CN207143122U

CN207143122U - 一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃

Info

Publication number: CN207143122U
Application number: CN201721145332.4U
Authority: CN
Inventors: 熊建
Original assignee: Xianning CSG Energy Saving Glass Co Ltd
Current assignee: Xianning CSG Energy Saving Glass Co Ltd
Priority date: 2017-09-04
Filing date: 2017-09-04
Publication date: 2018-03-27
Anticipated expiration: 2027-09-04

Abstract

本实用新型提供了一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，属于磁控溅射镀膜技术领域。它解决了现有双银玻璃色度不纯等技术问题。一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层为ZnSnO层，第二层为TiO2层，第三层为NiCr第四层为层Ag层，第五层为NiCr层,第六层为SiNx层,第七层为ZnO层,第八层为Ag层，第九层为NiCr层，第十层为TiO2层，第十一层为SiNx层。本实用新型具有颜色纯在等优点。

Description

一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃

技术领域

本实用新型属于磁控溅射镀膜技术领域，涉及一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃。

背景技术

现有技术的Low-E玻璃生产工艺是在优质浮法基片上镀制以Ag为功能层，包含介质层和其它金属层的多层膜系。若按照功能层，银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。目前，单银、双银都是建筑玻璃领域比较成熟的节能方案,三银节能玻璃节能效果优于双银和单银，但三银玻璃膜层结构复杂，工艺控制难度大，因而成本较高。近年来市场上真正能够量产三银的厂家不多，且可供选择的三银品种也不如双银、单银丰富。

随着市场逐渐成熟，同质化竞争日趋明显，客户对幕墙的外观颜色的要求也越来越高，另一方面对于人口密集的城市来说如何用色彩营造更舒适的人居环境，使得天更蓝、水更绿成为营造城市生态环境的新标杆。因而蓝绿色调玻璃成为幕墙外观的主流色彩也不难理解，但是对于市场上大多数的Low-e双银而言，其外观颜色难以满足客户的深度需求，以天空为背景，常规双银颜色往往不够清透，且普遍存在侧面小角度变色的情况，因此对现有蓝、绿膜系双银颜色改良十分必要。

现有技术的缺点：

1)目前市场上虽有蓝色双银产品，但颜色不够纯正，膜面色调重，且供选择的种类不多。

2)目前的双银产品多数为蓝银，蓝灰的颜色，装饰效果不佳。

3)TiO2早年多做打底层运用，溅射速度低，应用成本高，目前使用较少。

发明内容

本实用新型的目的是针对现有的技术存在的上述问题，提供一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，本实用新型所要解决的技术问题是如何通过镀膜层的设计，提高颜色纯度。

本实用新型的目的可通过下列技术方案来实现：一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层向外依次复合有十一个膜层，其中第一层为ZnSnO层，第二层为TiO2层，第三层为NiCr第四层为层Ag层，第五层为NiCr层,第六层为SiNx层,第七层为ZnO层,第八层为Ag层，第九层为NiCr层，第十层为TiO2层，第十一层为SiNx层；

其中第一层为第一电介质层，第二层TiO2蓝光反射层，第三层为阻挡保护层，能够防止TiO2层中的氧迁移到Ag层，第四层为低辐射功能层，第五层为阻挡保护层，第六层和第七层为第二电介质层，第八层为低辐射功能层，第九层为挡保护层，第十层为TiO2蓝光散射层，第十一层为第三电介质层。

一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，本方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

A、磁控溅射第一层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为10～15nm；

B、磁控溅射第二层：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为钛(Ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为15:1，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为8～12nm；

C、磁控溅射第三层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为1～4nm；

D、磁控溅射第四层：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为3.5～6.5nm；

E、磁控溅射第五层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为1.5～3nm；

F、磁控溅射第六层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为24～28nm；

G、磁控溅射第七层：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为28～32nm；

H、磁控溅射第八层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为1～3nm；

磁控溅射第八层还可以是如下工艺：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10^-3mbar；镀膜厚度为4～8nm；

I、磁控溅射第九层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.5～1.5nm；

J、磁控溅射第十层：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛(Ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为15:2，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为2～3.5nm；

K、磁控溅射第十一层：

靶材数量：交流旋转靶4～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10^-3mbar；镀膜厚度为45～50nm；

2)、镀膜层总厚度控制在135～155nm之间。

其中Ti靶通过氩/氧工艺气体比例及通入量的控制可显著影响TiO2粒子的结晶粒径，经过多次试验调试及分光光度计测色实验确定TiO2膜层散射及折射膜层的最佳气体比例与溅射功率。

通过模双层TiO2膜层的干涉与散射实现天空般纯净的色彩；通过软件设计及工艺调试、实验确定的各膜层厚度；通过反复实验确定的较稳定钛靶工艺气体比例及对应气体比例条件下的膜层设计软件的模拟参数。

本实用新型优点：

1、外观颜色为天蓝色，小角度变色小，室外观察清新自然，环境融合性好。

2、Lab色彩空间测色结果情况如下：6mm单片透过色T∈[55，58],a*∈[-3.5，-2.0]，b*∈[-6，4.5]；玻面颜色L*∈[45，50]，a*∈[-1.5,0]，b*∈[-7.0，-5.5]。玻璃表面辐射率E∈[0.05，0.07]，低辐射性能优良。

