CN206736350U - 一种高清中性色低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，属于玻璃生产技术领域。它解决了现有低辐射玻璃清透性差等技术问题。一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，低辐射玻璃包括玻璃基片层和位于玻璃基片层一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十个膜层，其中第一层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层为Ag层，第三层Cu层，第四层为NiCr层,第五层为Fe2O3层,第六层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层为Ag层,第八层为NiCr层，第九层为Fe2O3层，第十层为SiNx层。本实用新型具有清透性好等优点。
Description
技术领域
本实用新型属于玻璃生产技术领域，涉及一种高清中性色低辐射镀膜玻璃。
背景技术
现有技术中的Low-E玻璃生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前，单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银，但三银玻璃膜层结构复杂，工艺控制难度大，因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多，且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。
随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高，但是对于市场上大多数的Low-e双银而言，其普遍存在侧面小角度变色的情况，且膜面(色调重)、透过色(发黄/发绿)视觉效果较差，整体感官浑浊不够清透，另一方面客户对颜色的偏好朝中性色方向发展，市面上少量的中性色高清膜系产品受到客户的追捧，各企业均开展有对双银颜色的改良研发工作。
现有的技术存在如下缺点：
1)目前虽有双银中性色产品，但总体仍不够清透，存在透过色发黄/发绿的问题。
2)目前的双银产品多数存在小角度变色的现象，且膜面色调 重，影响装饰效果。
3)双银产品总体生产成本仍然较高，民用市场推广缺乏动力。
实用新型内容
本实用新型的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，本实用新型所要解决的技术问题是如何提高玻璃的清透性能。
本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层和位于玻璃基片层一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十个膜层，其中第一层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层为Ag层，第三层Cu层，第四层为NiCr层,第五层为Fe2O3层,第六层为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层为Ag层,第八层为NiCr层，第九层为Fe2O3层，第十层为SiNx层。
其中第一层为第一电介质组合层，第二层为低辐射功能层，第三层为第一阻挡保护层，第四层为透过色改善层，第六层为第二电介质组合层，第七层为低辐射功能层，第八层为第二阻挡保护层，第九层为透过色改善层，第十层为第三电介质层。通过添加、优化膜层材料，在第八层和第十层之间设置Fe2O3层，有效调节380-550nm波段透过率，改善low-e双银透过色及膜面颜色，使其更加清透。
本高清中性色低辐射镀膜玻璃的制备方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层：
靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～ 5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～55nm；
B、磁控溅射第二层：
靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：2.0～3.5nm；
C、磁控溅射第三层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Cu；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2nm；
D、磁控溅射第四层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.5～2.5nm；
E、磁控溅射第五层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：1.0～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。
F、磁控溅射第六层：
靶材数量：交流旋转靶6～8个；靶材料为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)、锌铝(ZnAl)靶混合使用；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：65～75nm；
G、磁控溅射第七层：
靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：15～20nm；
H、磁控溅射第八层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.4～3.1nm；
I、磁控溅射第九层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。
J、磁控溅射第十层：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为SiNx；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14；溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～50nm；
2)、镀膜层厚度控制在180～205nm之间。
本实用新型获得的有益效果为：
1、制得的玻璃6mm单片透过率为40-55％，玻面外观颜色清新靓丽，色彩纯一；透过色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面颜色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。
2、引入成本较低的不锈钢靶材，降低生产成本。
附图说明
图1是本实用新型中高清中性色低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
图中，a、玻璃基片层；1、第一层；2、第二次；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层。
具体实施方式
以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。
如图1所示，高清中性色低辐射镀膜玻璃包括玻璃基片层a和位于玻璃基片层a一侧的镀膜层，所述镀膜层自玻璃基片层a向外依次复合有十个膜层，其中第一层1为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层2为Ag层，第三层3Cu层，第四层4为NiCr层,第五层5为Fe2O3层,第六层6为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层7为Ag层,第八层8为NiCr层，第九层9为Fe2O3层，第十层10为SiNx层。
其中第一层1为第一电介质组合层，第二层2为低辐射功能层，第三层3为第一阻挡保护层，第四层4为透过色改善层，第六层6为第二电介质组合层，第七层7为低辐射功能层，第八层8为第二阻挡保护层，第九层9为透过色改善层，第十层10为第三电介质层。通过添加、优化膜层材料，在第八层8和第十层10之间设置Fe2O3层，有效调节380-550nm波段透过率，改善low-e双银透过色及膜面颜色，使其更加清透。
一种高清中性色低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本加工方法包括如下步骤：
1)、磁控溅射镀膜层；
A、磁控溅射第一层1：
靶材数量：交流旋转靶4～6个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～55nm；
B、磁控溅射第二2：
靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工 艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：2.0～3.5nm；
C、磁控溅射第三层3：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Cu；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2nm；
D、磁控溅射第四层4：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.5～2.5nm；
E、磁控溅射第五层5：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.0～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。
F、磁控溅射第六6：
靶材数量：交流旋转靶6～8个；靶材配置为锌锡(ZnSn)/锌铝(ZnAl)，或者是锌锡(ZnSn)和锌铝(ZnAl)的混合物；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：65～75nm；
G、磁控溅射第七层7：
靶材数量：交流旋转靶或直流旋转靶1个；靶材料为Ag；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：15～20nm；
H、磁控溅射第八层8：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为NiCr；工艺气体比例：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为：1.4～3.1nm；
I、磁控溅射第九层9：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为Fe2O3；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：0.5～2.0nm；不锈钢旋转靶溅射的Fe2O3层不仅能够改善透过性能，而且其价格低廉，能够大幅度的降低玻璃的制备成本。
J、磁控溅射第十层10：
靶材数量：交流旋转靶1个；靶材料为SiNx；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14；溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为：45～50nm；
2)、镀膜层厚度控制在180～205nm之间。
其效果为：1、制得的玻璃6mm单片透过率为40-55％，玻面外观颜色清新靓丽，色彩纯一；透过色a*∈[-1.5，0]，b*∈[-1.0，0]；膜面颜色a*∈[-5.0,0]，b*∈[-2.0，2.0]，玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。
2、引入成本较低的不锈钢靶材，降低生产成本，
本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。
Claims (3)
1.一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述低辐射玻璃包括玻璃基片层(a)和位于玻璃基片层(a)一侧的镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(a)向外依次复合有十个膜层，其中第一层(1)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层，第二层(2)为Ag层，第三层(3)Cu层，第四层(4)为NiCr层,第五层(5)为Fe2O3层,第六层(6)为ZnSnO/ZnO或两者的混合层,第七层(7)为Ag层,第八层(8)为NiCr层，第九层(9)为Fe2O3层，第十层(10)为SiNx层。
2.根据权利要求1所述的一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)的镀膜厚度为45～55nm；
所述第二层(2)的镀膜厚度为2.0～3.5nm；
所述第三层(3)的镀膜厚度为0.5～2nm；
所述第四层(4)的镀膜厚度为1.5～2.5nm；
所述第五层(5)的镀膜厚度为1.0～2.0nm；
所述第六层(6)的镀膜厚度为65～75nm；
所述第七层(7)的镀膜厚度为15～20nm；
所述第八层(8)的镀膜厚度为1.4～3.1nm；
所述第九层(9)的镀膜厚度为0.5～2.0nm；
所述第十层(10)的镀膜厚度为45～50nm。
3.根据权利要求1或2所述的一种高清中性色低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层总厚度为180～205nm之间。
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