CN207480365U - 研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及研磨装置。解决的问题为提供适用于立体的被研磨物的研磨加工的研磨装置。本实用新型的研磨装置(1)具有：保持被研磨物(W)的俯视圆形的板状部件(10)，使板状部件旋转的旋转机构(20)，和隔着被研磨物而与板状部件相对配置的研磨垫(30)，旋转机构具有在板状部件的外周形成的第一齿部(11)，具有与第一齿部啮合的第二齿部(21a，22a)且在板状部件的侧方配置的齿轮(21，22)，和产生用于使齿轮旋转的旋转驱动力的驱动部，经由齿轮的第二齿部及第一齿部而将驱动部的旋转驱动力传递至板状部件，由此使板状部件旋转。在板状部件的一个面(10a)与被研磨物之间设置有具有规定厚度的保持垫(40)。

Description

研磨装置

技术领域

本实用新型涉及研磨装置。

背景技术

以往，提出、并实用化了用于对液晶显示器用玻璃基板、硅晶片等平坦的被研磨物进行研磨加工的平面研磨装置。例如，当前，提出了下述平面研磨装置，所述平面研磨装置中，通过支承平台而支承被研磨物，在将安装于研磨平台的研磨垫的研磨面压靠于被研磨物的同时，使支承平台与研磨平台相对旋转，由此，对被研磨物的表面进行研磨(参见专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2016-193479号公报

实用新型内容

实用新型要解决的问题

然而，专利文献1中记载的平面研磨装置具有如下构成：在将研磨垫的研磨面压靠于被研磨物的表面的同时，经由研磨垫而将研磨平台相对于支承平台的相对旋转传递至被研磨物，由此将平坦的被研磨物研磨。当将这种以往的平面研磨装置应用于立体的被研磨物(表面具有曲面这样的被研磨物)的研磨加工时，为了使研磨垫的研磨面追随被研磨物的曲面，需要将研磨垫强力地向被研磨物压靠。

但是，若将上述这种以往的平面研磨装置的研磨垫强力地压靠于被研磨物从而将立体的被研磨物研磨的话，存在凸部被过度地研磨，从而得不到目标形状的情况。另外，恐怕还会发生下述问题：对使研磨平台、支承平台旋转的机构施加过大的负荷，传递动力的橡胶辊、带的空转，同步带、齿轮的破损，电机的大型化，等，此外，恐怕还会产生由该机构未正常工作而导致的研磨痕(研磨不均)。

本实用新型为鉴于上述情况而做出的，其目的在于，提供适用于立体的被研磨物的研磨加工的研磨装置。

用于解决问题的手段

为实现上述目的，本实用新型涉及的研磨装置具有：保持被研磨物的俯视圆形的板状部件，使板状部件旋转的旋转机构，和隔着被研磨物而与板状部件相对配置的研磨垫，旋转机构具有在板状部件的外周形成的第一齿部，具有与第一齿部啮合的第二齿部且在板状部件的侧方配置的齿轮，和产生用于使齿轮旋转的旋转驱动力的驱动部，经由齿轮的第二齿部及第一齿部而将驱动部的旋转驱动力传递至板状部件，由此使板状部件旋转，并且，在板状部件的一个面与被研磨物之间，设置有具有规定厚度的保持垫。

若采用所述构成，则能够通过旋转机构(其利用在板状部件的侧方配置的齿轮)，而对板状部件赋予较大的旋转驱动力。因而，即使在为对立体的被研磨物进行研磨而向被研磨物压靠研磨垫的情况下，也能够使板状部件稳定地旋转，因此，能够抑制研磨速度的降低、研磨痕。另外，由于在板状部件的一个面与被研磨物之间设置有具有规定厚度的保持垫，因此，能够使被研磨物从板状部件仅分开保持垫的厚度的量。因而，在研磨时，能够抑制研磨垫与板状部件干涉，因此，例如，即使在被研磨物的表面具有凸形状(与平面状的周围部分相比，曲面状的中央部分突出这样的形状)的情况下，也能够将其表面完全地研磨(防止表面的周围部分的研磨不足)。因此，本研磨装置能够适用于立体的被研磨物的研磨。

