CN111995259A - 一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述三银低辐射镀膜玻璃包括：包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。本发明所述的三银低辐射镀膜玻璃具有室外色为银灰色、侧面颜色较正面灰、室内外正侧面颜色变化小等优点。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃技术领域，特别涉及一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
LOW-E玻璃(即低辐射玻璃)是在玻璃表面镀低辐射材料银(或其他低辐射材料)及金属氧化物膜，使玻璃的辐射率E由0.84降到0.15以下，从而降低玻璃的U值(即传热系数)。LOW-E玻璃具有高的可见光透过率和高的红外反射率，其特点如下：
1、红外反射率高，可直接反射远红外热辐射。
2、表面辐射率E低，吸收外来能量的能力小，从而再辐射的热量少。
3、遮阳系数Sc范围广，可根据太阳能的透过量，以适应不同地区的需要。
按照功能层银的层数来进行划分，Low-E玻璃可以分为：单银Low-E玻璃、双银Low-E玻璃、三银Low-E玻璃。
随着LOW-E技术日趋成熟，市场对产品的外观颜色的要求也越来越高，但是对于市场上大多数的三银Low-E产品而言，其普遍存在室外侧面颜色较正面颜色重的缺点，一般表现为较蓝或较紫的情况，且室内面正侧面颜色变化大，导致视觉效果较差。
发明内容
本发明实施例提供了一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，旨在解决三银低辐射镀膜玻璃室内正侧面颜色变化大，且室外侧面颜色较正面颜色重的缺点。
本发明实施例提供了一种三银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。
进一步的，所述第一层氧化锌层的厚度为30nm～40nm。
进一步的，所述第二层银层的厚度为8nm～11nm，所述第五层银层的厚度为7nm～11nm，所述第十层银层的厚度为13nm～19nm。
进一步的，所述第三层氧化锌铝层、第八层氧化锌铝层和第十一层氧化锌铝层的厚度为4nm～6nm。
进一步的，所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为60nm～72nm，所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为73nm～85nm。
进一步的，所述第六层铜层的厚度为6nm～9nm。
进一步的，所述第七层镍铬合金层的厚度为1nm～4nm。
进一步的，所述第十二层氮化硅层的厚度为30nm～40nm。
进一步的，所述12层镀膜层的总厚度为260nm～309nm。
本发明实施例还提供了一种如上所述的三银低辐射镀膜玻璃的制备方法，包括：
利用磁控溅射在所述玻璃基层上镀制第一层氧化锌层；
利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层上镀制第二层银层；
利用磁控溅射在所述第二层银层上镀制第三层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；
利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第五层银层；
利用磁控溅射在所述第五层银层上镀制第六层铜层；
利用磁控溅射在所述第六层铜层上镀制第七层镍铬合金层；
利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层上镀制第八层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；
利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第十层银层；
利用磁控溅射在所述第十层银层上镀制第十一层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层上镀制第十二层氮化硅层。
本发明实施例提供了一种三银低辐射镀膜玻璃及其制备方法，所述三银低辐射镀膜玻璃包括：包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。本发明实施例所述的三银低辐射镀膜玻璃具有室外色为银灰色、侧面颜色较正面灰、室内外正侧面颜色变化小等优点。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图2为本发明实施例提供的一种三银低辐射镀膜玻璃的玻面反射率的示意图；
图3为本发明实施例提供的一种三银低辐射镀膜玻璃的制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。
应当理解，当在本说明书和所附权利要求书中使用时，术语“包括”和“包含”指示所描述特征、整体、步骤、操作、元素和/或组件的存在，但并不排除一个或多个其它特征、整体、步骤、操作、元素、组件和/或其集合的存在或添加。
还应当理解，在此本发明说明书中所使用的术语仅仅是出于描述特定实施例的目的而并不意在限制本发明。如在本发明说明书和所附权利要求书中所使用的那样，除非上下文清楚地指明其它情况，否则单数形式的“一”、“一个”及“该”意在包括复数形式。
还应当进一步理解，在本发明说明书和所附权利要求书中使用的术语“和/或”是指相关联列出的项中的一个或多个的任何组合以及所有可能组合，并且包括这些组合。
下面请参见图1，图1为本发明实施例提供的一种三银低辐射镀膜玻璃的结构示意图，所述三银低辐射镀膜玻璃包括玻璃基层100和镀膜于所述玻璃基层100上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层101、第二层银层102、第三层氧化锌铝层103、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)、第五层银层105、第六层铜层106、第七层镍铬合金层107、第八层氧化锌铝层108、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)、第十层银层110、第十一层氧化锌铝层111和第十二层氮化硅层112。
