CN207097963U - 一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及电芯生产制造技术领域，尤其涉及一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构，所述吸膜及热熔机构用于将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组，综合模组包括用于吸取绝缘膜的吸膜机构和将绝缘膜和托片进行热熔的热熔机构，使得综合模组在一次动作中完成绝缘膜的分片取料和热熔，简化了绝缘膜的流动过程，吸膜机构对绝缘膜分片取料，避免了一次取多张的问题；还提供了一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台移载机构、第二移动机构和上述吸膜及热熔机构，用于托片的上料和转移、绝缘膜的上料和热熔，托片和绝缘膜的转移、热熔均由置膜平台承载，避免多次抓取造成绝缘膜的破损、折皱或翻折，有利于后续工序的顺利进行。
Description
技术领域
本实用新型涉及电芯生产制造技术领域，尤其涉及一种吸膜及热熔机构以及绝缘膜上料、热熔和转移机构。
背景技术
在科技不断进步的今天，新能源动力电池的需求量越来越大，其生产和制造过程对电池的质量影响较大，其中，电芯的生产尤为重要，在电芯的生产过程中，需要在起表面包裹绝缘膜，其包裹质量对电芯的性能和安全有很重要的影响，所以电芯的生产制造过程中，包裹绝缘膜是一道关键工序。绝缘膜一般为厚度较薄的薄膜状材料，通常先将托片与绝缘膜热熔，再将其包裹在电芯上，故从绝缘膜上料到与包膜过程中，绝缘膜需要进行多次转移，容易造成绝缘膜的破损、折皱或翻折，或者存在一次取多张膜的问题，影响后续的包膜工序，既影响生产进度，又容易使得电芯包膜质量不佳甚至不合格，增加产品不良率。
因此，需要针对上述现有技术中存在的问题，提供一种技术方案以解决绝缘膜转移过程容易造成绝缘膜的破损、折皱或翻折，或者存在一次取多张膜的问题。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种吸膜及热熔机构，对绝缘膜进行分片取料和热熔，还提供了一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，避免多次抓取绝缘膜进行转移。
本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案是：
提供了一种吸膜及热熔机构，用于对绝缘膜进行取料并在热熔工位将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组，所述综合模组在绝缘膜料堆和热熔工位之间移动，所述综合模组包括吸膜机构和热熔机构，所述吸膜机构包括取料机构，用于绝缘膜的分片取料。
作为上述技术方案的改进，所述综合模组还包括升降机构，所述升降机构包括伺服电机和升降模组，所述升降模组用于对所述吸膜机构和热熔机构进行升降。
作为上述技术方案的进一步改进，所述吸膜机构还包括承载板，所述取料机构上设置有取料吸盘组机构，所述取料吸盘组机构包括若干弹性吸盘，所述弹性吸盘排布并固定在所述承载板上，所述承载板固定于所述升降模组上。
作为上述技术方案的进一步改进，所述吸膜机构还包括探针组，所述探针组包括若干排布并固定在所述承载板上的探针。
作为上述技术方案的进一步改进，所述热熔机构包括热熔汽缸、热熔器和热熔器载板，所述热熔汽缸将热熔器载板伸出或收回，所述热熔器固定设置在所述热熔器载板上。
作为上述技术方案的进一步改进，所述热熔器包括热熔头和压缩弹簧，所述压缩弹簧两端分别抵靠热熔器载板和热熔头。
作为上述技术方案的进一步改进，还包括用于放置待热熔绝缘膜的置膜平台，所述置膜平台包括用于放置绝缘膜的置膜面，所述置膜面上排布设置有若干真空孔，所述真空孔与真空气源连通。
作为上述技术方案的进一步改进，所述置膜平台上还设置有倒模机构，所述倒模机构包括倒模块和倒模汽缸，所述倒模汽缸将倒模块伸出或收回。
作为上述技术方案的进一步改进，所述置膜平台上设置有托片承载台，其上设置有用于定位托片的定位结构。
还提供了一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，其包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台、热熔载台移载机构、第二移动机构和上述的吸膜及热熔机构，所述托片上料机构通过所述第一移动机构进行移动，所述热熔载台通过所述热熔载台移载机构进行移动，所述第二移动机构用于移动所述吸膜及热熔机构。
本实用新型的有益效果是：