在本实用新型涉及的研磨装置中，可具有将研磨垫向被研磨物压靠的推压机构，和平坦的支承平台，所述平坦的支承平台以当在通过推压机构而向被研磨物压靠研磨垫的状态下进行被研磨物的研磨时维持板状部件的水平性的方式，与板状部件的另一面相对地配置。

若采用所述构成，当在向被研磨物压靠研磨垫的状态下进行被研磨物的研磨时，能够通过支承平台而维持板状部件的水平性。因而，即便在利用推压机构而赋予较高的研磨压力时，板状部件也不会倾斜。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够在板状部件的一个面与保持垫之间设置具有规定厚度的板状的保持部件。作为板状的保持部件的材质，只要是具有刚性的合成树脂即可，没有特别限定，例如可举出酸系树脂、聚氨酯(urethane)系树脂、环氧树脂系树脂、酚系树脂、氟系树脂等。

若采用所述构成，由于在板状部件的一个面与保持垫之间，设置有具有规定厚度的板状的保持部件，因此，能够使被研磨物仅从板状部件分开保持垫的厚度加上保持部件的厚度的量。因而，在研磨时，能够有效抑制研磨垫与板状部件干涉。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够在板状部件的一个面上，设置围绕被研磨物的侧方的框架构件。对于框架构件，可使用以环氧树脂系树脂、酚系树脂等热固性树脂为主体的材质。能够通过在热固性树脂中含有玻璃纤维等纤维材料而进行增强。

若采用所述构成，由于在板状部件的一个面上，设置有围绕被研磨物的侧方的框架构件，因此，在研磨中，能够防止被研磨物从板状部件脱落。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够在规定的公转轴的周围配置多个板状部件。在这种情况下，旋转机构可具有太阳齿轮，所述太阳齿轮在多个板状部件的内侧配置从而以公转轴为中心旋转、并在其外周设置有第二齿部。而且，通过经由太阳齿轮的第二齿部及第一齿部而将驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件，由此，旋转机构能够使多个板状部件以各自的自转轴为中心自转。

若采用所述构成，通过旋转机构(其利用了以规定的公转轴为中心旋转的太阳齿轮)，能够使配置在公转轴的周围的多个板状部件以各自的自转轴为中心旋转。

在本实用新型涉及的研磨装置中，旋转机构可具有前述的太阳齿轮、和环状的内齿齿轮，所述环状的内齿齿轮在多个板状部件的外侧配置从而以公转轴为中心旋转且在其内侧设置有第二齿部。而且，通过经由内齿齿轮的第二齿部及第一齿部而将驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件，旋转机构能够在使多个板状部件以自转轴为中心自转的同时、以公转轴为中心公转。

若采用所述构成，通过旋转机构(其利用了以规定的公转轴为中心旋转的太阳齿轮及内齿齿轮)，能够使配置在公转轴的周围的多个板状部件在以各自的自转轴为中心自转的同时、以公转轴为中心公转。另外，在板状部件的外周形成的第一齿部与太阳齿轮的第二齿部和内齿齿轮的第二齿部这两者啮合，由此即便在由于推压机构而赋予了较高的研磨压力的情况下，板状部件也不会倾斜。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够将板状部件的直径设定为与载置于板状部件上的被研磨物的最外侧相接的假想圆的直径的1.05倍以上1.50倍以下。

若采用所述构成，由于板状部件的直径被设定为特定的尺寸(与载置于板状部件上的被研磨物的最外侧相接的假想圆的直径的1.05倍以上1.50倍以下)，因此，能够抑制施加于齿轮的负担，能够防止被研磨物与研磨垫之间的相对速度的降低。若板状部件的直径小于假想圆的直径的1.05倍，则由于对使板状部件旋转的齿轮施加的负荷变大，故不优选。另一方面，若板状部件的直径大于假想圆的直径的1.50倍，则由于被研磨物与研磨垫之间的相对速度降低，故不优选。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够使保持垫的厚度为0.1mm以上2.0mm以下。

若将保持垫的厚度设定在上述范围内，则在研磨时，能够有效地抑制研磨垫与板状部件干涉。

在本实用新型涉及的研磨装置中，可使保持垫的肖氏A硬度为3°以上60°以下，使保持垫的压缩率为10％以上70％以下，使保持垫的压缩弹性模量为70％以上100％以下。