本实施例所述的三银低辐射镀膜玻璃包含了玻璃基层100和在所述玻璃基层100上依次镀制的12个膜层，其中，第一层氧化锌层101为第一电介质层、第二层银层102为第一低辐射功能层，第三层氧化锌铝层103为第一晶床介质层，第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)为第二电介质组合层，第五层银层105为第二低辐射功能层，第六层铜层106为透过色改善层，第七层镍铬合金层107为保护层，第八层氧化锌铝层108为第二晶床介质层，第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)为第三电介质组合层，第十层银层110为第三低辐射功能层，第十一层氧化锌铝层111为第三晶床介质层，第十二层氮化硅层112为第四电介质层。本实施例所述的三银低辐射镀膜玻璃具有室外色为银灰色、侧面颜色较正面灰、室内外正侧面颜色变化小等优点。
需要说明的是，所述第六层铜层106设置的目的是改善透过色，虽然该铜层设置在其他位置也可以起到改善透过色的效果，但是设置在其他低辐射功能层银层(例如第二层银层102或者第五层银层105)后面的话对颜色影响比较大，不利于生产调试，同时设置在电介质层(例如第二电介质组合层104或者第四电介质层112等)后面的话会导致膜层整体结构更加复杂，增大调试难度。而将第六层铜层设置第五层银层上可以保证起到改善透过色效果的同时，降低膜层复杂程度以及降低调试难度。所述第七层镍铬合金层107主要起到保护第五、六层的作用，同时增加了可见光的吸收，降低可见光透过率，使膜层节能性更好。
另外，由于ZnSn(锌锡)的溅射效率较高，可以在一定的溅射功率下溅射更厚的ZnSnO(氧化锌锡)膜层，但是ZnSnO(氧化锌锡)膜层表面不平滑，不利于银层生长；而ZnO(氧化锌)膜层则更加平滑，可以对第三低功能层银层(即第十层银层110)提供更好的膜层生长平台，也就是说，同样量的银溅射在ZnSnO层上得到的膜节能性差于银溅射在ZnO膜层上得到的膜。
还需说明的是，由于ZnO(氧化锌)和玻璃连接较牢固且第一电介质层较薄，所以本实施例只ZnO层作为玻璃基层上的第一电介质层；所述第四电介质层(即第十二层112)为SiNx(氮化硅)层，可以保证膜层拥有更好的理化性能(例如抗划伤、耐腐蚀等)。现有技术中，存在采用将氮化硅层镀制于玻璃基层上、并在氮化硅层上镀制氧化锌层的技术方法，但是考虑到三银低辐射镀膜玻璃的膜层较厚，透过色相对于双银低辐射镀膜玻璃等较差，因此本实施例与现有技术相比，选择在玻璃基层100上直接镀制氧化锌层101，从而使膜层整体更加清透。
本实施例中，在满足颜色需求的前提下，通过控制各膜层厚度、增大外部膜层颜色敏感性从而提高调试效率，方便工业化生产。同时，通过软件设计及工艺调试、实验确定的各膜层厚度以及通过多次实验确定的较稳定各靶材工艺气体比例，确定对应气体比例条件下的膜层设计软件的模拟参数。
在一实施例中，所述第一层氧化锌层101的厚度为30nm～40nm；所述第二层银层102的厚度为8nm～11nm，所述第五层银层105的厚度为7nm～11nm，所述第十层银层110的厚度为13nm～19nm；所述第三层氧化锌铝层103、第八层氧化锌铝层108和第十一层氧化锌铝层111的厚度为4nm～6nm；所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)的厚度为60nm～72nm，所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)的厚度为73nm～85nm；所述第六层铜层106的厚度为6nm～9nm；所述第七层镍铬合金层107的厚度为1nm～4nm；所述第十二层氮化硅层112的厚度为30nm～40nm。
本实施例所述的三银低辐射镀膜玻璃的外观颜色为银灰色，室外观察正侧面变色小，侧面较正面略微灰。在一具体实施例中，所述三银低辐射镀膜玻璃在Lab色彩空间测色结果为：6mm单片透过率T∈[42，54]，玻面颜色a*g∈[0,-2]、b*g∈[-5，-7]，侧面颜色a*c∈[0,-2.5]、b*c∈[-4，-5.5]。所述三银低辐射镀膜玻璃的表面辐射率E＜0.025，低辐射性能优良，传热系数K＜1.65，遮阳系数SC∈[0.24,0.28]。所述三银低辐射镀膜玻璃的玻面反射曲线形状如图2所示。
在一具体实施例中，所述第一层氧化锌层101的厚度为36.8nm；所述第二层银层102的厚度为8nm～11nm，所述第五层银层105的厚度为8.75nm，所述第十层银层110的厚度为15.3nm；所述第三层氧化锌铝层103、第八层氧化锌铝层108和第十一层氧化锌铝层111的厚度为5nm；所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)的厚度为68.8nm，所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)的厚度为81nm；所述第六层铜层106的厚度为7.6nm；所述第七层镍铬合金层107的厚度为2.8nm；所述第十二层氮化硅层112的厚度为34nm。
本实施例中，所述三银低辐射镀膜玻璃的外观颜色为银灰色，室外观察正侧面变色小，侧面较正面略微灰。所述三银低辐射镀膜玻璃在Lab色彩空间测色结果为：6mm单片透过率T＝47.7，玻面颜色a*g＝-0.5、b*g＝-5.4，侧面颜色a*c＝-1.3、b*c＝-4.2。所述三银低辐射镀膜玻璃的表面辐射率E＝0.02，低辐射性能优良，传热系数K＝1.63，遮阳系数SC＝0.26。
在一实施例中，所述12层镀膜层的总厚度为260nm～309nm。
本实施例将所述三银低辐射镀膜玻璃的12层镀膜层上的总厚度设置为260nm～309nm，可以使所述三银低辐射镀膜玻璃具有良好的透过性能之外尽可能的使整体厚度更薄、更清透。
如图3所示，本发明实施例还提供了一种如上所述的三银低辐射镀膜玻璃的制备方法，具体包括：步骤S301～S312。
S301、利用磁控溅射在所述玻璃基层100上镀制第一层氧化锌层101；
S302、利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层101上镀制第二层银层102；
S303、利用磁控溅射在所述第二层银层102上镀制第三层氧化锌铝层103；
S304、利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层103上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)；
S305、利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)上镀制第五层银层105；
S306、利用磁控溅射在所述第五层银层105上镀制第六层铜层106；
S307、利用磁控溅射在所述第六层铜层106上镀制第七层镍铬合金层107；
S308、利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层107上镀制第八层氧化锌铝层108；
