CN207067426U - 减反膜镜片 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种减反膜镜片，包括：基材；减反膜，镀制在所述基材的一个表面上；所述减反膜由从内到外的九层材料层构成；所述九层材料层由交替镀制的低折射率材料层和高折射率材料层构成；所述从内到外的九层膜层分别为：第一低折射率材料层、第一高折射率材料层、第二低折射率材料层、第二高折射率材料层、第三低折射率材料层、第三高折射率材料层、第四低折射率材料层、第四高折射率材料层和第五低折射率材料层。该减反膜镜片结构稳定，膜层之间牢固程度高，耐刮擦性能以及机械性能好。

Description

减反膜镜片

技术领域

本实用新型涉及一种减反膜镜片。

背景技术

中国专利201110434960.5公开了一种高强度减反膜系结构。这种减反膜系结构适用于S-FPL51、S-BSM81和LAK10等玻璃基材，减反膜中镀制有中折射率的MgF2和AL2O3材料层。这种减反膜系结构不适用于塑胶镜片，而且膜层的耐刮擦性能和机械性能不够强，达不到塑胶镜片镀制减反膜对于机械性能的要求。

P(塑胶)镜片超硬减反膜主要应用于可拍照手机摄像头、电脑内置摄像头及车载摄像头等数码成像等领域。运动摄像机(SDV)光学模组。

为减少光学模组中镜片的使用数量，达到简化结构、节约成本的效果，采用P(塑胶)镜片取代玻璃球面镜片，但因P镜片的材料特性：耐高温性差(温度超过120℃会软化与变形)，采取现有镀膜工艺加工的产品：膜层致密性差，膜层牢固度差，耐刮擦性差。膜层性能达不到使用要求，且使用寿命短。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种结构稳定，膜层之间牢固度高，耐刮擦性能和机械性能好的减反膜镜片。

为实现上述目的，本实用新型提供一种减反膜镜片，包括:

基材；

减反膜，镀制在所述基材的一个表面上；

所述减反膜由从内到外的九层材料层构成；

所述九层材料层由交替镀制的低折射率材料层和高折射率材料层构成；

所述从内到外的九层膜层分别为：第一低折射率材料层、第一高折射率材料层、第二低折射率材料层、第二高折射率材料层、第三低折射率材料层、第三高折射率材料层、第四低折射率材料层、第四高折射率材料层和第五低折射率材料层。

根据本实用新型的一个方面，所述第一低折射率材料层、所述第二高折射率材料层、所述第三低折射率材料层、所述第四高折射率材料层、所述第五低折射率材料层、所述第六高折射率材料层、所述第七低折射率材料层、所述第八高折射率材料层和所述第九低折射率材料层的厚度范围分别为：189.93-193.75nm、7.84-8nm、26.4-26.94nm、15.34-15.65nm、19.29-19.68nm、71.73-73.17nm、10.34-10.54nm、32.88-33.54nm和97.51-99.47nm。