若将保持垫的肖氏A硬度、压缩率及压缩弹性模量设定在上述范围内，则能够均匀且稳定地支承被研磨物。

在本实用新型涉及的研磨装置中，可采用包含100％模量3MPa以上20MPa以下的聚氨酯的保持垫。另外，在保持垫与被研磨物接触的表面上，可设置利用湿式凝固而成膜的、具有表皮层的膜。

在本实用新型涉及的研磨装置中，能够采用具有下述基材和在基材中含浸的树脂的研磨垫，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接绒头的一端的连接部。在这种情况下，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物。另外，可使连接部来自于表面背面纤维中的任一者。

实用新型效果

通过本实用新型，能够提供适用于立体的被研磨物的研磨加工的研磨装置。

附图说明

图1：是用于说明本实用新型的实施方式涉及的研磨装置的整体构成的构成图。

图2：为图1所示的研磨装置的板状部件的俯视图。

图3：为图1所示的研磨装置的板状部件(图2的III-III部分)的剖面图。

图4：为表示将由图1所示的研磨装置的板状部件保持的被研磨物用研磨垫研磨的状态的剖面图。

图5：为本实用新型的其他实施方式涉及的研磨装置的板状部件的剖面图。

附图标记说明

1…研磨装置

10…板状部件

10a…一个面

10b…另一面

11…第一齿部

20…旋转机构

21…太阳齿轮

21a…第二齿部

22…内齿齿轮

22a…第二齿部

30…研磨垫

31…绒头

32…研磨面

33…连接部

34…基材

40…保持垫

50…支承平台

60…保持部件

70…框架构件

A₁…公转轴

A₂…自转轴

C…假想圆

W…被研磨物

具体实施方式

以下，参照附图，对本实用新型的实施方式进行说明。需要说明的是，以下的实施方式仅为优选的应用例，本实用新型的应用范围不限于此。

首先，使用图1～图4，对本实用新型的实施方式涉及的研磨装置1的构成进行说明。如图1所示，研磨装置1具有：保持被研磨物W的板状部件10，使板状部件10旋转的旋转机构20，和隔着被研磨物W而与板状部件10相对配置的研磨垫30。

如图1及图2所示，板状部件10为俯视呈圆形且具有规定厚度的板状的部件，且如图1所示，在规定的公转轴A₁的周围配置有多个。在本实施方式中，采用了4个板状部件10，但板状部件10的个数不限于此。板状部件10由能够保持被研磨物W的、具有刚性的材料(金属、合成树脂等)构成。

板状部件10的直径D_p优选设定为与载置于板状部件10上的被研磨物W的最外侧相接的假想圆C(图2)的直径D_c的1.05倍以上1.50倍以下。若板状部件10的直径D_p小于假想圆C的直径D_c的1.05倍，则由于对使板状部件10旋转的齿轮施加的负荷变大，故不优选。另一方面，若板状部件10的直径D_p大于假想圆的直径D_c的1.50倍，则由于被研磨物W与研磨垫30之间的相对速度降低，故不优选。

旋转机构20具有在板状部件10的外周形成的第一齿部11；具有与第一齿部11啮合的第二齿部(21a、22a)且在板状部件10的侧方配置的齿轮(太阳齿轮21及内齿齿轮22)；和产生用于使齿轮旋转的旋转驱动力的驱动部，经由齿轮的第二齿部及第一齿部11而将驱动部的旋转驱动力传递至板状部件10，由此使板状部件10旋转。

在本实施方式中，作为齿轮的一例，如图1所示，采用太阳齿轮21，所述太阳齿轮21在多个板状部件10的内侧配置且以公转轴A₁为中心旋转，且在其外周设置有第二齿部21a。通过驱动部使太阳齿轮21旋转，并经由太阳齿轮21的第二齿部21a及第一齿部11而将驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件10，由此能够使多个板状部件10以各自的自转轴A₂为中心自转

需要说明的是，作为齿轮的代替例，如图1所示，还可采用环状的内齿齿轮22，所述环状的内齿齿轮22配置在多个板状部件10的外侧并以公转轴A₁为中心旋转，并在其内侧设置有第二齿部22a。当采用内齿齿轮22时，通过驱动部使内齿齿轮22旋转，经由内齿齿轮22的第二齿部22a及第一齿部11而将驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件10，由此能够使多个板状部件10在以自转轴A₂为中心自转的同时以公转轴A₁为中心公转。这样，在板状部件10的外周形成的第一齿部11与太阳齿轮21的第二齿部21a和内齿齿轮22的第二齿部22a这两者啮合，由此，即便在由于推压机构而赋予了较高的研磨压力的情况下，板状部件10也不会倾斜。