S309、利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层108上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)；
S310、利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)上镀制第十层银层110；
S311、利用磁控溅射在所述第十层银层110上镀制第十一层氧化锌铝层111；
S312、利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层111上镀制第十二层氮化硅层112。
本实施例中，利用磁控溅射在所述玻璃基层100上镀制第一层氧化锌层101时，采用的靶材数量：交流旋转靶3～4个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为30nm～40nm；
利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层101上镀制第二层银层102时，采用的靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为8nm～11nm；
利用磁控溅射在所述第二层银层102上镀制第三层氧化锌铝层103时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为4nm～6nm；
利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层103上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)时，采用的靶材数量：交流旋转靶5～8个；靶材配置为锌铝(ZnAl)或锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为60nm～72nm；
利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)上镀制第五层银层105时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为7nm～11nm；
利用磁控溅射在所述第五层银层105上镀制第六层铜层106时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为铜(Cu)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为6nm～9nm；
利用磁控溅射在所述第六层铜层106上镀制第七层镍铬合金层107时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10- 4mbar；镀膜厚度为1nm～4nm；
利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层107上镀制第八层氧化锌铝层108时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为4nm～6nm；
利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层108上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)时，采用的靶材数量：交流旋转靶6～8个；靶材配置为锌铝(ZnAl)或锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为73nm～85nm；
利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)上镀制第十层银层110时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为13nm～19nm；
利用磁控溅射在所述第十层银层110上镀制第十一层氧化锌铝层111时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为4nm～6nm；
利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层111上镀制第十二层氮化硅层112时，采用的靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为30nm～40nm。
在一具体实施例中，利用磁控溅射在所述玻璃基层100上镀制第一层氧化锌层101时，采用的靶材数量：交流旋转靶4个；靶材配置为锌铝(ZnAl)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为36.8nm；
利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层101上镀制第二层银层102时，采用的靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为8nm～11nm；
利用磁控溅射在所述第二层银层102上镀制第三层氧化锌铝层103时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为5nm；
利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层103上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)时，采用的靶材数量：交流旋转靶5～8个；靶材配置为锌铝(ZnAl)或锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为68.8nm；
利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为104)上镀制第五层银层105时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为8.75nm；
利用磁控溅射在所述第五层银层105上镀制第六层铜层106时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为铜(Cu)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为7.6nm；
利用磁控溅射在所述第六层铜层106上镀制第七层镍铬合金层107时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10- 4mbar；镀膜厚度为2.8nm；
