CN207271550U - 光阻涂布机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种光阻涂布机，所述光阻涂布机包括：用于固定放置基板(500)的涂布平台(100)，所述涂布平台(100)上设置有缝隙(101)；所述光阻涂布机还包括与所述缝隙(101)连通的回收装置；其中，所述基板(500)的边缘与所述缝隙(101)对齐或位于所述缝隙(101)内。本实用新型的光阻涂布机，不仅可以实现光阻的回收利用，还可以降低基板边缘的涂布膜厚，进而解决基板边缘处显影不良的问题。

Description

光阻涂布机

技术领域

本实用新型涉及一种光阻涂布机。

背景技术

目前，行业内使用的光阻旋转涂布机，在对标准基板进行涂布时，约使用90立方厘米的光阻，但只有大约30立方厘米的光阻留在基板上，光阻利用率较低。另外，由于涂布机旋转时的惯性，容易导致基板边缘膜厚较厚，造成在之后的显影工艺中，边缘处显影不良的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有的光阻涂布机存在的光阻利用率低、且基板边缘处显影不良的问题。

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种光阻涂布机，所述光阻涂布机包括：用于固定放置基板的涂布平台、设置于所述涂布平台上的缝隙以及与所述缝隙连通的回收装置；其中，所述基板的边缘与所述缝隙对齐或位于所述缝隙内。

优选地，所述缝隙上下贯穿所述涂布平台。

优选地，所述缝隙为环状。

优选地，所述缝隙的横截面为直角梯形，所述直角梯形的直腰与所述基板的侧壁共面或平行。

优选地，所述缝隙的顶部开口大于所述缝隙的底部开口。

优选地，缝隙的顶部开口宽度为40-60mm，底部开口宽度为10-30mm。

优选地，所述回收装置包括与所述缝隙连通的用于吸取光阻的真空泵。

优选地，所述回收装置包括与所述真空泵的出口连通的光阻储存单元。

优选地，所述光阻涂布机包括：设置于涂布平台上方的用于对所述基板的上表面进行光阻涂布的旋转单元；所述旋转单元的旋转范围覆盖所述缝隙。

优选地，所述基板为矩形的玻璃基板，所述缝隙沿所述矩形的玻璃基板的四个边设置。

通过上述技术方案，不仅可以实现光阻的回收利用，还可以降低基板边缘的涂布膜厚，进而解决基板边缘处显影不良的问题。

附图说明

图1是本实用新型的一种实施方式的旋转涂布机的部分结构示意图；

图2是图1的俯视图。

附图标记说明

100 涂布平台 101 缝隙

102 连接管 200 旋转单元

300 真空泵 400 光阻存储单元

500 玻璃基板

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本实用新型，并不用于限制本实用新型。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的或者是针对竖直、垂直或重力方向上而言的各部件相互位置关系描述用词；“竖直方向”指的是图示的纸面上下方向；“内、外”通常指的是相对于腔室而言的腔室内外或相对于圆心而言的径向内外。

本实用新型提供了一种光阻涂布机，如图1所示，光阻涂布机包括：用于固定放置基板500的涂布平台100、设置于涂布平台100上的缝隙101以及与缝隙101连通的回收装置，其中，基板500的边缘与缝隙101对齐或位于缝隙101内。在这种情况下，涂覆在基板500上的多余的光阻剂，尤其是基板500边缘处的光阻剂，可以通过缝隙101被回收装置收集。一方面，降低了基板500边缘处的光阻剂的膜厚，有利于基板500边缘处的显影；另一方面，被回收的光阻剂可以重复利用，节约了成本。

在本实用新型的一个具体的实施例中，缝隙101上下贯穿涂布平台100。在这种情况下，回收装置可以直接设置在涂布平台100的底部，并对涂布平台100上表面的光阻剂进行回收。

为了便于光阻剂从涂布平台100的上表面漏到涂布平台100的下方，缝隙101的顶部开口可以设置成大于缝隙101的底部开口。优选地，缝隙101的顶部开口宽度为40-60mm，更优选为50mm；缝隙101的底部开口宽度为10-30mm，更优选为20mm。进一步地，缝隙101为可以环绕整个基板500的环状缝隙。缝隙101的横截面优选为直角梯形，直角梯形的直腰与基板500的侧壁共面或平行。在这种情况下，基板500边缘处的光阻，会在重力的作用下沿着基板500的侧壁直接流入缝隙101中，进而有效防止了由于基板500边缘处的光阻膜厚度较大导致的显影不良的问题。