根据本实用新型的一个方面，所述基材的材料为光学树脂材料。

根据本实用新型的一个方面，所述基材的材料为F52R树脂材料,其折射率为Nd＝1.535，阿贝数Vd＝56.072(-/+0.8％)。

根据本实用新型的一个方面，所述低射率材料层的材料为二氧化硅。

根据本实用新型的一个方面，所述高折射率材料层的材料为五氧化三钛。

为实现上述目的，本实用新型提供一种制备减反膜镜片的方法，包括以下步骤：

(a)采用离子源清洗工艺清洗基材；

(b)真空状态下在基材的一个面上交替镀制九层低折射率材料层和高折射率材料层形成减反膜；

(c)镀膜后保持真空状态。

根据本实用新型的一个方面，镀制减反膜的起始真空度为2.5-3.0×10^-3Pa，温度为85-90℃，恒温时间为10-15min。

根据本实用新型的一个方面，所述(a)步骤中，离子源清洗时间为0.5-1min。

根据本实用新型的一个方面，所述(a)步骤中，离子源清洗工艺的离子源参数设定为以下数值或者数值范围，

根据本实用新型的一个方面，所述(b)步骤中，各低折射率材料层的镀膜速率为镀膜真空压力为1.0-1.1×10^-2Pa；

各高折射率材料层的镀膜速率为镀膜真空压力为1.4-1.5×10^{- 2}Pa。

根据本实用新型的一个方面，所述(b)步骤中，采用离子源辅助的真空镀膜方法镀膜，离子源参数设定为以下数值或者数值范围，

根据本实用新型的一个方面，所述(c)步骤中，镀膜完成后需保持真空状态5min以上。

根据本实用新型的减反膜镜片，由于用塑胶镜片代替现有技术中的玻璃镜片，并且在塑胶镜片的一个表面上沿着远离塑胶镜片的方向，依次镀制有不同厚度的第一低折射率材料层、第一高折射率材料层、第二低折射率材料层、第二高折射率材料层、第三低折射率材料层、第三高折射率材料层、第四低折射率材料层、第四高折射率材料层和第五低折射率材料层，相较于现有技术，大大提高了减反膜镜片的结构稳定性、耐刮擦性和机械性能以及膜层的牢固程度。

根据本实用新型的制备减反膜镜片方法步骤(a)，采用离子源清洗工艺清洗基材，保证基材的洁净无污，便于后续步骤在基材表面上镀制减反膜。

根据本实用新型制备减反膜镜片方法步骤(b)，在恒温85-90°的真空中镀膜，避免镀膜时外界污染物对膜层造成污染，镀制低折射率材料层和高折射率材料层时采用不同的镀膜速率和镀膜压力，提高镀制效率的同时，增加了膜层之间的牢固性，也提高了膜层的强度和耐刮擦性。

根据本实用新型的镀制减反膜的方法，通过在基材上交替镀制共9层厚度不同的低、高折射率材料层，并且首先镀制低折射率的材料层，使得镀制膜层的强度和膜层之间牢固性大大增强，大幅度的提升了膜层的耐刮擦性。此外，镀膜过程中，采用上述参数的离子源辅助镀膜并充入不同流量的氧气和氩气，提高了镀膜的效率，也进一步提升了膜层的牢固程度和耐刮擦性。

附图说明

图1是示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的减反膜镜片的结构示意图；

图2是示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的F52R树脂镜片减反膜的光谱特性图；

图3是示意性表示根据本实用新型的另一种实施方式的F52R树脂镜片减反膜的光谱特性图；

图4是示意性表示根据本实用新型的第三种实施方式的F52R树脂镜片减反膜的光谱特性图。

具体实施方式

为了更清楚地说明本实用新型实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

在针对本实用新型的实施方式进行描述时，术语“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”所表达的方位或位置关系是基于相关附图所示的方位或位置关系，其仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此上述术语不能理解为对本实用新型的限制。

下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作详细地描述，实施方式不能在此一一赘述，但本实用新型的实施方式并不因此限定于以下实施方式。

图1是示意性表示根据本实用新型的一种实施方式的减反膜镜片的结构示意图。如图1所示，根据本实用新型的减反膜镜片包括基材1和减反膜2。减反膜2镀制在基材1的一个表面上，根据本实用新型的减反膜镜片，基材1的材料选用光学树脂材料制成。在本实施方式中，基材1的材料为F52R树脂材料，其折射率为Nd＝1.535，阿贝数Vd＝56.072(-/+0.8％)。减反膜2镀制在基材1的上表面上。根据本实用新型的减反膜2由9层材料层组成，9层材料层分为低折射率材料层和高折射率材料层两种，并且9层材料层是由低折射率材料层和高折射率材料层交替排列组成的，9层材料层沿着远离基材1的方向分别为第一低折射率材料层201、第一高折射率材料层202、第二低折射率材料层203、第二高折射率材料层204、第三低折射率材料层205、第三高折射率材料层206、第四低折射率材料层207、第四高折射率材料层208和第五低折射率材料层209，换言之，减反膜2按照第一低折射率材料层201、第一高折射率材料层202、第二低折射率材料层203、第二高折射率材料层204、第三低折射率材料层205、第三高折射率材料层206、第四低折射率材料层207、第四高折射率材料层208和第五低折射率材料层209的顺序依次镀制在基材1的上表面上。