本实用新型一种吸膜及热熔机构用于将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组，所述综合模组在绝缘膜料堆和热熔工位之间移动，所述综合模组包括用于吸取绝缘膜的吸膜机构和用于将绝缘膜和托片进行热熔的热熔机构，使得综合模组在一次动作中完成绝缘膜的分片取料和热熔，简化了绝缘膜的流动过程，吸膜机构对绝缘膜分片取料，避免了一次取多张的问题；本发明一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台移载机构、第二移动机构，和上述吸膜及热熔机构，用于托片的上料和转移、绝缘膜的上料和热熔，托片和绝缘膜的转移、热熔均由置膜平台承载，避免多次抓取造成绝缘膜的破损、折皱或翻折，有利于后续工序的顺利进行。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要实用的附图做简单说明：
图1为本实用新型吸膜及热熔机构一个实施例的结构示意图；
图2为本实用新型吸膜及热熔机构图1所述实施例部分零件的结构示意图；
图3为本实用新型吸膜及热熔机构中置膜平台一个实施例的结构示意图；
图4为本实用新型绝缘膜上料、热熔和转移机构一个实施例的结构示意图；
图5为本实用新型图4所述实施例的俯视图。
具体实施方式
以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型中所涉及的上、下、左、右等方位描述仅仅是相对于附图中本实用新型各组成部分的相互位置关系来说的。本实用新型中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。
图1为本实用新型吸膜及热熔机构一个实施例的结构示意图，图2为本实用新型吸膜及热熔机构图1所述实施例部分零件的结构示意图，请同时参考图1和图2，吸膜及热熔机构用于将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组10和置膜平台20，综合模组10在绝缘膜料堆和置膜平台20之间移动，所述综合模组包括吸膜机构11、热熔机构12和升降机构13。
吸膜机构11包括取料机构、承载机构和到位传感器，取料机构上设置有取料吸盘组机构111和探针组112，承载机构具体为承载板113，承载板113包括正面和反面，取料吸盘组机构111包括若干弹性吸盘1110，探针组112包括若干探针1120，弹性吸盘1110和探针1120在承载板113正面排布，并固定连接在承载板上，所述承载板固定于升降机构30上。该该弹性吸盘呈多列排布在承载板正面，该探针呈列排布在承载板正面，并排布于吸盘列队之间。弹性吸盘包括吸盘面1130和真空孔1140，弹性吸盘通过真空孔与真空气源相连通，吸膜时，综合模组到达取料工位，下降至绝缘膜料堆上方附近，到位传感器检测综合模组下降到位时，停止下降，将吸盘组的吸盘面与绝缘膜表面贴靠并打开真空，此时弹性吸盘的吸盘面吸附绝缘膜表面，该弹性吸盘为弹性材料制成，具有一定的伸缩变形能力，使得吸盘面与绝缘膜表面贴靠时，通过其自身的伸缩变进行贴合调整，能更好地与绝缘膜表面贴合且不损伤绝缘膜，探针与吸盘间隔排布，有助于支撑绝缘膜，避免绝缘膜在弹性吸盘内真空的吸附作用下变形量过大而产生折皱等缺陷，同时使得绝缘膜被吸取时形成类似波浪形，使得空气进入两片绝缘膜之间，从而顺利分片，避免一次取多张的情况，探针前端包裹软性材料，防止损伤绝缘膜。
热熔机构12包括热熔汽缸121、热熔器122和热熔器载板123，热熔汽缸121将热熔器载板123伸出或收回，热熔器122固定设置在热熔器载板123上。热熔器122包括热熔头1221和压缩弹簧1222，压缩弹簧两端分别抵靠热熔器载板123和热熔头1221。
热熔时，热熔汽缸121将热熔器伸出，热熔器的热熔头与绝缘膜相应的位置接触，经过预定的时间后热熔汽缸收回，将热熔器热熔头与绝缘膜分离，完成热熔。
升降机构13包括伺服电机131和升降模组132，升降模组132沿垂直于置膜平台20的方向进行升降。吸膜机构11和热熔机构12均安装在升降模组上，升降模组带动吸膜机构和热熔机构进行升降运动,升降模组上还连接有压板133，压板133通过弹性装置134与升降模组进行连接。
图3为本实用新型吸膜及热熔机构中置膜平台一个实施例的结构示意图，参考图3，置膜平台20包括一对平板21和一个托片承载台22，该对平板放置于同一平面上并分别位于该托片承载台两侧，平板上表面用于放置绝缘膜，其上排布设置有若干真空孔211，真空孔与真空气源连通，用于将绝缘膜吸附在所述包膜平台上并保存平铺，防止绝缘膜出现移位、翻折等问题。平板21上表面设置有多个凹槽212，凹槽212呈条状排布在包膜平台上，凹槽延伸方向与托片承载台的长度方向平行，真空孔211均匀排布在该凹槽212内。
托片承载台22上设置有用于定位绝缘膜的定位块221，托片上对应设置有定位结构，绝缘膜上的定位结构和该托片承载台上的定位块配合，可对放置于置膜平台上的绝缘膜进行定位。
