CN206882353U - 器皿清洗装置 - Google Patents

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邓其馨
张廷贵
柯艺萍
汪金珠
张鼎方
叶仲力
谢卫
许寒春
刘泽春
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Abstract

本实用新型公开了一种器皿清洗装置,涉及试验用具清洗领域,用以快速实现器皿清洗且能避免口宽底窄器皿的套叠在一起。该器皿清洗装置包括清洗容器和搅拌件;清洗容器包括壁体以及由壁体围成的腔体,壁体设有进口和出口,搅拌件设于腔体中,且搅拌件能在清洗容器的腔体中转动以搅拌经由进口进入到腔体中的器皿和清洗液,清洗后的器皿和废液经由所述出口排出。上述技术方案,采用搅动的方式清洗器皿,清洗快速,且清洗效果好;由于器皿被搅动了,故器皿不易套叠在一起。

Description

器皿清洗装置
技术领域
本实用新型涉及实验用具清洗领域,具体涉及一种器皿清洗装置。
背景技术
化学检测常涉及实验器皿的彻底清洗,其对于检测结果有着重要的影响。由于实验检测项目越来越多,对器皿的需求量也越来越大。
发明人发现,现有技术中至少存在下述问题:在清洗口宽底窄的器皿时,器皿容易头尾相连接在一起,造成器皿清洗繁琐与不彻底。
实用新型内容
本实用新型的其中一个目的是提出一种器皿清洗装置,用以快速清洗器皿且能避免口宽底窄器皿的套叠在一起。
为实现上述目的,本实用新型提供了以下技术方案:
本实用新型提供了一种器皿清洗装置,包括清洗容器和搅拌件;所述清洗容器包括壁体以及由所述壁体围成的腔体,所述壁体设有进口和出口,所述搅拌件设于所述腔体中,且所述搅拌件能在所述清洗容器的腔体中转动以搅拌经由所述进口进入到所述腔体中的器皿和清洗液,清洗后的所述器皿和废液经由所述出口排出。
在可选的实施例中,所述搅拌件包括搅拌轴和叶片,所述叶片设于所述搅拌轴,所述搅拌轴设于所述腔体中,其中,所述搅拌轴转动能带动所述叶片转动。
在可选的实施例中,所述搅拌轴包括连通的空腔和微孔,清洗液及干燥气体能经由所述空腔后由所述微孔喷出。
在可选的实施例中,所述叶片包括连通的内腔和开孔,清洗液及干燥气体能经由所述内腔后由所述开孔喷出。
在可选的实施例中,所述清洗容器的内壁设有喷孔,清洗液及干燥气体能经由所述喷孔喷出至所述腔体中。
在可选的实施例中,所述清洗容器的壁体设有出气口以及控制所述出气口开合状态的控制阀。
在可选的实施例中,所述进口包括进液口和器皿入口,所述器皿入口的尺寸大于所述进液口的尺寸,且所述进液口和所述器皿入口都位于所述壁体的顶部。
在可选的实施例中,所述出口包括出液口和器皿出口,所述器皿出口的尺寸大于所述出液口的尺寸,且所述出液口和所述器皿出口都位于所述壁体的底部。
在可选的实施例中,器皿清洗装置还包括收集容器,所述收集容器设于所述器皿出口的下方。
在可选的实施例中,器皿清洗装置还包括摩擦部,所述摩擦部设于所述清洗容器的腔体中,且所述摩擦部是活动的。
在可选的实施例中,器皿清洗装置还包括减振部件,所述减振部件设于所述清洗容器的底部,以支撑所述清洗容器。
在可选的实施例中,器皿清洗装置还包括液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述腔体内液面的液位线,以在所述液位线超过最高阈值或低于最低阈值时发出报警信号。
在可选的实施例中,器皿清洗装置还包括超声波清洗仪,所述超声波清洗仪设于所述壁体的外壁面。
基于上述技术方案,本实用新型实施例至少可以产生如下技术效果:
上述技术方案,采用搅动的方式清洗器皿,清洗快速,且清洗效果好;由于器皿被搅动了,在清洗过程中始终是运动的,故器皿不易套叠在一起。
附图说明
此处所说明的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
图1为本实用新型实施例提供的器皿清洗装置结构示意图;
图2为待清洗器皿的结构示意图。
