CN206868206U - 一种蚀刻液再生硫酸铜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种蚀刻液再生硫酸铜设备，包括底座，底座的顶部对应两侧均安装有支撑座，支撑座的顶部安装有反应釜，反应釜的底部安装有出料管，出料管上安装有第一电磁阀，反应釜与出料管的连接处安装有过滤网，反应釜的上安装有控制面板，控制面板上安装有显示屏、控制按钮和指示灯，控制面板的内部安装有单片机，反应釜的一侧安装有蚀刻液进管，蚀刻液进管上安装有第二电磁阀，反应釜的另一侧安装有进水管，进水管上安装有第三电磁阀，反应釜的顶部安装有釜盖，釜盖的顶部中心处安装有旋转电机，釜盖的对应两侧均通过连接管分别与盐酸罐和硫酸罐连接，该再生硫酸铜设备，回收效率高，使用方便。
Description
技术领域
本实用新型涉及蚀刻液回收处理技术领域，具体为一种蚀刻液再生硫酸铜设备。
背景技术
印刷电路板，作为电子元器件的支撑体，是电子元器件电气连接的提供者。PCB工业是中国电子信息产业的支柱产业，其增长速率与电子信息产业呈同比率增长。几十年的PCB生产实践过程，使人们越来越认识到该工业不仅仅是国家工业生产的用水大户，更是污染环境的大户。印刷电板路经蚀刻生产后产生大量的含铜废蚀刻液。蚀刻液有碱性（NH3-NH4Cl）和酸性两大类。碱性蚀刻液废液中含有Cu2+，NH4 +，Cu(NH3)4 2+， NH3等，其中铜主要以Cu(NH3)4 2+形式存在，含铜量平均160g/L；目前，蚀刻废液的处理方法主要包括化学沉淀法、絮凝沉淀法、溶剂萃取法、回收铜、硫酸铜等。
现有的蚀刻液再生硫酸铜设备工作效率低，硫酸铜回收效率不高，且回收的硫酸铜纯度不高。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种蚀刻液再生硫酸铜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。
为了解决上述技术问题，本实用新型提供如下技术方案：一种蚀刻液再生硫酸铜设备，包括底座，所述底座通过导线与电源插头连接，所述底座的顶部对应两侧均安装有支撑座，所述支撑座的顶部安装有反应釜，所述反应釜的底部安装有出料管，所述出料管上安装有第一电磁阀，所述反应釜与所述出料管的连接处安装有过滤网，所述反应釜的上安装有控制面板，所述控制面板上安装有显示屏、控制按钮和指示灯，所述控制面板的内部安装有单片机，所述反应釜的一侧安装有蚀刻液进管，所述蚀刻液进管上安装有第二电磁阀，所述反应釜的另一侧安装有进水管，所述进水管上安装有第三电磁阀，所述反应釜的顶部安装有釜盖，所述釜盖的顶部中心处安装有旋转电机，所述釜盖的对应两侧均通过连接管分别与盐酸罐和硫酸罐连接，所述连接管上安装有第四电磁阀和流量传感器，所述釜盖的底部安装有旋转圆盘，所述旋转圆盘的底部对应两侧均安装有搅拌棒，所述反应釜靠近蚀刻液进管的一侧内壁安装有液位传感器，所述液位传感器的下部安装有温度传感器，所述反应釜的釜壁内部安装有电热丝。
进一步的，所述第一电磁阀、控制面板、第三电磁阀、第四电磁阀、第二电磁阀、旋转电机、温度传感器、液位传感器、流量传感器和电热丝均与单片机电性连接。
进一步的，所述单片机为一种AT89S51单片机。
进一步的，所述旋转电机与旋转圆盘通过齿轮活动连接。
进一步的，所述反应釜与釜盖通过卡扣活动连接。
与现有技术相比，本实用新型所达到的有益效果是：该蚀刻液再生硫酸铜设备，通过操控控制面板使单片机控制第二电磁阀打开，将蚀刻液通过蚀刻液进管通入反应釜内，再通过操控控制面板使单片机控制第四电磁阀打开，将一定量的盐酸注入到蚀刻液中，将生成Cu(OH)C1等沉淀，再通过操控控制面板使单片机控制第一电磁阀打开，将废液排出，同时加入一定量的清水对Cu(OH)C1等沉淀进行清洗后，在关闭第一电磁阀使电热丝工作，便于将沉淀物进行快速烘干，再再通过操控控制面板使单片机控制第四电磁阀打开，将一定量的硫酸加入到沉淀物中，进行反应，一段时间后打开釜盖，加入一定量的乙醇，冷却结晶后将废液排出，便于收集硫酸铜，硫酸铜在乙醇中的溶解度小，在重结晶过程中加入乙醇，可以提高硫酸铜的收率，减少硫酸铜的损失，降低氯化物的含量，达到提高硫酸铜的品质的目的，通过操控控制面板使单片机控制旋转电机工作，带动搅拌棒对溶液进行搅拌，可以提升反应速率，继而提高工作效率，液位传感器便于监控液位，防止蚀刻液加入过多，温度传感器便于实时监控反应釜内部温度，便于精确调节温度。
附图说明
附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：
图1是本实用新型的整体结构示意图；
图2是本实用新型的整体内部结构示意图；
图3是本实用新型的反应釜釜壁内部结构示意图；
图4是本实用新型的控制面板内部结构示意图；
