板的清洗次数，延长了光刻装置的清洗周期，从而降低了晶圆制造的成本。
在本具体实施方式中，所述锥形盖板22的顶角λ的角度值不宜过小也不宜过大，这是因为：顶角λ的角度值过大，仍可能造成部分光刻胶溶剂滴落于所述晶圆24的表面，导致晶圆24的污染；顶角λ的角度值过小，为了能够封闭所述腔体21的开口，必定需要大大增加所述锥形盖板22的尺寸，最终导致光刻装置整体的体积过大，占地面积过大。在具体的使用过程中，本领域技术人员可以采用溶剂含量最大的光刻胶进行恶化实验，以光刻胶溶剂在盖板表面凝结后不会滴落的最小角度作为锥形盖板的顶角角度值。为了扩大本具体实施方式提供的光刻装置的应用范围，优选的，所述锥形盖板22的顶角λ角度为60°～170°。
优选的，所述锥形盖板22为圆锥形盖板或棱锥形盖板。为了扩大本具体实施方式提供的光刻装置的应用范围，更优选的，所述锥形盖板22为圆锥形盖板，且所述圆锥形盖板的母线长度为150mm～500mm。
为了简化制造工艺，优选的，所述锥形盖板22与所述容纳腔25采用一体成型工艺制作而成。
在本具体实施方式中，所述锥形盖板22与所述容纳腔25之间的连接方式可以是固定连接，也可以是可拆卸连接。为了便于对所述容纳腔25进行清洗，优选的，所述锥形盖板22的底部与所述容纳腔25为可拆卸连接。其中，所述锥形盖板22的底部与所述容纳腔25可拆卸连接的具体方式，可以是螺接或卡接，本领域技术人员可以根据实际需要进行选择。
优选的，至少一容纳腔包括多个容纳腔，且多个容纳腔关于所述锥形盖板22的轴线对称设置。这样，可以更充分的接收从所述锥形盖板22的侧面滑落的光刻胶溶剂，进一步避免了冷凝的光刻胶溶剂滴落到所述晶圆24的表面。所述容纳腔25的具体形状，本领域技术人员可以根据实际需要进行设置。为了简化制造工艺，优选的，所述容纳腔25为一长度、高度、宽度均为3cm的凹槽。为了进一步降低成本，且便于对所述锥形盖板22和所述容纳腔25进行清洗，优选的，所述锥形盖板22与所述容纳腔25均采用不锈钢材质制作而成。
优选的，所述锥形盖板22的侧面设置有多个排气孔221，用于排出受热挥发的光刻胶溶剂。采用这种结构，可以及时的排出部分受热挥发的光刻胶溶剂，减少了光刻胶溶剂在所述锥形盖板22表面的冷凝聚集。
本具体实施方式提供的光刻装置，通过将光刻装置中的盖板由平板状改为锥形形状，并在锥形盖板的底部增加用于接收光刻胶溶剂的容纳腔，使得冷凝在锥形盖板内侧面的光刻胶溶剂能够沿锥形盖板的侧面滑下，并最终被所述容纳腔收集，避免了冷凝的光刻胶溶剂从盖板滴落而对晶圆造成的污染，延长了光刻装置的清洗周期，从而降低了晶圆制造的成本。
以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本实用新型的保护范围。
Claims (10)
1.一种光刻装置，包括一上端开口的腔体，其特征在于，还包括锥形盖板；所述锥形盖板的底部与所述腔体连接，用于封闭所述腔体的开口；所述锥形盖板的底部还连接有至少一容纳腔，用于接收沿所述锥形盖板的侧面滑落的光刻胶溶剂。
2.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板的顶角角度为60°～170°。
3.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板为圆锥形盖板或棱锥形盖板。
4.根据权利要求3所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板为圆锥形盖板，且所述圆锥形盖板的母线长度为150mm～500mm。
5.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板与所述容纳腔采用一体成型工艺制作而成。
6.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板的底部与所述容纳腔为可拆卸连接。
7.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，至少一容纳腔包括多个容纳腔，且多个容纳腔关于所述锥形盖板的轴线对称设置。
8.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述容纳腔为一长度、高度、宽度均为3cm的凹槽。
9.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板的侧面设置有多个排气孔，用于排出受热挥发的光刻胶溶剂。
10.根据权利要求1所述的光刻装置，其特征在于，所述锥形盖板与所述容纳腔均采用不锈钢材质制作而成。
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| CN201721718023.1U CN207502916U (zh) | 2017-12-11 | 2017-12-11 | 光刻装置 |
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| CN110941143A (zh) * | 2018-09-21 | 2020-03-31 | 长鑫存储技术有限公司 | 光阻旋涂装置以及光阻旋涂方法 |
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- 2017-12-11 CN CN201721718023.1U patent/CN207502916U/zh active Active
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