附图标记:1、清洗容器;2、搅拌件;3、器皿;4、出气口;5、收集容器;6、摩擦部;7、减振部件;8、最高液位线;9、最低液位线;11、壁体;12、腔体;13、喷孔;21、搅拌轴;22、叶片;111、进口;112、出口;113、进液口;114、器皿入口;115、出液口;116、器皿出口;211、微孔;221、开孔。
具体实施方式
下面结合图1~图2对本实用新型提供的技术方案进行更为详细的阐述。
参见图1和图2,本实用新型实施例提供一种器皿清洗装置,能够快速清洗试验用的器皿3、特别是口宽底窄的器皿3。该器皿清洗装置包括清洗容器1和搅拌件2。清洗容器1包括壁体11以及由壁体11围成的腔体12,壁体11设有进口111和出口112,搅拌件2设于腔体12中,且搅拌件2能在清洗容器1的腔体12中转动以搅拌经由进口111进入到腔体12中的器皿3和清洗液,清洗后的器皿3和废液经由出口112排出。
进口111可以只设置一个,清洗液和待清洗器皿3都通过该进口111进入到清洗容器1的腔体12中。进口111可位于清洗容器1的顶部、侧面上部等位置。
出口112也可以只设置一个,清洗后的废液和清洗后器皿3都通过该出口112从清洗容器1的腔体12出来。出口112可位于清洗容器1的底部、侧面下部等位置。
清洗容器1的具体形状可以有多种,本实施例中以圆柱形结构为例,实际中亦可采用其他形状。
可采用以下方法清洗器皿3:先将清洗液放入到腔体12中,根据需要觉得是否需要清洁剂,然后放入待清洗器皿3。需要说明的是,根据需要也可先放入防器皿3,然后放入清洗液。将进口111盖上,然后启动搅拌件2。搅拌件2转动会搅动清洗液和器皿3,在搅动的过程中,器皿3被清洗干净。
上述技术方案,采用搅动的方式清洗器皿3,清洗快速,且清洗效果好;由于器皿3被搅动了,在清洗过程中始终是运动的,故器皿3不易套叠在一起。
器皿清洗装置还可包括超声波清洗仪(图未示出),超声波清洗仪设于壁体11的外壁面。超声波清洗仪利用超声波清洗器皿3,清洗效果好,且清洗速度快。
下面介绍搅拌件2的结构。参见图1,搅拌件2包括搅拌轴21和叶片22,叶片22设于搅拌轴21,搅拌轴21设于腔体12中,其中,搅拌轴21转动能带动叶片22转动。
参见图1,搅拌轴21可设于清洗容器1的中轴线上,叶片22的数量可以为一个或多个,若为多个,各叶片22在搅拌轴21周向间隔设置,各个叶片22的高度可以相同或不同,本实施例中以各个叶片22的高度不同为例,这样可以同时搅动不同高度的清洗液,使得搅拌更加充分,清洗效果更好。
参见图1,搅拌轴21包括连通的空腔(图未示出)和微孔211,清洗液及干燥气体能先进入空腔,然后由微孔211喷出。
器皿3的清洗有时需要多个步骤:先采用清洗剂清洗,再采用去离子水清洗、最后采用气体吹干。上述三个步骤可以采用同一个器皿清洗装置实现,具体如下:先采用清洗剂清洗,然后排出废液。再向清洗容器1腔体12中注入去离子水漂洗,然后排出废液。最后向容器腔体12中注入干燥气体,干燥后去除器皿3。至此完成器皿3的清洗和干燥。
承上述,搅拌轴21包括连通的空腔和微孔211,在上述三个步骤中,每个步骤所需要的气体或液体都能可选地经由空腔和微孔211向清洗容器1的腔体12中排出,利用液体喷出的压力,能够更有效地清洗器皿3;利用气体喷出的压力,能够更有效地干燥器皿3。
参见图1,叶片22包括连通的内腔(图未示出)和开孔221,清洗液及干燥气体能经由内腔后由开孔221喷出。在上述三个步骤中,每个步骤所需要的气体或液体都能可选地经由内腔和开孔221向清洗容器1的腔体12中排出,利用液体喷出的压力,能够更有效地清洗器皿3;利用气体喷出的压力,能够更有效地干燥器皿3。
参见图1,清洗容器1的内壁设有喷孔13,清洗液及干燥气体能经由喷孔13喷出至腔体12中。
清洗容器1的内壁设有喷孔13,在上述三个步骤中,每个步骤所需要的气体或液体都能可选地经由内腔和开孔221向清洗容器1的腔体12中排出,利用液体喷出的压力,能够更有效地清洗器皿3;利用气体喷出的压力,能够更有效地干燥器皿3。