如图1所示，研磨垫30隔着被研磨物W而与板状部件10相对配置，是用于对被研磨物W的表面进行研磨的部件。研磨垫30构成为固定于未图示的研磨平台、且由未图示的推压机构而与研磨平台一同被向被研磨物W侧压靠。由此，研磨垫30的研磨面32(图4)被压靠于被研磨物W的表面。研磨平台及研磨垫30构成为通过未图示的研磨侧驱动部而以与旋转机构20的公转轴A₁同轴的旋转轴为中心而在规定方向上旋转。

本实施方式中的研磨垫30只要具有柔性即可，没有特别限定。作为一例，如图4所示，研磨垫具有下述基材34和在基材34中含浸的未图示的树脂，所述基材34具有配置有绒头31的研磨面32和连接绒头31的一端的连接部33，所述研磨垫至少满足下述条件：绒头31来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物，连接部33来自于表面背面纤维中的任一者。

即，本实施方式的研磨垫30的基材34是通过下述方式得到的：从以经编或纬编构成的、具有形成表面背面的表面背面纤维和连接表面背面的中间纤维的针织物，通过抛光处理或切剖处理而将表面背面中的任一面除去，由此制成具有配置有绒头31的研磨面32和连接绒头31的一端的连接部33的基材34。如上所述，通过使得以经编或纬编构成的针织物的表面背面中的任一面以沿面方向被切剖的状态被具备，能够形成绒头31，并且绒头31的纤维端面分布均匀，从而能够形成纤维的脱离被抑制的研磨面32。因此，在使用本实施方式的研磨垫30时，不仅能对平面进行研磨，还能对被研磨物W所具有的曲面、及朝向与平面不同的方向的侧面进行研磨，并且能够确保研磨面品质，而且，研磨速率也优异。

需要说明的是，树脂被含浸于基材34中，含浸·附着于构成绒头31、连接部33的纤维的内部及表面。但是，即使含浸·附着有树脂，在绒头31之间也存在空隙。通过使用这样的树脂，能够增强绒头31及连接部33的强度，不会损害研磨垫30对被研磨物W的追随性，能够提高研磨速率和被研磨物W的表面品质。

针织物是以经编或纬编构成的，具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维。与无纺布相比，以经编或纬编构成的针织物的编织结构是规则的，因此，研磨面32中的纤维端面的分布变得更均匀，在整个研磨面32内的研磨速率的均匀性进一步提高。另外，规则的纤维端面的分布使得能够进行更均质的研磨，能够有助于达成表面品质优异的研磨。进而，通过将针织物的表面背面中的任一面形成为连接部33，能够抑制研磨面32的绒头31在研磨时脱落。由此，能够抑制由于脱落的绒头31而导致在被研磨物W表面产生划伤等。需要说明的是，从得到更长的绒头这样的观点考虑，优选经编。

另外，作为构成针织物的纤维，没有特别限定，例如可举出聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚乳酸等聚酯系纤维；尼龙6、尼龙66、尼龙11、尼龙12、尼龙610等聚酰胺系纤维；聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃系纤维。其中，优选聚酯系纤维。

构成针织物的中间纤维优选为未实施假捻等的原纱。由此，本实施方式的研磨垫30的绒头31成为原纱。通过使用原纱，从而有下述倾向：较之假捻纱而言绒头31的追随性进一步提高，研磨速率进一步提高。需要说明的是，构成针织物的表面背面的表面背面纤维可以是原纱，也可以是假捻纱。

另外，构成针织物的表面背面的表面背面纤维、和连接针织物的表面背面的中间纤维的种类彼此可以相同也可以不同。主要构成针织物表面背面的纤维、和主要构成针织物的中间结构的纤维的种类可以通过编织方法和纤维的选择而适宜调整。例如，通过使用原纱作为主要构成针织物的中间结构的纤维，从而如上文所述，有研磨速率进一步提高的倾向。此外，连接针织物的表面背面的中间纤维可以是1种纤维，也可以是2种以上的不同种类的纤维，长丝的类型可以是复丝、单丝、复丝与单丝的组合中的任何。