托片承载台22上还设置有倒模机构23，其包括倒模块231和倒模汽缸232，倒模汽缸将倒模块伸出或收回。当托片放置到托片承载台上时，倒模汽缸将倒模块伸出，对托片边沿位置进行调整，从而对托片进行二次定位。
图4为本实用新型绝缘膜上料、热熔和转移机构一个实施例的结构示意图，图5为本实用新型图4所述实施例的俯视图，请同时参考图4和图5，绝缘膜上料、热熔和转移机构包括：托片上料机构100、第一移动机构200、热熔载台和热熔载台移载机构300、第二移动机构400和吸膜及热熔机构500。本实施例中，热熔载台具体为图3所示的置膜平台20，用于放置绝缘膜及托片，并通过吸膜及热熔机构在其上对绝缘膜和托片进行热熔。
托片上料机构100具体为托片上料机械手，第一移动机构200用于其将托片上料机构100沿第一轨道001进行移动，托片上料机构从托片料堆004中抓取托片并放置于置膜平台20上的托片承载台22上。热熔载台移载机构300用于承载热熔载台(即置膜平台20)并带动其沿移载轨道003进行移动，第二移动机构400用于带动吸膜及热熔机构上的综合模组10沿第二轨道002移动,综合模组10在绝缘膜料堆005处吸取绝缘膜后，第二移动机构400带动综合模组沿第二轨道002移动至热熔工位。本实施例中，移载轨道固定于安装平台006上，第一轨道001与第二轨道002相互平行，并置于移载轨道上空。
托片上料机构100包括取料块101、旋转装置102和升降汽缸103，取料时，旋转装置102可带动取料块101转动，第一移动机构200将托片上料机构100沿第一轨道001移动至托片料堆004上空，升降汽缸下降，将取料块101向托片贴靠，取料块吸取托片后，升降汽缸上升，第一移动机构200将托片上料机构100沿第一轨道001移动至置膜平台上的托片承载台22上空，旋转装置102带动取料块101转动，使得托片对应托片承载台22的位置，然后升降汽缸103下降，取料块释放托片，汽缸回位。
绝缘膜上料、热熔和转移机构的工作过程：
托片上料工位：热熔载台移载机构300将置膜平台20沿移载轨道003移动至托片上料工位；
托片上料：托片上料机构100包括取料块101、旋转装置102和升降汽缸103，取料时，旋转装置102可带动取料块101转动，第一移动机构200将托片上料机构100沿第一轨道001移动至托片料堆004上空，升降汽缸下降，将取料块101向托片贴靠，取料块吸取托片后，升降汽缸上升，第一移动机构200将托片上料机构100沿第一轨道001移动至置膜平台上的托片承载台22上空，旋转装置102带动取料块101转动，使得托片对应托片承载台22的位置，然后升降汽缸103下降，取料块释放托片，汽缸回位。
热熔工位：热熔载台移载机构300载有托片的置膜平台20由托片上料工位沿其移载轨道003移动至热熔工位；
绝缘膜上料：第二移动机构400将综合模组10沿地热轨道移动至绝缘膜料堆005上空，综合模组上的升降机构13将取料吸盘组11下降并使得弹性吸盘与绝缘膜贴靠，开启弹性吸盘所连通的的真空源，使得取料吸盘模组将绝缘膜分片吸取，升降机构13降取料吸盘模组上升，第二移动机构将综合模组10沿第二轨道002移动至热熔工位，升降汽缸13将综合模组10下降置绝缘膜与置膜平台20上的平板贴靠，此时释放弹性吸盘的真空，倒模汽缸将倒模块升起，调整绝缘膜边沿位置，完成绝缘膜的二次定位，开启置膜平台所连通的真空源，然后倒模汽缸回位，使得绝缘膜被吸附在置膜平台的平板上。
绝缘膜与托片热熔：绝缘膜上料完成后，升降机构不动，热熔汽缸将热熔器伸出，使得热熔头与绝缘膜贴合从而将其与托片热熔，热熔完成后，热熔汽缸上升，升降机构13上升。
置膜平台回位：取料机械人将与托片热熔完成的绝缘膜从热熔工位取出，流入下工位，热熔载台移载机构300将置膜平台20沿移载轨道003移动至托片上料工位，重复上述过程。
本实施例设置两套置膜平台移栽机构，二者平行设置，第一轨道和第二轨道跨越两套置膜平台移栽机构的移载轨道上空，没套置膜平台移栽机构上承载一套置膜平台，从而形成两个托片上料工位和两个热熔工位，二者交替作业，提高生产效率。
上述仅为本实用新型的较佳实施例，但本实用新型并不限制于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可以做出多种等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。
Claims (10)
1.一种吸膜及热熔机构，其特征在于：用于对绝缘膜进行取料并在热熔工位将绝缘膜和托片进行热熔，其包括综合模组，所述综合模组在绝缘膜料堆和热熔工位之间移动，所述综合模组包括吸膜机构和热熔机构，所述吸膜机构包括取料机构，用于绝缘膜的分片取料。
2.根据权利要求1所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述综合模组还包括升降机构，所述升降机构包括伺服电机和升降模组，所述升降模组用于对所述吸膜机构和热熔机构进行升降。