参见图1,清洗容器1的壁体11设有出气口4以及控制出气口4开合状态的控制阀(图未示出)。设置出气口4,在需要向清洗容器1腔体12中输送干燥气体时,适度地打开控制阀,可使得清洗容器1腔体12内的气体压力保持均衡,避免出现危险。
参见图1,本实施例中,进口111包括进液口113和器皿入口114,器皿入口114的尺寸大于进液口113的尺寸,且进液口113和器皿入口114都位于壁体11的顶部。将进液口113和器皿入口114分开设置,便于操作。
参见图1,本实施例中,出口112包括出液口115和器皿出口116,器皿出口116的尺寸大于出液口115的尺寸,且出液口115和器皿出口116都位于壁体11的底部。将出液口115和器皿出口116分开设置,便于操作。
参见图1,本实施例中,器皿清洗装置还包括收集容器5,收集容器5设于器皿出口116的下方。清洗后的器皿3能直接排出到收集容器5中。
为改善清洗效果,器皿清洗装置还包括摩擦部6,摩擦部6设于清洗容器1的腔体12中,且摩擦部6是活动的。本实施例中,摩擦部6是小毛球,其材质可以为塑料或者布,小毛球直接放置在清洗容器1的腔体12中。在清洗过程中,小毛球被搅动起来,与器皿3的内壁或外表面摩擦碰撞,可以更快、更有效地清洗器皿3。
参见图1,器皿清洗装置还包括减振部件7,减振部件7设于清洗容器1的底部,以支撑清洗容器1。本实施例中采用角钢支架作为减振部件7,减振部件7起到减振、支撑、防滑的作用。
为保证使用安全,器皿清洗装置还包括液位检测装置,液位检测装置用于检测腔体12内液面的液位线,以在液位线超过最高阈值或低于最低阈值时发出报警信号。
图1中示意了最高液位线8以及最低液位线9,最高阈值对应最高液位线8对应的高度,最低阈值对应最低液位线9对应的高度。液位检测装置检测到的液位线超过最高阈值、低于最低阈值都是不安全的,在清洗作业中,液位检测装置检测到任一一种情况都会发出报警信号,以保证设备使用的安全性。
可选地,器皿清洗装置还包括控制器(图未示出),控制器与搅拌件2、超声波清洗仪的电路均电连接,控制器发出控制指示,以控制搅拌件2的转动以及超声波清洗仪的工作。
控制器还可控制通入到清洗容器1腔体12中的清洗液和干燥气体的温度和压力,以根据需要清洗不同溶解程度的粘稠杂质。
下面介绍上述器皿清洗装置的清洗操作。
装置开始工作前,先将器皿3从器皿入口114放入,盖上盖子。然后通过控制器设置所需的参数(如搅拌速度、压缩空气的压力与温度)。
器皿清洗装置开始工作时,进液口113开始进清洗液,清洗液可以是清水、去离子水、带有洗涤剂的液体等。装置壳体内壁设有液位检测装置,如进水量超过最高液位线8时,装置自动报警。根据需要,可选地将洗涤剂加入清洗容器1的腔体12内。清洗容器1壁体11设有可调节压缩空气与清洗液温度的喷孔13,搅拌件2开始工作后,清洗容器1的喷孔13也开始喷射清洗液。叶片22在转动过程中与腔体12内壁相互作用下,形成漩涡来带动小毛球旋转。清洗容器1外壁还设有超声波清洗仪,能够对器皿3更进一步的清洗。如器皿3附上流体粘稠杂质,可通过控制设备调节温度,使流体粘稠杂质溶解,能更进一步的清洗。本装置一般清洗三遍,第三遍采用去离子水清洗。
装置结束清洗时,污水通过出液口115排出(出液口115可通过管道连通下水道)。打开器皿出口116上的开口阀,器皿3、小毛球从器皿出口116排出,流入收集容器5里。
本实用新型提供的器皿清洗装置,可实现将器皿3完全分离,防止器皿3头尾相连接,清洗更彻底、更快速,能够满足实验要求。
在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗指所指的装置或元件必须具有特定的方位、为特定的方位构造和操作,因而不能理解为对本实用新型保护内容的限制。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案,而非对其限制;尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,本领域的普通技术人员应当理解:其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,但这些修改或者替换,并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。

