CN206839879U - 一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公布了一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，包括研磨盘以及与研磨盘紧密贴合的盘座；所述盘座为包括圆盘形的上座体和圆盘形的下座体，所述下座体上设置有进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽均为环形水槽，且同心设置；所述下座体表面设置有内凹式的扇形冷却腔，所述进水槽与下座体上的冷却腔的前端相连，所述出水槽与下座体上的冷却腔的后端相连；所述进水槽的底部设置有进水孔，所述出水槽的底部设置有排水孔。本实用新型目的在于，提供一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，采用分区冷却，温控反应快且效果好，确保恒温加工。

Description

一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统

技术领域

本实用新型属于一种冷却系统，具体为一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统。

背景技术

研磨抛光机主要是用于蓝宝石玻璃、陶瓷等平面粗糙度要求较高的物体的表面的精加工。抛光研磨机采用行星传动结构，与游星轮啮合的太阳轮和齿圈均采用销齿，降低了材料成本，便于维护。研磨机分为上研磨盘和下研磨盘，在研磨时会产生大量的热，因此，研磨盘通常需要配合冷却系统对其进行温控，确保恒温加工，满足工艺要求。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对以上问题，提供一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，采用分区冷却，温控反应快且效果好，确保恒温加工。

为实现以上目的，本实用新型采用的技术方案是：一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，包括研磨盘以及与研磨盘紧密贴合的盘座；所述盘座为包括圆盘形的上座体和圆盘形的下座体，所述下座体上设置有进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽均为环形水槽，且同心设置；所述下座体表面设置有内凹式的扇形冷却腔，所述进水槽与下座体上的冷却腔的前端相连，所述出水槽与下座体上的冷却腔的后端相连；所述进水槽的底部设置有进水孔，所述出水槽的底部设置有排水孔。

进一步的，所述进水槽底部设置有分水孔，所述分水孔通过设置于下座体内部的流道与冷却腔底部的腔内孔连通。

进一步的，所述扇形冷却腔的外弧形壁上设置有溢流缺口，出水槽通过溢流缺口与冷却腔的后端相连。

进一步的，所述溢流缺口上设置有挡片。

进一步的，所述下座体沿径向方向设置有挡筋，所述挡筋将下座体表面的内凹面分隔为多个扇形冷却腔。

进一步的，所述冷却腔内设置有用于引导水流向的筋条。

进一步的，下座体沿圆周方向均匀设置有螺纹安装孔，筋条上设置有螺纹安装孔，多处螺纹锁紧，密封性能更好。

本实用新型的有益效果：

1、采用分区冷却，温控反应快且效果好，确保恒温加工；

2、所述冷却腔内设置有筋条；引导水流走向，进一步调高温控反应速度及效果；

3、采用暗孔进出水，引导水流，结构紧凑，更有利于配合研磨抛光机使用；

4、溢流缺口上设置有挡片，使用不同的挡片可以调节冷却腔内的水量以及水流溢出量。

附图说明

图1为本实用新型立体结构示意图。

图2为本实用新型下座体主视结构示意图。

图3为图2中B处局部放大示意图。

图4为图2中A-A处剖面示意图。

图中所述文字标注表示为：7、研磨盘；71、盘座；73、安装孔；711、上座体；712、下座体；713、进水槽；714、出水槽；715、冷却腔；7131、分水孔；7132、腔内孔；7134、流道；7133、进水孔；7141、溢流缺口；7142、排水孔；7143、挡片；7151、挡筋；7152、筋条。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型进行详细描述，本部分的描述仅是示范性和解释性，不应对本实用新型的保护范围有任何的限制作用。

如图1-图4所示，本实用新型的具体结构为：一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，包括研磨盘7以及与研磨盘7紧密贴合的盘座71；所述盘座71为包括圆盘形的上座体711和圆盘形的下座体712，所述下座体712上设置有进水槽713和出水槽714，所述进水槽713和出水槽714均为环形水槽，且同心设置；所述下座体712表面设置有内凹式的扇形冷却腔715，所述进水槽713与下座体712上的冷却腔715的前端相连，所述出水槽714与下座体712上的冷却腔715的后端相连；所述进水槽713的底部设置有进水孔7133，所述出水槽714的底部设置有排水孔7142。

优选的，所述进水槽713底部设置有分水孔7131，所述分水孔7131通过设置于下座体712内部的流道7134与冷却腔715底部的腔内孔7132连通。

优选的，所述扇形冷却腔715的外弧形壁上设置有溢流缺口7141，出水槽714通过溢流缺口7141与冷却腔715的后端相连。

优选的，所述溢流缺口7141上设置有挡片7143。

优选的，所述下座体712沿径向方向设置有挡筋7151，所述挡筋7151将下座体712表面的内凹面分隔为多个扇形冷却腔715。

优选的，所述冷却腔715内设置有用于引导水流向的筋条7152。

优选的，下座体712沿圆周方向均匀设置有螺纹安装孔，挡筋7151、筋条7152上设置有螺纹安装孔73，多处螺纹锁紧，密封性能更好。

具体使用时，上座体711和下座体712通过螺纹安装孔采用螺纹连接，冷却水由进水孔7133进入到进水槽713进行分流，由分水孔7131通过腔内孔7132进入到冷却腔75内，经过筋条7152引导水流，从溢流缺口7141溢出到出水槽714，从排水孔7142中流出。

需要说明的是，在本文中，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实例的说明只是用于帮助理解本实用新型的方法及其核心思想。以上所述仅是本实用新型的优选实施方式，应当指出，由于文字表达的有限性，而客观上存在无限的具体结构，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以做出若干改进、润饰或变化，也可以将上述技术特征以适当的方式进行组合；这些改进润饰、变化或组合，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均应视为本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，包括研磨盘（7）以及与研磨盘（7）紧密贴合的盘座（71）；所述盘座（71）为包括圆盘形的上座体（711）和圆盘形的下座体（712），所述下座体（712）上设置有进水槽（713）和出水槽（714），所述进水槽（713）和出水槽（714）均为环形水槽，且同心设置；所述下座体（712）表面设置有内凹式的扇形冷却腔（715），所述进水槽（713）与下座体（712）上的冷却腔（715）的前端相连，所述出水槽（714）与下座体（712）上的冷却腔（715）的后端相连；所述进水槽（713）的底部设置有进水孔（7133），所述出水槽（714）的底部设置有排水孔（7142）。

2.根据权利要求1所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，所述进水槽（713）底部设置有分水孔（7131），所述分水孔（7131）通过设置于下座体（712）内部的流道（7134）与冷却腔（715）底部的腔内孔（7132）连通。

3.根据权利要求1所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，所述扇形冷却腔（715）的外弧形壁上设置有溢流缺口（7141），出水槽（714）通过溢流缺口（7141）与冷却腔（715）的后端相连。

4.根据权利要求3所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，所述溢流缺口（7141）上设置有挡片（7143）。

5.根据权利要求1所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，所述下座体（712）沿径向方向设置有挡筋（7151），所述挡筋将下座体（712）表面的内凹面分隔为多个扇形冷却腔（715）。

6.根据权利要求1所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，所述冷却腔（715）内设置有用于引导水流向的筋条（7152）。

7.根据权利要求6所述的一种双面研磨抛光机的研磨盘冷却系统，其特征在于，下座体（712）沿圆周方向均匀设置有螺纹安装孔（73），筋条（7152）上设置有螺纹安装孔（73）。