CN108726892A - 一种单银低辐射镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的ZnSn‑ZnO复合层、第一NiCr层、Ag层、Cu层、第二NiCr层和Si3N4层，所述Cu层的厚度为1‑4nm，本发明的单银低辐射镀膜玻璃在满足现有单银低辐射镀膜玻璃各项光学性能及机械性能指标的基础上，通过增加Cu层，可相应减少贵金属Ag的用量，从而降低生产成本；并且本发明通过增加Cu层可以对透过色进行修正，可以使透过色更加中性。
Description
技术领域
本发明涉及玻璃生产技术领域，具体涉及一种单银低辐射镀膜玻璃。
背景技术
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。Low-E玻璃的主要功能层是Ag层，Ag是自然界中辐射率最低的物质之一，在玻璃表面上镀制纳米级别的Ag层，可以使玻璃的辐射率从0.84降低至0.02-0.12，从而将太阳光过滤成冷光源，既满足采光要求，又能保证舒适的室温。
仅含有一层纯银层作为功能层的Low-E玻璃即为单银低辐射镀膜玻璃，现有单银低辐射镀膜玻璃中的功能层Ag层的厚度一般在6nm-15nm之间，若Ag层太薄，会失去低辐射薄膜的光学性能；若Ag层太厚，一方面造成低辐射薄膜整体的透过性过低，且在光学性能方面并没有较多提升，另一方面会造成较大浪费而提高生产成本。并且现有的单银低辐射镀膜玻璃透过色不中性，呈现较为明显的黄绿或蓝绿色，随着审美角度的不断转变，不能满足市场需求。
发明内容
本发明提供一种单银低辐射镀膜玻璃，不仅可以降低生产成本，而且能使透过色更加中性。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：一种单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的ZnSn-ZnO复合层、第一NiCr层、Ag层、Cu层、第二NiCr层和Si3N4层，所述Cu层的厚度为1-4nm。
进一步的，所述Ag层的厚度为不小于5.1nm。
进一步的，所述Ag层的厚度为5.1-13nm。
进一步的，所述ZnSn-ZnO复合层的厚度为10-30nm。
进一步的，所述第一NiCr层的厚度为1-4nm。
进一步的，所述第二NiCr层的厚度为2-13nm。
进一步的，所述Si3N4层的厚度为35-50nm。
进一步的，所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：25.1nm、1.4nm、9.2nm、1.0nm、3.3nm、40.8nm。
进一步的，所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：26.2nm、0.9nm、8.9nm、2.0nm、3.3nm、40.7nm。
进一步的，所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：29.8nm、0.8nm、8.6nm、4.0nm、2.7nm、41.2nm。
采用以上技术方案后，本发明与现有技术相比具有如下优点：本发明的单银低辐射镀膜玻璃在满足现有单银低辐射镀膜玻璃各项光学性能及机械性能指标的基础上，通过增加Cu层，可相应减少贵金属Ag的用量，Ag的使用量降低至约为现有技术的85%左右，Ag层的厚度最小降低为5.1nm左右，从而降低生产成本；并且本发明通过增加Cu层可以对透过色进行修正，可以使透过色更加中性。
附图说明
附图1为本发明的一种单银低辐射镀膜玻璃的结构示意图。
其中，
100、玻璃基体；
200、复合膜层；
201、ZnSn-ZnO复合层；202、第一NiCr层；203、Ag层；204、Cu层；205、第二NiCr层；206、Si3N4层。
具体实施方式
下面结合附图及实施例对本发明作进一步说明。
如图1所示，一种单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体100以及镀设于玻璃基体100一侧表面的复合膜层200，复合膜层200包括自玻璃基体100朝外依次沉积的ZnSn-ZnO复合层201、第一NiCr层202、Ag层203、Cu层204、第二NiCr层205和Si3N4层206。
Cu层204主要用于改善复合膜层200的透过色并降低生产成本。Cu层204的膜层厚度过小则对生产成本的影响不大，过大则会相应的使得Ag层203厚度减小过多，从而使光学性能大大降低，影响玻璃产品性能。Cu层204的优选厚度为1-4nm。Ag层203的厚度为不小于5.1nm，优选为5.1-13nm。
ZnSn-ZnO复合层201的作用是为了增加透过率及阻挡Na+对Ag层203的侵蚀，ZnSn-ZnO复合201的膜层厚度过小会降低膜层结合力，过大则会导致玻璃产品在室外观察时偏绿，其厚度优选为10-30nm。
第一NiCr层202和第二NiCr层205用于保护Ag层203，第一NiCr层202的厚度优选为1-4nm；第二NiCr层205的厚度优选为2-13nm。
Si3N4层206用于提高提高复合膜层200的机械性能和化学性能，Si3N4层206的膜层厚度过小会降低复合膜层200整体的机械新跟那个和化学性能，过厚则会降低复合膜层200的透过率，其厚度优选为35-50nm。
以下为具体实施例：
对比例：
现以一款普通的单银低辐射镀膜玻璃为例，其结构为：玻璃基体/ZnSn-ZnO复合层/第一NiCr层/Ag层/第二NiCr层/Si3N4层，对应于上述各个膜层的厚度依次为：24.1nm/3.2nm/9.9nm/2.0nm/41.4nm。