作为含浸于基材34中的树脂，优选包含聚氨酯系树脂。作为聚氨酯系树脂，虽并不限于以下聚氨酯系树脂，但例如可举出聚酯系聚氨酯树脂、聚醚系聚氨酯树脂、及聚碳酸酯系聚氨酯树脂，更优选聚碳酸酯系聚氨酯树脂。通过使用这样的树脂，从而绒头的硬度与柔软度的均衡性进一步提高，作为其结果，有研磨速率的提高与对具有曲面的被研磨物的追随性的均衡性进一步提高的倾向。含浸于基材34中的树脂可以单独使用1种，也可以并用2种以上。

另外，作为上述树脂，优选为能进行所谓的湿式凝固、且可含浸于基材34中的树脂。作为这样的树脂的例子，例如，可举出聚酯系聚氨酯树脂、聚醚系聚氨酯树脂、及聚碳酸酯系聚氨酯树脂等。需要说明的是，所谓“湿式凝固”是指，将使树脂溶解而得的树脂溶液含浸于针织物中，将其浸渍于凝固液的槽中，由此使所含浸的树脂溶液中的树脂凝固再生。通过使树脂溶液中的溶剂与凝固液进行置换，从而树脂溶液中的树脂发生凝集并凝固。

对于研磨垫30而言，除了上述的针织物及树脂之外，根据目的，还可以包含通常的研磨垫中可含有的各种添加剂。作为这样的添加剂，例如可举出炭黑等颜料或填料、亲水性添加剂、及疏水性添加剂。

本实施方式的研磨垫30可以在基材34的与研磨面32相反的一侧还具有缓冲层。通过具有缓冲层，从而有下述倾向：除了对具有曲面的被研磨物W的追随性进一步提高之外，针对被研磨物W的研磨压力的均匀性也进一步提高。这里，所谓通过缓冲层而赋予的追随性，除包括研磨垫30所具有的绒头31追随被研磨物W的平面及曲面以外，还包括由于缓冲层的作用而使绒头31的连接部33(基材34自身)通过研磨压力而柔软地追随被研磨物W的曲面形状这一情况。换言之，缓冲层通过提高绒头31的连接部33(基材34自身)的追随性，从而有助于更有效地发挥研磨层的效果，其中，研磨层具有基材34和在基材34中含浸的树脂，基材34具有配置有绒头31的研磨面32和将绒头31的一端连接的连接部33。

缓冲层越薄，则为了使研磨垫30追随具有曲面的被研磨物W而越需要提高研磨压力，但研磨压力若提高，除了划伤(槽)等研磨痕以外，研磨压力的提高还影响到降低被研磨物W的品质(例如，在曲面中产生的边界线、微小缺陷的程度)。另一方面，缓冲层变厚，在具有一定以上的缓冲性的情况下，存在即便研磨压力降低，研磨垫30也会易于追随具有曲面的被研磨物W的倾向。由此，能够得到曲面中产生的边界线、微小缺陷得以抑制的被研磨物W，且被研磨物W的品质更为提高。特别地，当缓冲层具有一定以上的缓冲性的情况下，能够得到在曲面中产生的边界线、微小缺陷得以抑制为无需精研磨这样的程度的被研磨物W，能够提供可省略精研磨工序的研磨垫30。

作为缓冲层，没有特别限定，可举出例如聚烯烃系发泡体、聚氨酯系发泡体、聚苯乙烯系发泡体、酚系发泡体、合成橡胶系发泡体、硅橡胶系发泡体等。

在本实施方式中的板状部件10的一个面10a与被研磨物W之间，如图3所示，设置有具有规定厚度的保持垫40。通过以上述方式设置保持垫40，能够使被研磨物W从板状部件10仅分开保持垫40的厚度的量，在研磨时，能够抑制研磨垫30与板状部件10干涉。

保持垫40的平面形状能够是与被研磨物W的平面形状对应的平面形状。例如，如图2所示，以与俯视呈大致矩形的被研磨物W对应的方式，能够采用俯视为大致矩形的保持垫40。设置于各板状部件10的保持垫40的个数可根据被研磨物W的个数而适当设定。例如，如图2所示，能够设置4个保持垫40，以保持4个被研磨物W。