根据本实用新型的减反膜2，分为低折射率材料层和高折射率材料层，其中所有低折射率材料层的材料均为二氧化硅，所有高折射率的材料层的材料均为五氧化三钛。在本实施方式中，根据本实用新型的第一低折射率材料层201、第一高折射率材料层202、第二低折射率材料层203、第二高折射率材料层204、第三低折射率材料层205、第三高折射率材料层206、第四低折射率材料层207、第四高折射率材料层208和第五低折射率材料层209的厚度范围分别为189.93-193.75nm、7.84-8nm、26.4-26.94nm、15.34-15.65nm、19.29-19.68nm、71.73-73.17nm、10.34-10.54nm、32.88-33.54nm和97.51-99.47nm。

根据本实用新型的减反膜镜片，用F52R树脂材料的基材1代替现有技术中的玻璃镜片，这种F52R树脂镜片相比玻璃镜片较软，机械强度不够，表面的耐刮擦性能较差，且不耐高温。在这种材料作为镜片基材的情况下，根据本实用新型的一种实施方式，在基材1的一个表面上沿着远离基材1的方向，依次镀制有不同厚度的第一低折射率材料层201、第一高折射率材料层202、第二低折射率材料层203、第二高折射率材料层204、第三低折射率材料层205、第三高折射率材料层206、第四低折射率材料层207、第四高折射率材料层208和第五低折射率材料层209，就大大地提高了减反膜镜片的结构稳定性、耐刮擦性和机械性能以及膜层间的牢固程度，相应的镜片所能承受的温度也有所提高，表面的硬度更高。

根据本实用新型，还提供了制备上述减反膜镜片的方法，包括以下步骤：

(a)采用离子源清洗工艺清洗基材1；

(b)真空状态下在基材1的一个面上交替镀制九层低折射率材料层和高折射率材料层形成减反膜；

(c)持续真空状态后，完成镀膜。。

根据本实用新型的一种实施方式，在上述(a)步骤中，离子源清洗工艺的离子源参数设定为以下表1中的数值或者数值范围，

表1

表1是步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。根据本实用新型的一种实施方式，首先将基材1放置于真空环境，将反应离子束能量与离子束分布密度的离子源各项参数设置为电压450V、电流450mA、高压480V、比率150％，再向真空环境中同时充入气体1、气体2和气体3，气体1为60sccm氧气，气体2为10sccm氩气，气体3为8sccm氩气。采用离子源清洗工艺对基材1进行时长为0.5-1min的清洗，使得真空环境中的基材1洁净无污，便于后续步骤减反膜2的镀制，保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率材料层与基材1附着性的效果。

在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为85-90°并需持续10-15min，当镀膜真空室的真空度到达2.5×10^-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.0-1.1×10^-2Pa，各高折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.4-1.5×10^-2Pa。根据本实用新型步骤(b)在恒温85-90°的真空中镀膜，避免镀膜时外界污染物对膜层造成污染，低折射率材料层和高折射率材料层采用上述参数设置镀制，提高镀制效率的同时，增加了膜层之间的牢固性，也提高了膜层的强度和耐刮擦性。

在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：

1)镀制第一低折射率材料层201，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为310s，镀膜厚度为189.93nm。

2)镀制第一高折射率材料层202，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为19s，镀膜厚度为7.84nm。

3)镀制第二低折射率材料层203，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为43s，镀膜厚度为26.4nm。

4)镀制第二高折射率材料层204，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为37s，镀膜厚度为15.34nm。

5)镀制第三低折射率材料层205，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为32s，镀膜厚度为19.29nm。

6)镀制第三高折射率材料层206，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为178s，镀膜厚度为71.73nm。

7)镀制第四低折射率材料层207，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为17s，镀膜厚度为10.34nm。

8)镀制第四高折射率材料层208，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为82s，镀膜厚度为32.88nm。