3.根据权利要求2所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述吸膜机构还包括承载板，所述取料机构上设置有取料吸盘组机构，所述取料吸盘组机构包括若干弹性吸盘，所述弹性吸盘排布并固定在所述承载板上，所述承载板固定于所述升降模组上。
4.根据权利要求3所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述吸膜机构还包括探针组，所述探针组包括若干排布并固定在所述承载板上的探针。
5.根据权利要求1所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述热熔机构包括热熔汽缸、热熔器和热熔器载板，所述热熔汽缸将热熔器载板伸出或收回，所述热熔器固定设置在所述热熔器载板上。
6.根据权利要求5所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述热熔器包括热熔头和压缩弹簧，所述压缩弹簧两端分别抵靠热熔器载板和热熔头。
7.根据权利要求1-6任一项所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：还包括用于放置待热熔绝缘膜的置膜平台，所述置膜平台包括用于放置绝缘膜的置膜面，所述置膜面上排布设置有若干真空孔，所述真空孔与真空气源连通。
8.根据权利要求7所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述置膜平台上还设置有倒模机构，所述倒模机构包括倒模块和倒模汽缸，所述倒模汽缸将倒模块伸出或收回。
9.根据权利要求7所述的吸膜及热熔机构，其特征在于：所述置膜平台上设置有托片承载台，其上设置有用于定位托片的定位结构。
10.一种绝缘膜上料、热熔和转移机构，其特征在于：包括托片上料机构、第一移动机构、热熔载台、热熔载台移载机构、第二移动机构和权利要求1-9任一项所述的吸膜及热熔机构，所述托片上料机构通过所述第一移动机构进行移动，所述热熔载台通过所述热熔载台移载机构进行移动，所述第二移动机构用于移动所述吸膜及热熔机构。
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| CN116344907A (zh) * | 2023-05-12 | 2023-06-27 | 苏州中科瑞龙科技有限公司 | 一种电极组件热压装置及电极组件组装设备 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 518000 No. 26, 101 Ring Road south of Guanzi street, Longhua District, Shenzhen, Guangdong Patentee after: SHENZHEN HYMSON LASER INTELLIGENT EQUIPMENTS Co.,Ltd. Address before: 518110 26 Longhua Ring Road, Guanlan Jun long, Longhua New District, Shenzhen, Guangdong Patentee before: SHENZHEN HMX LASER TECHNOLOGY Co.,Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 518110 301, Building B, Comlong Science Park, Guansheng 5th Road, Luhu Community, Guanhu Street, Longhua District, Shenzhen City, Guangdong Province (one photo multiple site enterprise) Patentee after: Hymson Laser Technology Group Co., Ltd. Address before: 518000 No. 26, 101 Ring Road south of Guanzi street, Longhua District, Shenzhen, Guangdong Patentee before: SHENZHEN HYMSON LASER INTELLIGENT EQUIPMENTS Co.,Ltd. |
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| CP03 | Change of name, title or address |