保持垫40优选包含100％模量为3MPa以上20MPa以下的聚氨酯。100％模量是当将由该聚氨酯形成的片材100％拉伸时(即，拉伸至原长度的2倍时)所施加的负荷除以单位面积而得到的值。另外，在保持垫40的与被研磨物W接触的表面上，可设置利用湿式凝固而成膜的、具有表皮层的膜。

保持垫40的厚度优选为0.1mm以上2.0mm以下，更优选为0.2mm以上1.5mm以下，进一步优选为0.5mm以上1.0mm以下。若保持垫40的厚度小于0.1mm，则存在不能有效地抑制研磨垫30与板状部件10的干涉的情况，故不优选。另一方面，若保持垫40的厚度大于2.0mm，则存在不能将被研磨物W以平坦的状态维持的情况，故不优选。关于保持垫40的厚度，能够使用肖伯尔式厚度测定仪，依据日本工业标准(JIS K 6505)来测定。具体而言，用100g/cm²的负荷将试验用试样加压5秒后，对于1片试验用试样，测定5处(4处角部及1处中央部)的厚度，算出平均值。

保持垫40的肖氏A硬度优选为3°以上60°以下。若保持垫40的肖氏A硬度小于3°，则存在被研磨物W的保持状态变得不稳定的情况，不优选。另一方面，若保持垫的肖氏A硬度大于60°，则由于保持力降低、被研磨物W发生脱落而在曲面研磨中出现不均，故不优选。保持垫40的肖氏A硬度例如能够这样测定，即经由弹簧而向规定厚度的试验片表面压靠压针(测头)，基于规定时间后的压针的压入深度来测定。作为测定装置，能够采用A型杜罗回跳式硬度计。

保持垫40的压缩率优选为10％以上70％以下，更优选为15％以上65％以下，进一步优选为40％以上60％以下。若保持垫40的压缩率小于10％，则由于保持力降低、被研磨物W发生脱落而在曲面研磨中出现不均，故不优选。另一方面，若保持垫的压缩率大于70％，则由于被研磨物W难以被保持为大致平坦，故不优选。保持垫40的压缩率例如能够使用肖伯尔式厚度测定仪(加压面：直径1cm的圆形)，按照日本工业标准(JIS L 1021)来测定。具体而言，对以初始负荷加压30秒钟后的厚度t₀进行测定，然后，测定在最终压力下放置5分钟后的厚度t₁。由上述测定结果利用下述式计算压缩率。此时，初始负荷为100g/cm²，最终负荷为1120g/cm²。

压缩率(％)＝(t₀-t₁)/t₀×100

保持垫40的压缩弹性模量优选为70％以上100％以下，更优选为80％以上99％以下，进一步优选为85％以上98％以下。若保持垫40的压缩弹性模量小于70％，则缓冲性劣化，可能会不能平坦地保持，故不优选。另一方面，保持垫40的压缩弹性模量越接近100％，则压缩恢复性优异，且能够稳定地平坦地保持。保持垫40的压缩弹性模量能够使用肖伯尔式厚度测定仪(加压面：直径1cm的圆形)，按照日本工业标准(JIS L 1021)来测定。具体而言，对从无负荷状态至初始负荷经30秒后的厚度t₀进行测定，然后，对从厚度t₀的状态至最终负荷经30秒后的厚度t₁进行测定。接下来，从厚度t₁的状态将全部负荷解除，放置5分钟(为无负荷状态)后，对再次施加初始负荷30秒后的厚度t₀’进行测定。由上述测定结果利用下述式算出压缩弹性模量。此时，初始负荷为100g/cm²，最终负荷为1120g/cm²。

压缩弹性模量(％)＝100×(t₀’-t₁)/(t₀-t₁)

构成保持垫40的树脂的100％模量优选为3.0～20.0MPa，更优选为7.0～16.0MPa，进一步优选为8.0～15.0MPa。通过使该100％模量为3.0～20.0MPa，能够更良好地抑制被研磨物W的损伤。需要说明的是，100％模量为在室温23±2℃的环境下，将使用了与树脂片材相同材料的无发泡的树脂片材(试验片)100％拉伸时、即拉伸至原长度的2倍时的拉伸力除以试验片的初始截面积而得到的值。