Claims (13)

1.一种器皿清洗装置,其特征在于,包括清洗容器(1)和搅拌件(2);所述清洗容器(1)包括壁体(11)以及由所述壁体(11)围成的腔体(12),所述壁体(11)设有进口(111)和出口(112),所述搅拌件(2)设于所述腔体(12)中,且所述搅拌件(2)能在所述清洗容器(1)的腔体(12)中转动以搅拌经由所述进口(111)进入到所述腔体(12)中的器皿(3)和清洗液,清洗后的所述器皿(3)和废液经由所述出口(112)排出。
2.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述搅拌件(2)包括搅拌轴(21)和叶片(22),所述叶片(22)设于所述搅拌轴(21),所述搅拌轴(21)设于所述腔体(12)中,其中,所述搅拌轴(21)转动能带动所述叶片(22)转动。
3.根据权利要求2所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述搅拌轴(21)包括连通的空腔和微孔(211),清洗液及干燥气体能经由所述空腔后由所述微孔(211)喷出。
4.根据权利要求2所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述叶片(22)包括连通的内腔和开孔(221),清洗液及干燥气体能经由所述内腔后由所述开孔(221)喷出。
5.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述清洗容器(1)的内壁设有喷孔(13),清洗液及干燥气体能经由所述喷孔(13)喷出至所述腔体(12)中。
6.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述清洗容器(1)的壁体(11)设有出气口(4)以及控制所述出气口(4)开合状态的控制阀。
7.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述进口(111)包括进液口(113)和器皿入口(114),所述器皿入口(114)的尺寸大于所述进液口(113)的尺寸,且所述进液口(113)和所述器皿入口(114)都位于所述壁体(11)的顶部。
8.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,所述出口(112)包括出液口(115)和器皿出口(116),所述器皿出口(116)的尺寸大于所述出液口(115)的尺寸,且所述出液口(115)和所述器皿出口(116)都位于所述壁体(11)的底部。
9.根据权利要求8所述的器皿清洗装置,其特征在于,还包括收集容器(5),所述收集容器(5)设于所述器皿出口(116)的下方。
10.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,还包括摩擦部(6),所述摩擦部(6)设于所述清洗容器(1)的腔体(12)中,且所述摩擦部(6)是活动的。
11.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,还包括减振部件(7),所述减振部件(7)设于所述清洗容器(1)的底部,以支撑所述清洗容器(1)。
12.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,还包括液位检测装置,所述液位检测装置用于检测所述腔体(12)内液面的液位线,以在所述液位线超过最高阈值或低于最低阈值时发出报警信号。
13.根据权利要求1所述的器皿清洗装置,其特征在于,还包括超声波清洗仪,所述超声波清洗仪设于所述壁体(11)的外壁面。
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