9)镀制第五低折射率材料层209，镀膜速率为镀膜压力为1.0-1.1×10^-2Pa，镀膜时间为163s，镀膜厚度为97.51nm。

此外，在本实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表2中的数值或者数值范围，

表2

表2是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10^-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。镀制第一低折射率材料层201、第二低折射率材料层203、第三低折射率材料层205、第四低折射率材料层207、第五低折射率材料层209时，高能离子源的各项参数设定为电压600V、电流600mA、高压580V、比率150％。镀制第一高折射率材料层202、第二高折射率材料层204、第三高折射率材料层206、第四高折射率材料层208时，高能离子源的各项参数设定为电压850V、电流700mA、高压620V、比率150％。由表2可知，镀制低折射率材料层和镀制高折射率材料层时的高能离子源的各项参数是不同的，在上述设定参数范围内镀膜，有利于增加材料层之间的致密性，也可以使得减反膜2的硬度得到提高。此外，由表2可知，在利用高能离子源辅助镀膜时，会向镀膜真空室中同时充入气体1、气体2和气体3，充入气体1、充入气体2和充入气体3分别为氧气、氩气和氩气。在镀制低折射率材料层时，同时充入60sccm氧气和8sccm氩气，在镀制高折射率材料层时，同时充气75sccm氧气、10sccm氩气和8sccm氩气。同时充入氧气和氩气可以保证离子源正常启动，而充入气体的流量不同，有助于保证镀制膜层的机械性能。

根据本实用新型的镀制减反膜2的方法，通过在基材1上交替镀制共9层厚度不同的低、高折射率材料层，并且首先镀制低折射率的材料层，使得镀制膜层的强度和牢固性大大增强，大幅度的提升了膜层的耐刮擦性。此外，镀膜过程中，采用上述参数的离子源辅助镀膜并充入不同流量的氧气和氩气，提高了镀膜的效率，也进一步提升了膜层的牢固程度和耐刮擦性。

在本实施方式中，在基材1一个表面上完成镀制减反膜2后，至少需要保持真空状态5min，5min后往机台中充气，此时充入的气体为空气，使得真空环境的压力变为1个标准大气压，方便取出镀膜完成的镜片。

图2是示意性表示根据本实用新型一种实施方式的F52R树脂镜片减反膜的光谱特性图。图中横轴表示波长(nm),纵轴表示反射率(R％),由图2可知,波长420-680nm的反射率范围为0-0.4％，小于根据本实用新型的减反膜镜片的符合要求的0.6％的反射率，即根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。

根据本实用新型的另一种实施方式，基材采用离子源清洗工艺清洗时的离子源参数设定数据如表3所示。

表3

表3是步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。在本实施方式中，首先将基材1放置于真空环境，将反应离子束能量与离子束分布密度的离子源各项参数设置为电压550V、电流550mA、高压520V、比率160％，再向真空环境中同时充入氧气65sccm、氩气8sccm和氩气6sccm，采用离子源清洗工艺对基材1进行0.5-1min的清洗，使得真空环境中的基材1洁净无污，便于后续步骤减反膜2的镀制。保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率材料层与基材1附着性的效果。

在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为85-90°并需持续10-15min，当镀膜真空室的真空度到达2.5-3.0×10^-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.0-1.1×10^-2Pa，各高折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.4-1.5×10^-2Pa。

在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：

1)镀制第一低折射率材料层201，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为316s，镀膜厚度为193.75nm。

2)镀制第一高折射率材料层202，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为22s，镀膜厚度为8.00nm。

3)镀制第二低折射率材料层203，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为46s，镀膜厚度为26.94nm。

4)镀制第二高折射率材料层204，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为39s，镀膜厚度为15.65nm。

5)镀制第三低折射率材料层205，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为35s，镀膜厚度为19.68nm。

6)镀制第三高折射率材料层206，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为182s，镀膜厚度为73.17nm。

7)镀制第四低折射率材料层207，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为20s，镀膜厚度为10.54nm。

8)镀制第四高折射率材料层208，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为85s，镀膜厚度为33.54nm。

9)镀制第五低折射率材料层209，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为166s，镀膜厚度为99.47nm。

