CN214320625U - 一种晶圆自动化涂源装置 - Google Patents
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- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims abstract description 62
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract description 26
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 19
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 38
- 239000007921 spray Substances 0.000 claims description 30
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 21
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种晶圆自动化涂源装置，包括传送带和装有扩散源的喷雾装置；还包括，喷雾室壳体，配置于该传送带上方；支架，固定于该喷雾室壳体内壁；锁定机构，与该喷雾装置连接；该喷雾装置枢接于支架，该喷雾装置可绕其枢接中心转动，该锁定机构用于该喷雾装置与该支架之间的相对转动。本实用新型能够根据生产实际调整喷涂角度，以获得所需的涂覆效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片加工技术领域，具体而言，涉及一种晶圆自动化涂源装置。
背景技术
在半导体行业，快恢复二极管通过向硅中掺杂铂/金元素降低少数载流子寿命，以满足电路对器件的开关频率需求。铂/金扩散源为液态扩散源，传统的使用方法是扩散前在晶圆表面涂覆扩散源，方法是将晶圆放置在旋转涂布机吸头上，开始旋转时用毛笔蘸取扩散源，从晶圆中心刷向边缘。
现有已公开的专利名称为“一种晶圆自动化涂源装置”、公开号为CN205984910U的中国实用新型专利，该专利设置用于传送晶圆的传送带，沿该传送带传送方向依次设置有喷雾装置和烘干器，该专利使用时通过气压将扩散源经喷雾装置喷出，晶圆由传送皮带承载快速通过喷雾装置下方和烘干器，即可获得涂层均匀性较高的晶圆，大大提高了涂源效率。而且自动化涂源替代人工作业,涂源均匀，一致性好，扩散后器件的逆向恢复时间(TRR)差异小,大幅度提高了铂/金扩散品质。
但是，上述专利无法根据生产实际调整喷涂角度，以获得所需的涂覆效果。
实用新型内容
本实用新型的目的包括提供一种晶圆自动化涂源装置，其针对晶圆自动化涂源装置而设计，能够根据生产实际调整喷涂角度，以获得所需的涂覆效果。
本实用新型的实施例通过以下技术方案实现：
一种晶圆自动化涂源装置，包括传送带和装有扩散源的喷雾装置；还包括，喷雾室壳体，配置于该传送带上方；支架，固定于该喷雾室壳体内壁；锁定机构，与该喷雾装置连接；该喷雾装置枢接于支架，该喷雾装置可绕其枢接中心转动，该锁定机构用于该喷雾装置与该支架之间的相对转动。
在本实用新型的一实施例中，还包括，水帘装置，配置于该喷雾室壳体、用于向该喷雾室壳体侧壁喷水。
在本实用新型的一实施例中，还包括，烘干装置，用于烘干涂源后的晶圆。
在本实用新型的一实施例中，烘干室壳体，配置于所述传送带上方；所述烘干装置固定于该烘干室壳体内。
在本实用新型的一实施例中，所述喷雾装置配置有与所述支架连接的螺杆；所述锁定机构配置为锁定螺母，该锁定螺母螺纹连接于该螺杆。
在本实用新型的一实施例中，所述水帘装置包括水帘喷嘴和水帘管架，该水帘管架固定于所述喷雾室壳体顶部，该水帘管架靠近该喷雾室壳体侧壁设置，该水帘喷嘴配置于该水帘管架。
在本实用新型的一实施例中，还包括，放片装置，配置于所述传送带的输入端；收片装置，配置于所述传送带的输出端。
在本实用新型的一实施例中，所述喷雾装置配置有喷雾喷嘴。
在本实用新型的一实施例中，所述烘干装置配置为具有强制排风的红外线烘干器。
本实用新型实施例的技术方案至少具有如下优点和有益效果：
本实用新型实施例通过设置喷雾室壳体，在喷雾室壳体内设置支架，在喷雾装置上设置螺杆，利用螺杆实现与支架的枢接，并利用锁定螺母实现喷雾装置的锁定，在实际生产时，可根据晶圆表面涂层的涂覆效果调整喷雾装置的喷涂角度，以获得所需的涂覆效果。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1为本实用新型的结构示意图。
图标：1-传送带，2-喷雾装置，21-喷雾喷嘴，31-喷雾室壳体，32-支架，4-水帘装置，42-水帘管架，5-放片装置，6-收片装置，7-烘干装置， 8-烘干室壳体，9-晶圆。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。通常在此处附图中描述和示出的本实用新型实施例的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
因此，以下对在附图中提供的本实用新型的实施例的详细描述并非旨在限制要求保护的本实用新型的范围，而是仅仅表示本实用新型的选定实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，若出现术语“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该实用新型产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。
在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，若出现术语“设置”、“安装”、“配置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
请参照图1，一种晶圆自动化涂源装置，包括传送带1和装有扩散源的喷雾装置2；还包括，喷雾室壳体31，配置于该传送带1上方；支架32，固定于该喷雾室壳体31内壁；锁定机构，与该喷雾装置2连接；该喷雾装置2枢接于支架32，该喷雾装置2可绕其枢接中心转动，该锁定机构用于该喷雾装置2与该支架32之间的相对转动。