该款单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色为：单片玻面亮度L为44.03，玻面a*为-0.24，玻面b*为-7.85。透过率为63.69，透过色a*为-3.64，透过色b*为-0.68。各光学性能参数为：遮阳系数为0.42，辐射率为0.10，太阳红外热能总透射比为30%。
实施例1
本例单银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基体/ZnSn-ZnO复合层/第一NiCr层/Ag层/Cu层/第二NiCr层/Si3N4层，对应于上述各个膜层的厚度依次为：25.1nm/1.4nm/9.2nm/1.0nm/3.3nm/40.8nm。
本例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色与对比例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色一样，玻面单片颜色未变化，透过率相同，透过色a*为-2.62，透过色b*为-0.55，透过色相较对比例更加中性。本例中各光学性能参数为：遮阳系数为0.43，辐射率为0.10，太阳红外热能总透射比为32%，光学性能相较对比例也未发生较大变化。
实施例2
本例单银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基体/ZnSn-ZnO复合层/第一NiCr层/Ag层/Cu层/第二NiCr层/Si3N4层，对应于上述各个膜层的厚度依次为：26.2nm/0.9nm/8.9nm/2.0nm/3.3nm/40.7nm。
本例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色与对比例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色一样，玻面单片颜色未变化，透过率相同，透过色a*为-1.9，透过色b*为-0.06，透过色相较对比例更加中性。各光学性能参数为：遮阳系数为0.44，辐射率为0.11，太阳红外热能总透射比为34%，光学性能相较对比例也未发生较大变化。
实施例3
本例单银低辐射镀膜玻璃的结构为：玻璃基体/ZnSn-ZnO复合层/第一NiCr层/Ag层/Cu层/第二NiCr层/Si3N4层，对应于上述各个膜层的厚度依次为：29.8nm/0.8nm/8.6nm/4.0nm/2.7nm/41.2nm。
本例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色与对比例中单银低辐射镀膜玻璃的室外观察颜色一样，玻面单片颜色未变化，透过率相同，透过色a*为-0.73，透过色b*为+1.24，透过色相较对比例略为更加中性。各光学性能参数为：遮阳系数为0.5，辐射率为0.13，太阳红外热能总透射比为40%，光学性能相较对比例也未发生较大变化。
本发明的单银低辐射镀膜玻璃在满足现有单银低辐射镀膜玻璃各项光学性能及机械性能指标的基础上，通过增加Cu层204，可相应减少贵金属Ag的用量，Ag的使用量降低至约为现有技术的85%左右，从而降低生产成本；并且本发明通过增加Cu层204可以对透过色进行修正，可以使透过色更加中性。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种单银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基体以及镀设于所述玻璃基体一侧表面的复合膜层，其特征在于：所述复合膜层包括自所述玻璃基体朝外依次沉积的ZnSn-ZnO复合层、第一NiCr层、Ag层、Cu层、第二NiCr层和Si3N4层，所述Cu层的厚度为1-4nm。
2.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag层的厚度为不小于5.1nm。
3.根据权利要求2所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag层的厚度为5.1-13nm。
4.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述ZnSn-ZnO复合层的厚度为10-30nm。
5.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一NiCr层的厚度为1-4nm。
6.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第二NiCr层的厚度为2-13nm。
7.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述Si3N4层的厚度为35-50nm。
8.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：25.1nm、1.4nm、9.2nm、1.0nm、3.3nm、40.8nm。
9.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：26.2nm、0.9nm、8.9nm、2.0nm、3.3nm、40.7nm。
10.根据权利要求1所述的一种单银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述复合膜层中自所述玻璃基体向外的各个膜层其厚度依次为：29.8nm、0.8nm、8.6nm、4.0nm、2.7nm、41.2nm。
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