此外，在本实施实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表4中的数值或者数值范围，

表4

表4是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10^-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。镀制第一低折射率材料层201、第二低折射率材料层203、第三低折射率材料层205、第四低折射率材料层207、第五低折射率材料层209时，高能离子源的各项参数设定为电压700V、电流700mA、高压620V、比率160％。镀制第一高折射率材料层202、第二高折射率材料层204、第三高折射率材料层206、第四高折射率材料层208时，高能离子源的各项参数设定为电压950V、电流750mA、高压670V、比率160％。此外，由表4可知，在镀制低折射率材料层时，会同时向真空镀膜室充入60sccm氧气和8sccm氩气，在镀制高折射率材料层时，同时充入75sccm氧气、10sccm氩气和8sccm氩气。同时充入氧气和氩气可以保证离子源正常启动，而充入气体的流量不同，有助于保证镀制膜层的机械性能。在基材1一个表面上完成镀制减反膜2后，至少需要保持真空状态5min,5min后使向机台充入空气，将真空压力变为1个标准大气压。

图3是示意性表示根据本实用新型另一种实施方式的F52R镜片减反膜的光谱特性图。图中纵轴表示波长(nm),横轴表示反射率(R％),由图3可知，波长420-680nm的反射率小于0.4％，根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。

根据本实用新型的第三种实施方式，基材采用离子源清洗工艺清洗时的离子源参数设定数据如表5所示。

表5

表5是步骤(a)中清洗基材1的离子源参数设定数据。在本实施方式中，首先将基材1放置于真空环境，将反应离子束能量与离子束分布密度的离子源各项参数设置为电压500V、电流500mA、高压500V、比率155％，再向真空环境中同时充入氧气62sccm、氩气9sccm和氩气7sccm，采用离子源清洗工艺对基材1进行0.5-1min的清洗，保证基材1的洁净度，能达到增加第一低折射率材料层与基材1附着性的效果。

在本实施方式中，经过离子源清洗工艺清洗基材1后，再利用镀膜机在基材1的一个表面上镀制减反膜2。机台温度设置为85-90°并需持续10-15min，当镀膜真空室的真空度到达2.5-3.0×10^-3Pa时，开始镀膜。镀膜时，各低折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.0-1.1×10^-2Pa，各高折射率材料层的镀膜速率为镀膜压力为1.4-1.5×10^-2Pa。

在本实施方式中，步骤(b)在基材1的一个表面上镀制减反膜2的具体步骤如下：

1)镀制第一低折射率材料层201，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为313s，镀膜厚度为191.83nm。

2)镀制第一高折射率材料层202，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为20s，镀膜厚度为7.92nm。

3)镀制第二低折射率材料层203，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为45s，镀膜厚度为26.67nm。

4)镀制第二高折射率材料层204，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为38s，镀膜厚度为15.49nm。

5)镀制第三低折射率材料层205，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为34s，镀膜厚度为19.48nm。

6)镀制第三高折射率材料层206，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为180s，镀膜厚度为72.45nm。

7)镀制第四低折射率材料层207，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为19s，镀膜厚度为10.44nm。

8)镀制第四高折射率材料层208，镀膜速率为镀膜压力为1.5×10^-2Pa，镀膜时间为83s，镀膜厚度为33.21nm。

9)镀制第五低折射率材料层209，镀膜速率为镀膜压力为1.0×10^-2Pa，镀膜时间为165s，镀膜厚度为98.48nm。

此外，在本实施实施方式中，镀膜工艺中还使用了离子源轰击辅助镀膜。离子源参数设定为以下表6中的数值或者数值范围，

表6

表6是高能离子源轰击辅助镀膜的参数设定数据。当镀膜真空室的真空度达到2.5×10^-3Pa开始镀膜后，高能离子源开始辅助镀膜。镀制第一低折射率材料层201、第二低折射率材料层203、第三低折射率材料层205、第四低折射率材料层207、第五低折射率材料层209时，高能离子源的各项参数设定为电压650V、电流650mA、高压600V、比率155％。镀制第一高折射率材料层202、第二高折射率材料层204、第三高折射率材料层206、第四高折射率材料层208时，高能离子源的各项参数设定为电压900V、电流730mA、高压650V、比率155％。此外，由表6可知，在镀制低折射率材料层时，会同时向真空镀膜室充入62sccm氧气和7sccm氩气，在镀制高折射率材料层时，同时充入72sccm氧气、9sccm氩气和7sccm氩气。在基材1一个表面上完成镀制减反膜2后，至少需要保持真空状态5min,5min后向机台充入空气。