如图1所示，本实施方式涉及的研磨装置1具有与板状部件10的另一面10b(图3)相对地配置的支承平台50。支承平台50是在通过推压机构而将研磨垫30向被研磨物W压靠的状态下进行被研磨物W的研磨时，以维持板状部件10的水平性的方式发挥功能的平台。支承平台50的表面具有用于维持板状部件10的水平性的平坦性。支承平台50由具有能够从下方保持板状部件10这样的刚性的材料(金属、合成树脂等)构成。

接下来，对本实施方式涉及的研磨装置1的使用方法进行说明。

首先，如图2及图3所示，在设置于板状部件10的各保持垫40上载置并固定被研磨物W。接下来，使未图示的研磨平台与研磨垫30朝下方移动，如图4所示，使研磨垫30的研磨面32与被研磨物W接触。

接下来，通过经由太阳齿轮21的第二齿部213及第一齿部11而将旋转机构20的驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件10，从而使多个板状部件10以其各自的自转轴A₂为中心而自转，并且利用研磨侧驱动部，使研磨平台及研磨垫30在规定的方向上旋转的同时，利用研磨垫30将被研磨物W研磨。此时，代替通过旋转机构20的驱动部来驱动太阳齿轮21，通过旋转机构20的驱动部来驱动内齿齿轮22，经由内齿齿轮22的第二齿部22a及第一齿部11而将驱动部的旋转驱动力传递至多个板状部件10，从而可使多个板状部件10以自转轴A₂为中心自转的同时以公转轴A₁为中心公转。

在以上说明的实施方式涉及的研磨装置1中，能够通过利用了在板状部件10的侧方配置的齿轮(太阳齿轮21及内齿齿轮22)的旋转机构20，而向板状部件10赋予较大的旋转驱动力。因而，即便为研磨立体的被研磨物W而向被研磨物W压靠研磨垫30的情况下，也能够使板状部件10稳定地旋转，因此能够抑制研磨速度的降低、研磨痕。另外，由于在板状部件10的一个面10a与被研磨物W之间，设置有具有规定厚度的保持垫40，因此能够使被研磨物W仅从板状部件10分开保持垫40的厚度的量。因而，由于在研磨时，能够抑制研磨垫30与板状部件10干涉，因此即便在被研磨物W的表面具有凸形状(与平面状的周围部分相比，曲面状的中央部分突出这样的形状)的情况下，也能够将其表面完全地研磨(防止表面的周围部分的研磨不足)。因此，本研磨装置1能够适于立体的被研磨物的研磨。

另外，在以上说明的实施方式涉及的研磨装置1中，当在向被研磨物W压靠研磨垫30的状态下进行被研磨物W的研磨时，能够通过支承平台50来维持板状部件10的水平性。因而，即便是利用推压机构而赋予了较高的研磨压力的情况下，板状部件10也不会倾斜。

另外，在以上说明的实施方式涉及的研磨装置1中，由于板状部件10的直径D_p被设定为特定的尺寸(与载置于板状部件10上的被研磨物W的最外侧相接的假想圆C的直径D_c的1.05倍以上1.50倍以下)，因此，能够抑制施加于齿轮的负担，能够防止被研磨物W与研磨垫30之间的相对速度的降低。

另外，在以上说明的实施方式涉及的研磨装置1中，由于将保持垫40的厚度设定在特定的范围内，因此，在研磨时，能够有效地抑制研磨垫30与板状部件10干涉。

另外，在以上说明的实施方式涉及的研磨装置1中，保持垫40的肖氏A硬度、压缩率及压缩弹性模量设定在特定的范围内，因此，能够将被研磨物W均匀且稳定地支承。

需要说明的是，在以上实施方式中，示出了在板状部件10的一个面10a与被研磨物W之间设置有具有规定厚度的保持垫40的例子，但如图5所示，在板状部件10的一个面10a与保持垫40之间，也能够设置具有规定厚度的板状的保持部件60。通过以这种方式设置保持部件60，能够使被研磨物W仅从板状部件10分开保持垫40的厚度加上保持部件60的厚度的量。因而，在研磨时，能够有效抑制研磨垫30与板状部件10干涉。