进一步地，为了保证每片基板500可以均匀地被涂抹适当厚度的光阻剂，涂布机需要对每片基板500的喷射或滴入的光阻的量和回收的光阻的量进行控制。回收装置包括与缝隙101连通的用于吸取光阻的真空泵300。在这种情况下，通过调节和控制真空泵300的抽取速度，可以实现对每片玻璃基板吸取5-10立方厘米的光阻，由此，利于之后的显影工艺的顺利进行，进而提高了产品的良品率。

为了保证回收的光阻剂可以重复利用，回收装置包括与真空泵300的出口连通的光阻储存单元400。由此，可以避免由于光阻剂在空气中暴露时间过长而导致性能改变的情况发生。

进一步地，为了实现涂布机能够通过旋转离心作用对基板500的上表面进行光阻涂布，光阻涂布机还包括设置于涂布平台100上方的用于对基板500的上表面进行光阻涂布的旋转单元200。旋转单元200的旋转面覆盖缝隙101。具体地，如图1和图2所示，旋转单元200设置成可以以涂布平台100的中心为原点进行水平旋转。在这种情况下，被喷射或滴落至基板500上的光阻剂会在旋转单元200的作用下从基板500的中心向四周扩散，之后位于基板500边缘处的一部分光阻剂会通过真空泵300的吸取从缝隙101被回收至光阻储存单元400中，由此，保证了基板500上的光阻剂具有均匀的涂布厚度。

另外，缝隙101的形状设置成与基板500的外轮廓相匹配，例如，当基板500为矩形的玻璃基板时，缝隙101沿矩形的玻璃基板的四个边设置。在这种情况下，可以保证真空泵300能够对基板500边缘处的光阻，进行等量均匀地吸取，进而能更好地保证光阻涂布的均匀性。

以上结合附图详细描述了本实用新型的优选实施方式，但是，本实用新型并不限于此。在本实用新型的技术构思范围内，可以对本实用新型的技术方案进行多种简单变型，包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本实用新型对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本实用新型所公开的内容，均属于本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种光阻涂布机，其特征在于，所述光阻涂布机包括：用于固定放置基板(500)的涂布平台(100)、设置于所述涂布平台(100)上的缝隙(101)以及与所述缝隙(101)连通的回收装置；其中，所述基板(500)的边缘与所述缝隙(101)对齐或位于所述缝隙(101)内。

2.根据权利要求1所述的光阻涂布机，其特征在于，所述缝隙(101)上下贯穿所述涂布平台(100)。

3.根据权利要求2所述的光阻涂布机，其特征在于，所述缝隙(101)为环状。

4.根据权利要求2所述的光阻涂布机，其特征在于，所述缝隙(101)的横截面为直角梯形，所述直角梯形的直腰与所述基板(500)的侧壁共面或平行。

5.根据权利要求2所述的光阻涂布机，其特征在于，所述缝隙(101)的顶部开口大于所述缝隙(101)的底部开口。

6.根据权利要求5所述的光阻涂布机，其特征在于，所述缝隙(101)的顶部开口宽度为40-60mm，所述缝隙(101)的底部开口宽度为10-30mm。

7.根据权利要求1-6中的任意一项所述的光阻涂布机，其特征在于，所述回收装置包括与所述缝隙(101)连通的用于吸取光阻的真空泵(300)。

8.根据权利要求7所述的光阻涂布机，其特征在于，所述回收装置包括与所述真空泵(300)的出口连通的光阻储存单元(400)。

9.根据权利要求1所述的光阻涂布机，其特征在于，所述光阻涂布机包括：设置于所述涂布平台(100)上方的用于对所述基板(500)的上表面进行光阻涂布的旋转单元(200)；所述旋转单元(200)的旋转范围覆盖所述缝隙(101)。

10.根据权利要求1所述的光阻涂布机，其特征在于，所述基板(500)为矩形的玻璃基板，所述缝隙(101)沿所述矩形的玻璃基板的四个边设置。