图中：1-底座；2-电源插头；3-第一电磁阀；4-支撑座；5-反应釜；6-控制面板；7-第三电磁阀；8-进水管；9-釜盖；10-第四电磁阀；11-第二电磁阀；12-蚀刻液进管；13-盐酸罐；14-旋转电机；15-硫酸罐；16-出料管；17-温度传感器；18-液位传感器；19-流量传感器；20-旋转圆盘；21-搅拌棒；22-过滤网；23-电热丝；24-单片机。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种蚀刻液再生硫酸铜设备，包括底座1，底座1通过导线与电源插头2连接，底座1的顶部对应两侧均安装有支撑座4，支撑座4的顶部安装有反应釜5，反应釜5的底部安装有出料管16，出料管16上安装有第一电磁阀3，反应釜5与出料管16的连接处安装有过滤网22，反应釜5的上安装有控制面板6，控制面板6上安装有显示屏、控制按钮和指示灯，控制面板6的内部安装有单片机24，反应釜5的一侧安装有蚀刻液进管12，蚀刻液进管12上安装有第二电磁阀11，反应釜5的另一侧安装有进水管8，进水管8上安装有第三电磁阀7，反应釜5的顶部安装有釜盖9，釜盖9的顶部中心处安装有旋转电机14，釜盖9的对应两侧均通过连接管分别与盐酸罐13和硫酸罐15连接，连接管上安装有第四电磁阀10和流量传感器19，釜盖9的底部安装有旋转圆盘20，旋转圆盘20的底部对应两侧均安装有搅拌棒21，反应釜5靠近蚀刻液进管12的一侧内壁安装有液位传感器18，液位传感器18的下部安装有温度传感器17，反应釜5的釜壁内部安装有电热丝23。
进一步的，第一电磁阀3、控制面板6、第三电磁阀7、第四电磁阀10、第二电磁阀11、旋转电机14、温度传感器17、液位传感器18、流量传感器19和电热丝23均与单片机24电性连接，便于信号的传输。
进一步的，单片机24为一种AT89S51单片机，具有高性能和低功耗的特点。
进一步的，旋转电机14与旋转圆盘20通过齿轮活动连接，便于带动旋转圆盘20旋转。
进一步的，反应釜5与釜盖9通过卡扣活动连接，便于打开釜盖9。
工作原理：工作时，通过操控控制面板6使单片机24控制第二电磁阀11打开，将蚀刻液通过蚀刻液进管12通入反应釜5内，再通过操控控制面板6使单片机24控制第四电磁阀10打开，将一定量的盐酸注入到蚀刻液中，将生成Cu(OH)C1等沉淀，再通过操控控制面板6使单片机24控制第一电磁阀3打开，将废液排出，同时加入一定量的清水对Cu(OH)C1等沉淀进行清洗后，在关闭第一电磁阀3使电热丝23工作，便于将沉淀物进行快速烘干，再再通过操控控制面板6使单片机24控制第四电磁阀10打开，将一定量的硫酸加入到沉淀物中，进行反应，一段时间后打开釜盖9，加入一定量的乙醇，冷却结晶后将废液排出，便于收集硫酸铜，硫酸铜在乙醇中的溶解度小，在重结晶过程中加入乙醇，可以提高硫酸铜的收率，减少硫酸铜的损失，降低氯化物的含量，达到提高硫酸铜的品质的目的，通过操控控制面板6使单片机24控制旋转电机14工作，带动搅拌棒21对溶液进行搅拌，可以提升反应速率，继而提高工作效率，液位传感器18便于监控液位，防止蚀刻液加入过多，温度传感器17便于实时监控反应釜5内部温度，便于精确调节温度。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (5)
1.一种蚀刻液再生硫酸铜设备，包括底座（1），其特征在于：所述底座（1）通过导线与电源插头（2）连接，所述底座（1）的顶部对应两侧均安装有支撑座（4），所述支撑座（4）的顶部安装有反应釜（5），所述反应釜（5）的底部安装有出料管（16），所述出料管（16）上安装有第一电磁阀（3），所述反应釜（5）与所述出料管（16）的连接处安装有过滤网（22），所述反应釜（5）的上安装有控制面板（6），所述控制面板（6）上安装有显示屏、控制按钮和指示灯，所述控制面板（6）的内部安装有单片机（24），所述反应釜（5）的一侧安装有蚀刻液进管（12），所述蚀刻液进管（12）上安装有第二电磁阀（11），所述反应釜（5）的另一侧安装有进水管（8），所述进水管（8）上安装有第三电磁阀（7），所述反应釜（5）的顶部安装有釜盖（9），所述釜盖（9）的顶部中心处安装有旋转电机（14），所述釜盖（9）的对应两侧均通过连接管分别与盐酸罐（13）和硫酸罐（15）连接，所述连接管上安装有第四电磁阀（10）和流量传感器（19），所述釜盖（9）的底部安装有旋转圆盘（20），所述旋转圆盘（20）的底部对应两侧均安装有搅拌棒（21），所述反应釜（5）靠近蚀刻液进管（12）的一侧内壁安装有液位传感器（18），所述液位传感器（18）的下部安装有温度传感器（17），所述反应釜（5）的釜壁内部安装有电热丝（23）。
2.根据权利要求1所述的一种蚀刻液再生硫酸铜设备，其特征在于：所述第一电磁阀（3）、控制面板（6）、第三电磁阀（7）、第四电磁阀（10）、第二电磁阀（11）、旋转电机（14）、温度传感器（17）、液位传感器（18）、流量传感器（19）和电热丝（23）均与单片机（24）电性连接。
3.根据权利要求1所述的一种蚀刻液再生硫酸铜设备，其特征在于：所述单片机（24）为一种AT89S51单片机。
4.根据权利要求1所述的一种蚀刻液再生硫酸铜设备，其特征在于：所述旋转电机（14）与旋转圆盘（20）通过齿轮活动连接。
5.根据权利要求1所述的一种蚀刻液再生硫酸铜设备，其特征在于：所述反应釜（5）与釜盖（9）通过卡扣活动连接。
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