为了实现根据生产实际调整喷涂角度，以获得所需的涂覆效果，本技术方案设置喷雾室壳体31和固定于该喷雾室壳体31内壁的支架32，所述喷雾装置2配置有与所述支架32连接的螺杆；所述锁定机构配置为锁定螺母，该锁定螺母螺纹连接于该螺杆。所述喷雾装置2配置有喷雾喷嘴21，喷雾装置2中装有扩散源，而且可以与外部高压气源连通。支架32设置有通孔，喷雾装置2的螺杆穿过通孔，并利用锁定螺母实现喷雾装置2与支架32的锁定。本技术方案通过设置喷雾室壳体31，在喷雾室壳体31内设置支架32，在喷雾装置2上设置螺杆，利用螺杆实现与支架32的枢接，并利用锁定螺母实现喷雾装置2的锁定，在实际生产时，可根据晶圆9表面涂层的涂覆效果调整喷雾装置2的喷涂角度，以获得所需的涂覆效果。而且本技术方案通过设置喷雾室壳体31，将喷雾装置2罩于喷雾室壳体31中，使喷雾仅限于在喷雾室壳体31中流动，提高扩散源小液滴落至晶圆9表面的几率，有利于提高涂层的成型率。
在某些实施例中，还包括水帘装置4，配置于该喷雾室壳体31、用于向该喷雾室壳体31侧壁喷水。所述水帘装置4包括水帘喷嘴和水帘管架42，该水帘管架42固定于所述喷雾室壳体31顶部，该水帘管架42靠近该喷雾室壳体31侧壁设置，该水帘喷嘴配置于该水帘管架42。为了对喷雾室中弥漫的没有被有效利用的扩散源喷雾进行处理，本技术方案在喷雾室壳体31 内设置包括水帘喷嘴的水帘装置4，水帘管架42采用水管制成，水帘喷嘴安装于该水帘管架42，该水帘管架42与外部水源连通，水帘喷嘴向喷雾室壳体31侧壁喷水，在喷雾室壳体31侧壁形成自上而下流动的水帘，喷雾室壳体31中弥漫的没有被有效利用的扩散源喷雾溶于水或与水混合，利用水吸收未被利用的扩散源喷雾。需要说明的是，喷雾室壳体31底配套设置有集水结构，用于收集溶解有扩散源的水，并且能够实现水的外排。
在本实用新型的实施例中，还包括烘干装置7，用于烘干涂源后的晶圆 9。还包括烘干室壳体8，配置于所述传送带1上方；所述烘干装置7固定于该烘干室壳体8内。所述烘干装置7配置为具有强制排风的红外线烘干器。还包括放片装置5，配置于所述传送带1的输入端；收片装置6，配置于所述传送带1的输出端。通过放片装置5将晶圆9放置到传送带1上输送，再由传送带1上方的喷雾装置2在晶圆9上喷洒扩散源，再由烘干装置7将晶圆9表层的扩散源烘干，然后输送到收片装置6中。
以上仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种晶圆自动化涂源装置，包括传送带和装有扩散源的喷雾装置；
其特征在于还包括，
喷雾室壳体，配置于该传送带上方；
支架，固定于该喷雾室壳体内壁；
锁定机构，与该喷雾装置连接；
该喷雾装置枢接于支架，该喷雾装置可绕其枢接中心转动，该锁定机构用于该喷雾装置与该支架之间的相对转动。
2.根据权利要求1所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于还包括，
水帘装置，配置于该喷雾室壳体、用于向该喷雾室壳体侧壁喷水。
3.根据权利要求1所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于还包括，
烘干装置，用于烘干涂源后的晶圆。
4.根据权利要求3所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于还包括，
烘干室壳体，配置于所述传送带上方；
所述烘干装置固定于该烘干室壳体内。
5.根据权利要求1所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于，
所述喷雾装置配置有与所述支架连接的螺杆；
所述锁定机构配置为锁定螺母，该锁定螺母螺纹连接于该螺杆。
6.根据权利要求2所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于，
所述水帘装置包括水帘喷嘴和水帘管架，
该水帘管架固定于所述喷雾室壳体顶部，该水帘管架靠近该喷雾室壳体侧壁设置，
该水帘喷嘴配置于该水帘管架。
7.根据权利要求1-6任一所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于还包括，
放片装置，配置于所述传送带的输入端；
收片装置，配置于所述传送带的输出端。
8.根据权利要求1-6任一所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于，
所述喷雾装置配置有喷雾喷嘴。
9.根据权利要求3所述的晶圆自动化涂源装置，其特征在于，
所述烘干装置配置为具有强制排风的红外线烘干器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022649200.3U CN214320625U (zh) | 2020-11-16 | 2020-11-16 | 一种晶圆自动化涂源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202022649200.3U CN214320625U (zh) | 2020-11-16 | 2020-11-16 | 一种晶圆自动化涂源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN214320625U true CN214320625U (zh) | 2021-10-01 |
Family
ID=77895462
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202022649200.3U Expired - Fee Related CN214320625U (zh) | 2020-11-16 | 2020-11-16 | 一种晶圆自动化涂源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN214320625U (zh) |
-
2020
- 2020-11-16 CN CN202022649200.3U patent/CN214320625U/zh not_active Expired - Fee Related
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| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
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