图4是示意性表示根据本实用新型第三种实施方式的F52R镜片减反膜的光谱特性图。图中纵轴表示波长(nm),横轴表示反射率(R％),由图3可知，波长420-680nm的反射率小于0.4％，根据本实施方式镀制的减反膜2的减反效果符合规格。

根据本实用新型的上述实施方式，实际测定减反膜镜片的机械性能的方法和标准如下表7所示：

表7

表7为根据本实用新型的减反膜镜片的机械性能测试评定表。如表7所示，根据本实用新型的制备减反膜镜片的方法，上述三种实施方式，虽然在离子源参数设定、镀膜工艺参数设定上和充气参数设定方面存在差异，但通过表7中胶带法、擦拭法和铅笔硬度测试法测试后，根据发明三种实施方式的的减反膜镜片均未出现掉膜和表面刮擦现象，均为合格产品。同样的，对根据本实用新型的三种实施方式的减反膜镜片进行分光性能测试，均符合规格。据此可以得出结论，为使减反膜2的膜层更为牢固，强度更高，耐刮擦性更好，在步骤(a)、(b)中离子源的参数设定应为以下数值范围：

镀膜工艺中镀制第一低折射率材料层201、第一高折射率材料层202、第二低折射率材料层203、第二高折射率材料层204、第三低折射率材料层205、第三高折射率材料层206、第四低折射率材料层207、第四高折射率材料层208和第五低折射率材料层209的厚度范围分别为189.93-193.75nm、7.84-8nm、26.4-26.94nm、15.34-15.65nm、19.29-19.68nm、71.73-73.17nm、10.34-10.54nm、32.88-33.54nm和97.51-99.47nm。

上述内容仅为本实用新型的具体实施方式的例举，对于其中未详尽描述的设备和结构，应当理解为采取本领域已有的通用设备及通用方法来予以实施。

以上所述仅为本实用新型的一个实施方式而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种减反膜镜片，包括：

基材(1)；

减反膜(2)，镀制在所述基材(1)的一个表面上；其特征在于，

所述减反膜(2)由从内到外的九层材料层构成；

所述九层材料层由交替镀制的低折射率材料层和高折射率材料层构成；

所述从内到外的九层材料层分别为：第一低折射率材料层(201)、第一高折射率材料层(202)、第二低折射率材料层(203)、第二高折射率材料层(204)、第三低折射率材料层(205)、第三高折射率材料层(206)、第四低折射率材料层(207)、第四高折射率材料层(208)和第五低折射率材料层(209)。

2.根据权利要求1所述的减反膜镜片，其特征在于，所述第一低折射率材料层(201)、所述第一高折射率材料层(202)、所述第二低折射率材料层(203)、所述第二高折射率材料层(204)、所述第三低折射率材料层(205)、所述第三高折射率材料层(206)、所述第四低折射率材料层(207)、所述第四高折射率材料层(208)和所述第五低折射率材料层(209)的厚度范围分别为：189.93-193.75nm、7.84-8nm、26.4-26.94nm、15.34-15.65nm、19.29-19.68nm、71.73-73.17nm、10.34-10.54nm、32.88-33.54nm和97.51-99.47nm。

3.根据权利要求2所述的减反膜镜片，其特征在于，所述基材(1)的材料为光学树脂材料。

4.根据权利要求3所述的减反膜镜片，其特征在于，所述基材(1)的材料为F52R树脂材料，其折射率为Nd＝1.535，阿贝数Vd＝56.072(-/+0.8％)。

5.根据权利要求4所述的减反膜镜片，其特征在于，所述低折射率材料层的材料为二氧化硅。

6.根据权利要求1至5之一所述的减反膜镜片，其特征在于，所述高折射率材料层的材料为五氧化三钛。