CN207362347U - 一种基于负压点镀工艺的点镀装置 - Google Patents

Abstract

一种基于负压点镀工艺的点镀装置，包括由底座和立架构成的工作架，底座上设置有药水槽，立架上位于药水槽上侧设置有水平的工作台，底座上设置有真空泵，药水槽内设置有负压盒，真空泵通过真空管与药水槽中的负压盒连通，工作台上设置有模具组件，模具组件上设置有待镀工件，待镀工件上的待镀区与模具组件之间形成空腔，模具组件内设置有两个U型的药水流道，药水流道的端部开口处内置有惰性电极，且每个药水流道的两个端部开口均位于待镀区的空腔内，并与待镀区共同形成密闭的循环流道，药水流道与药水槽内药水之间通过上水管连通，负压盒与药水流道之间通过下水管连通，立架顶部设置有自动化控制柜。本实用新型所述装置，无气泡，镀层效果好。

Description

一种基于负压点镀工艺的点镀装置

技术领域

本实用新型设计电镀设备技术领域，具体为一种基于负压点镀工艺的点镀装置。

背景技术

目前通行的点镀技术原理是对工件非处理区域进行遮蔽，然后对遮蔽剩余区域用药水进行高速冲击，使药水中的金属离子沉积在预设区域，其缺点有三：一．药水在向预设区域冲击时，预设区域与密封胶形成一个盲孔，药水在盲孔里完成交换，容易形成湍流，药水输送过程中形成的气泡不易破裂，形成漏镀或膜厚不均，而且大大降低了离子的交换效率；二．药水的冲击力会严重削弱密封胶的密封效果，导致药水渗漏，造成镀区不良；三．药水冲击造成药水在产品上的大量残留，从而造成生产及废水处理上的大量成本上升和资源浪费。

实用新型内容

为了解决上述问题，本实用新型的目的是提出一种基于负压点镀工艺的点镀装置，通过真空泵在待镀区的空腔内形成负压，带动药水流经待镀区完成小区域的点镀，空腔内无湍流，无气泡，镀层效果好。

本实用新型为了解决上述问题所采取的技术方案为：一种基于负压点镀工艺的点镀装置，包括由底座和垂直设置在底座上的立架构成的工作架，底座上设置有药水槽，立架上位于药水槽上侧垂直设置有水平的工作台，所述底座上相邻药水槽设置有真空泵，药水槽内设置有负压盒，所述真空泵通过真空管与药水槽中的负压盒连通，工作台上设置有模具组件，模具组件上设置有待镀工件，待镀工件上的待镀区与模具组件之间形成空腔，所述模具组件内设置有两个U型的药水流道，所述药水流道的端部开口处内置有惰性电极，且每个药水流道的两个端部开口均位于待镀区的空腔内，并与待镀区共同形成密闭的循环流道，所述药水流道与药水槽内药水之间通过上水管连通，负压盒与药水流道之间通过下水管连通，立架顶部设置有用于控制点镀过程的自动化控制柜。

作为有选的，所述模具组件内位于待镀区和药水流道相接的空腔处设置有用于密封的RTV胶。

作为有选的，所述负压盒上设置有通向药水槽的单向阀。

与现有技术相比，本实用新型具有一下有益效果：

本实用新型所述的装置，模具组件内的药水流道与待镀区之间形成密闭的循环流道，并通过真空泵在待镀区的循环流道内形成负压，带动药水流经待镀区，与惰性电极之间反应完成小区域的点镀，药水的流动与交换始终处于负压环境下，不存在向外渗漏的情况，且在待镀区的空腔内无湍流，不会形成气泡，与传统的电镀方法相比具有无渗漏、效率高，待镀区镀层膜厚均匀，镀层效果好的特点。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中模具组件以及其内药水流道的结构示意图；

图中标记：1、底座，2、立架，3、工作架，4、药水槽，5、工作台，6、真空泵，601、真空管，7、负压盒，8、模具组件，9、待镀工件，901、待镀区，10、药水流道，11、上水管，12、下水管，13、自动化控制柜，14、RTV胶。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本实用新型作详细说明，本实施例以本实用新型技术方案为前提，给出了详细的实施方式和具体的操作过程。

如图所示，本实用新型为一种基于负压点镀工艺的点镀装置，包括由底座1和垂直设置在底座1上的立架2构成的工作架3，底座1上设置有药水槽4，立架2上位于药水槽4上侧垂直设置有水平的工作台5，所述底座1上相邻药水槽4设置有真空泵6，药水槽4内设置有负压盒7，所述真空泵6通过真空管601与药水槽4中的负压盒7连通，工作台5上设置有模具组件8，模具组件8上设置有待镀工件9，待镀工件9上的待镀区901与模具组件之间形成空腔，所述模具组件8内设置有两个U型的药水流道10，所述药水流道10的端部开口处内置有惰性电极，且每个药水流道10的两个端部开口均位于待镀区901的空腔内，并与待镀区901共同形成密闭的循环流道，所述药水流道10与药水槽4内药水之间通过上水管11连通，负压盒7与药水流道10之间通过下水管12连通，立架2顶部设置有用于控制点镀过程的自动化控制柜13。

以上为本实用新型的基本实施方式，可在以上基础上作进一步的改进、优化或限定。

进一步的，所述模具组件8内位于待镀区901和药水流道10相接的空腔处设置有用于密封的RTV胶14。

进一步的，所述负压盒7上设置有通向药水槽4的单向阀。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例描述如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述所述技术内容作出的些许更动或修饰均为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (3)

1.一种基于负压点镀工艺的点镀装置，包括由底座（1）和垂直设置在底座（1）上的立架（2）构成的工作架（3），底座（1）上设置有药水槽（4），立架（2）上位于药水槽（4）上侧垂直设置有水平的工作台（5），其特征在于：所述底座（1）上相邻药水槽（4）设置有真空泵（6），药水槽（4）内设置有负压盒（7），所述真空泵（6）通过真空管（601）与药水槽（4）中的负压盒（7）连通，工作台（5）上设置有模具组件（8），模具组件（8）上设置有待镀工件（9），待镀工件（9）上的待镀区（901）与模具组件之间形成空腔，所述模具组件（8）内设置有两个U型的药水流道（10），所述药水流道（10）的端部开口处内置有惰性电极，且每个药水流道（10）的两个端部开口均位于待镀区（901）的空腔内，并与待镀区（901）共同形成密闭的循环流道，所述药水流道（10）与药水槽（4）内药水之间通过上水管（11）连通，负压盒（7）与药水流道（10）之间通过下水管（12）连通，立架（2）顶部设置有用于控制点镀过程的自动化控制柜（13）。

2.如权利要求1所述的一种基于负压点镀工艺的点镀装置，其特征在于：所述模具组件（8）内位于待镀区（901）和药水流道（10）相接的空腔处设置有用于密封的RTV胶（14）。

3.如权利要求1所述的一种基于负压点镀工艺的点镀装置，其特征在于：所述负压盒（7）上设置有通向药水槽（4）的单向阀。