3、玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。

附图说明

图1是本橘红色双银低辐射镀膜玻璃层状结构示意图。

图中，a、玻璃基片层；1、第一层；2、第二层；3、第三层；4、第四层；5、第五层；6、第六层；7、第七层；8、第八层；9、第九层；10、第十层；11、第十一层。

具体实施方式

以下是本实用新型的具体实施例并结合附图，对本实用新型的技术方案作进一步的描述，但本实用新型并不限于这些实施例。

如图1所示，本镀膜玻璃包括玻璃基片层a和镀膜层，镀膜层自玻璃基片层a向外依次复合有十一个膜层，其中第一层1为ZnSnO层，第二层2为TiO2层，第三层3为NiCr第四层4为层Ag层，第五层5为NiCr层,第六层6为SiNx层,第七层7为ZnO层,第八层8为Ag层，第九层9为NiCr层，第十层10为TiO2层，第十一层11为SiNx层；

其中第一层1为第一电介质层，第二层2TiO2蓝光反射层，第三层3为阻挡保护层，能够防止TiO2层中的氧迁移到Ag层，第四层4为低辐射功能层，第五层5为阻挡保护层，第六层6和第七层7为第二电介质层，第八层8为低辐射功能层，第九层9为挡保护层，第十层10为TiO2蓝光散射层，第十一层11为第三电介质层。

本方法包括如下步骤：

1)、磁控溅射镀膜层；

A、磁控溅射第一层1：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为锌锡ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为10～15nm；

B、磁控溅射第二层2：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；靶材配置为钛Ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为15:1，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为8～12nm；

C、磁控溅射第三层3：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬NiCr)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为1～4nm；

D、磁控溅射第四层4：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为3.5～6.5nm；

E、磁控溅射第五层5：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬NiCr)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为1.5～3nm；

F、磁控溅射第六层6：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为锌铝ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为24～28nm；

G、磁控溅射第七层7：

靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为硅铝SiAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为28～32nm；

H、磁控溅射第八层8：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为1～3nm；

磁控溅射第八层8还可以是如下工艺：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为4～8nm；

I、磁控溅射第九层9：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬NiCr)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-3mbar；镀膜厚度为0.5～1.5nm；

J、磁控溅射第十层10：

靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为钛Ti)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为15:2，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为2～3.5nm；

K、磁控溅射第十一层11：

靶材数量：交流旋转靶4～5个；靶材配置为硅铝SiAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.14，溅射气压为3～5×10-3mbar；镀膜厚度为45～50nm；

2)、镀膜层总厚度控制在135～155nm之间。

本实用新型优点：

3、玻面多角度(10°—75°)色差△a*＜2.5。

本文中所描述的具体实施例仅仅是对本实用新型精神作举例说明。本实用新型所属技术领域的技术人员可以对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，但并不会偏离本实用新型的精神或者超越所附权利要求书所定义的范围。

Claims

1.一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，本镀膜玻璃包括玻璃基片层(a)和镀膜层，所述镀膜层自所述玻璃基片层(a)向外依次复合有十一个膜层，其中第一层(1)为ZnSnO层，第二层(2)为TiO2层，第三层(3)为NiCr第四层(4)为层Ag层，第五层(5)为NiCr层,第六层(6)为SiNx层,第七层(7)为ZnO层,第八层(8)为Ag层，第九层(9)为NiCr层，第十层(10)为TiO2层，第十一层(11)为SiNx层；

其中第一层(1)为第一电介质层，第二层(2)TiO2蓝光反射层，第三层(3)为阻挡保护层，能够防止TiO2层中的氧迁移到Ag层，第四层(4)为低辐射功能层，第五层(5)为阻挡保护层，第六层(6)和第七层(7)为第二电介质层，第八层(8)为低辐射功能层，第九层(9)为挡保护层，第十层(10)为TiO2蓝光散射层，第十一层(11)为第三电介质层。

2.根据权利要求1所述的一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)的镀膜厚度为10～15nm；所述第二层(2)的镀膜厚度为8～12nm；所述第三层(3)的镀膜厚度为1～4nm；所述第四层(4)的镀膜厚度为3.5～6.5nm；所述第五层(5)的镀膜厚度为1.5～3nm；所述第六层(6)的镀膜厚度为24～28nm；所述第七层(7)的镀膜厚度为28～32nm；所述第八层(8)的镀膜厚度为1～3nm；所述第九层(9)的镀膜厚度为0.5～1.5nm；所述第十层(10)的镀膜厚度为2～3.5nm；所述第十一层(11)的镀膜厚度为45～50nm。

3.根据权利要求1所述的一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层(1)的镀膜厚度为10～15nm；所述第二层(2)的镀膜厚度为8～12nm；所述第三层(3)的镀膜厚度为1～4nm；所述第四层(4)的镀膜厚度为3.5～6.5nm；所述第五层(5)的镀膜厚度为1.5～3nm；所述第六层(6)的镀膜厚度为24～28nm；所述第七层(7)的镀膜厚度为28～32nm；所述第八层(8)的镀膜厚度为4～8nm；所述第九层(9)的镀膜厚度为0.5～1.5nm；所述第十层(10)的镀膜厚度为2～3.5nm；所述第十一层(11)的镀膜厚度为45～50nm。

4.根据权利要求1或2或3所述的一种天空蓝双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜层总厚度控制在135～155nm之间。