另外，如图5所示，还能够在板状部件10的一个面103上设置围绕被研磨物W的侧方的框架构件70。这样一来，在研磨中，能够防止被研磨物W从板状部件10落下。

本实用新型不限于以上实施方式，对于本领域技术人员在上述实施方式中进行的适当涉及变更，只要具有本实用新型的特征，则包含在本实用新型的范围内。即，上述实施方式具有的各要素及其配置、材料、条件、形状、尺寸等不限于所例示的那些，能够适当变更。另外，上述实施方式具有的各要素只要在技术上是可能的，也能够进行组合，将上述各要素组合而得到的实施方式只要包含本实用新型的特征，即包含在本实用新型的范围内。

Claims (14)

1.研磨装置，所述研磨装置具有：保持被研磨物的俯视圆形的板状部件，使所述板状部件旋转的旋转机构，和隔着所述被研磨物而与所述板状部件相对配置的研磨垫，

所述旋转机构具有：在所述板状部件的外周形成的第一齿部；具有与所述第一齿部啮合的第二齿部且在所述板状部件的侧方配置的齿轮；和产生用于使所述齿轮旋转的旋转驱动力的驱动部，经由所述齿轮的所述第二齿部及所述第一齿部而将所述驱动部的所述旋转驱动力传递至所述板状部件，由此使所述板状部件旋转，

在所述板状部件的一个面与所述被研磨物之间，设置有具有规定厚度的保持垫。

2.根据权利要求1所述的研磨装置，具有

将所述研磨垫向所述被研磨物压靠的推压机构，和

支承平台，所述支承平台以当在通过所述推压机构而向所述被研磨物压靠研磨垫的状态下进行所述被研磨物的研磨时维持所述板状部件的水平性的方式，与所述板状部件的另一面相对地配置。

3.根据权利要求1或2所述的研磨装置，其中，在所述板状部件的一个面与所述保持垫之间设置有具有规定厚度的板状的保持部件。

4.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，在所述板状部件的一个面上，设置有围绕所述被研磨物的侧方的框架构件。

5.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，

在规定的公转轴的周围配置多个所述板状部件，

所述旋转机构具有太阳齿轮，所述太阳齿轮配置在多个所述板状部件的内侧并以所述公转轴为中心旋转、并在所述太阳齿轮的外周设置有第二齿部，经由所述太阳齿轮的所述第二齿部及所述第一齿部而将所述驱动部的旋转驱动力传递至多个所述板状部件，由此，使多个所述板状部件以各自的自转轴为中心自转。

6.根据权利要求1所述的研磨装置，

在规定的公转轴的周围配置多个所述板状部件，

所述旋转机构具有太阳齿轮和环状的内齿齿轮，所述太阳齿轮配置在多个所述板状部件的内侧并以所述公转轴为中心旋转、并且在所述太阳齿轮的外周设置有与所述第一齿部啮合的齿部，所述环状的内齿齿轮配置在多个所述板状部件的外侧并以所述公转轴为中心旋转、且在所述环状的内齿齿轮的内侧设置有所述第二齿部，经由所述内齿齿轮的所述第二齿部及所述第一齿部而将所述驱动部的旋转驱动力传递至多个所述板状部件，由此，在使多个所述板状部件以各自的自转轴为中心自转的同时以所述公转轴为中心公转。

7.根据权利要求1所述的研磨装置，

所述板状部件的直径设定为与载置于所述板状部件上的所述被研磨物的最外侧相接的假想圆的直径的1.05倍以上1.50倍以下。

8.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，所述保持垫的厚度为0.1mm以上2.0mm以下。

9.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，所述保持垫的肖氏A硬度为3°以上60°以下。

10.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，所述保持垫的压缩率为10％以上70％以下。

11.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，所述保持垫的压缩弹性模量为70％以上100％以下。

12.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，所述保持垫包含100％模量为3MPa以上20MPa以下的聚氨酯。

13.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，在所述保持垫的与所述被研磨物接触的表面上，设置有利用湿式凝固而成膜的、具有表皮层的膜。

14.根据权利要求1所述的研磨装置，其中，

所述研磨垫具有：

具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部的基 材、和在所述基材中含浸的树脂，

所述研磨垫至少满足下述条件：

所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物，

所述连接部来自于表面背面纤维中的任一者。