利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层107上镀制第八层氧化锌铝层108时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为5nm；
利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层108上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)时，采用的靶材数量：交流旋转靶6～8个；靶材配置为锌铝(ZnAl)或锌锡(ZnSn)；工艺气体比例：氩气和氧气，氩气和氧气的比例为1:1.42，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为81nm；
利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层(标识为109)上镀制第十层银层110时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为银(Ag)；工艺气体为纯氩气，溅射气压为2～3×10-4mbar；镀膜厚度为15.3nm；
利用磁控溅射在所述第十层银层110上镀制第十一层氧化锌铝层111时，采用的靶材数量：交流旋转靶1个；靶材配置为氧化锌铝(AZO)；工艺气体：纯氩气，溅射气压为3～4×10-4mbar；镀膜厚度为5nm；
利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层111上镀制第十二层氮化硅层112时，采用的靶材数量：交流旋转靶3～5个；靶材配置为硅铝(SiAl)；工艺气体比例：氩气和氮气，氩气和氮气的比例为1:0.8，溅射气压为8～9×10-4mbar；镀膜厚度为34nm。
本实施例，可以确保三银低辐射镀膜玻璃具有室外色为银灰色、侧面颜色较正面灰、室内外正侧面颜色变化小等优点。
说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的系统而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以对本申请进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本申请权利要求的保护范围内。
还需要说明的是，在本说明书中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的状况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
Claims (10)
1.一种三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基层和镀膜于所述玻璃基层上的12个膜层，所述12个膜层从下至上依次为：第一层氧化锌层、第二层银层、第三层氧化锌铝层、第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第五层银层、第六层铜层、第七层镍铬合金层、第八层氧化锌铝层、第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层、第十层银层、第十一层氧化锌铝层和第十二层氮化硅层。
2.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第一层氧化锌层的厚度为30nm～40nm。
3.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第二层银层的厚度为8nm～11nm，所述第五层银层的厚度为7nm～11nm，所述第十层银层的厚度为13nm～19nm。
4.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第三层氧化锌铝层、第八层氧化锌铝层和第十一层氧化锌铝层的厚度为4nm～6nm。
5.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为60nm～72nm，所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层的厚度为73nm～85nm。
6.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第六层铜层的厚度为6nm～9nm。
7.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第七层镍铬合金层的厚度为1nm～4nm。
8.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述第十二层氮化硅层的厚度为30nm～40nm。
9.根据权利要求1所述的三银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，所述12层镀膜层的总厚度为260nm～309nm。
10.一种如权利要求1～9任一项所述的三银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于，包括：
利用磁控溅射在所述玻璃基层上镀制第一层氧化锌层；
利用磁控溅射在所述第一层氧化锌层上镀制第二层银层；
利用磁控溅射在所述第二层银层上镀制第三层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第三层氧化锌铝层上镀制第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；
利用磁控溅射在所述第四层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第五层银层；
利用磁控溅射在所述第五层银层上镀制第六层铜层；
利用磁控溅射在所述第六层铜层上镀制第七层镍铬合金层；
利用磁控溅射在所述第七层镍铬合金层上镀制第八层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第八层氧化锌铝层上镀制第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层；
利用磁控溅射在所述第九层氧化锌层或氧化锌锡层或者二者的混合层上镀制第十层银层；
利用磁控溅射在所述第十层银层上镀制第十一层氧化锌铝层；
利用磁控溅射在所述第十一层氧化锌铝层上镀制第十二层氮化硅层。
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