CN206573833U - 摄影装置 - Google Patents
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Abstract
一种摄影装置,其包括:底盘,在所述底盘中形成有凹部,所述凹部包括彼此面对的至少一对内壁表面;成像单元,其位于所述凹部中;中间框架,其插置在所述凹部和所述成像单元之间,所述中间框架包括与所述凹部的所述成对内壁表面对应的成对支撑壁;第一缓冲构件,其插置在所述中间框架的成对支撑壁中的一个与所述成像单元的邻近的外壁表面之间;以及第二缓冲构件,其插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的另一个与所述凹部的所述成对内壁表面的邻近的内壁表面之间。根据本实用新型的摄影装置可以保护成像单元以使其免受冲击,并且不会损失成像单元在凹部(其形成在摄影装置的底盘中)中的位置精度。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种摄影装置,更具体地,涉及这样一种摄影装置,其包括成像单元并且能够保护成像单元使其不会因为下落冲击等而受到损坏。
背景技术
在摄影装置(具体地,移动摄影装置,比如智能手机等等)中,一个需要被解决的技术问题是当装置意外掉下时如何保护嵌入的成像单元使其不会受到损坏(如何吸收下落冲击)。在典型的冲击缓冲结构中,成像单元基本上夹置在缓冲构件(冲击吸收构件)之间,并且夹置在缓冲构件之间的成像单元插入到凹部中,凹部形成在移动摄影装置的底盘中(如专利文献1至专利文献3中所公开的)。
另外,为了提高成像单元在凹部中的位置精度,使成像单元邻接凹部中形成的侧面的技术理念在本领域中是公知的(如专利文献4中所公开的)。
[专利文献1]日本未审专利公开No.2009-128525
[专利文献2]日本未审专利公开No.2009-128626
[专利文献3]日本未审专利公开No.2013-190772
[专利文献4]日本未审专利公开No.2005-257784
然而,如果成像单元夹置在缓冲构件之间(或者包裹在缓冲材料中)并且插入到凹部中,存在如下可能性:缓冲构件的弹性使成像单元在凹部中移动。如果该移动方向具体地与成像单元的光轴正交,那么在最前镜头(离物体最近的镜头元件)和底盘的开口之间发生位置偏差,这会产生渐晕。另外,如果使成像单元邻接凹部的侧面,那么冲击缓冲性能在从任意缓冲构件存在的方向对成像单元施加的冲击与从没有缓冲构件存在的方向施加到成像单元的冲击之间变化。
实用新型内容
由于上述问题,设计了本实用新型,本实用新型提供一种摄影装置,其具有高的冲击缓冲性能,同时使成像单元在凹部(形成在摄影装置的底盘中)中的移动最小化。
根据本实用新型的一个方面,提供一种摄影装置,其包括:底盘,在所述底盘中形成有凹部,所述凹部包括彼此面对的至少一对内壁表面;成像单元,其位于所述凹部中;中间框架,其插置在所述凹部和所述成像单元之间,所述中间框架包括与所述凹部的成对内壁表面对应的成对支撑壁;第一缓冲构件,其插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的一个与所述成像单元的邻近的外壁表面之间;以及第二缓冲构件,其插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的另一个与所述凹部的所述成对内壁表面的邻近的内壁表面之间。
理想的是,所述成像单元具有长方体形状,其具有高度、宽度和厚度。
理想的是,所述中间框架设置为围绕所述成像单元的外周表面,所述中间框架在所述成像单元在所述高度、所述宽度和所述厚度中具有最小尺寸的方向上延伸。
理想的是,所述成对支撑壁在所述成像单元的最靠近物体的镜头元件的光轴方向上延伸。
理想的是,所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个面对所述成像单元的所述外壁表面。所述第一缓冲构件插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个的内表面与所述成像单元的所述外壁表面之间。所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个的外表面与所述凹部的所述成对内壁表面中的一个彼此接触。
理想的是,所述中间框架的所述成对支撑壁中的另一个面对所述凹部的所述成对内壁表面的另一个。所述第二缓冲构件插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述另一个的外表面与所述凹部的所述成对内壁表面中的另一个之间。所述中间框架的所述成对支撑壁的所述另一个的内表面与所述成像单元的外壁表面彼此接触。
理想的是,所述第一缓冲构件和所述第二缓冲构件由聚氨酯泡沫或异戊二烯橡胶制成。
根据本实用新型的摄影装置可以保护成像单元以使其免受冲击,并且不会损失成像单元在凹部(其形成在摄影装置的底盘中)中的位置精度。
附图说明
下面将参考附图详细描述本实用新型,在附图中:
图1为根据本实用新型的设置有冲击缓冲结构的摄影装置的立体图,其示出摄影装置的外观的示例;
图2A为图1中示出的摄影装置的正视图;
图2B为图1中示出的摄影装置的俯视图;
图2C为图1中示出的摄影装置的侧视图;
图3为沿着图2C中所示的线III-III所呈现的截面图;
图4为图3中所示的链线IV指示的放大图;
图5为与图4类似的图,其示出冲击缓冲结构的比较示例;以及
图6为与图4类似的图,其示出冲击缓冲结构的另一个比较示例。
具体实施方式
下文中将参照附图对应用到智能手机(摄影装置)10的根据本实用新型的实施方案进行描述。如图1和图2中所示,智能手机10具有细长的长方体形状,其四个角都形成为1/4柱面。智能手机10在其正面上在比其中心高一点的位置处设置有摄影镜头(最前镜头)23。智能手机10在其内部设置有成像单元20,成像单元20包括作为其元件的摄影镜头23。在图1和图2B中,除了摄影镜头23之外,没有示出智能手机10的内部元件。另外,在从图3到之后的图中,简单示出了包括摄影镜头23的成像单元20的轮廓。在以下的描述中,智能手机10的高度方向、宽度方向和厚度(深度)方向分别定义为Y方向,X方向和Z方向。智能手机10的底盘设置有主底盘(底盘/后底盘)11和盖子(前底盘)12。圆形开口12a形成在盖子12中,通过圆形开口12a而将摄影镜头23暴露。尽管智能手机10的底盘包括主底盘11和盖子12,但是,智能手机10的底盘的分离式结构不限于该具体结构。
如图3和图4中所示,凹部13形成在主底盘11中,其在正视图中具有矩形形状,并且其中容纳成像单元20。在示出的实施方案中,成像单元20在Y方向上的长度(也即,成像单元20的高度)大于其在X方向上的长度(也即,成像单元20的宽度),并且成像单元20在Z方向上的长度(也即,成像单元20的厚度)非常小(换言之,成像单元20较薄)。具体地,例如,成像单元20的高度(Y方向上的长度)、宽度(X方向上的长度)和厚度(Z方向上的长度)分别为41mm、11mm和6mm。摄影镜头23位于成像单元20在Y方向上的上端附近。
在示出的实施方案中,成像单元20关于Y方向的两个端面(图3的成像单元20的上端面和下端面)分别定义为X方向外壁表面21X和22X,成像单元20关于X方向的两个端面(图3的成像单元20的左端面和右端面)分别定义为Y方向外壁表面21Y和22Y。另外,凹部13在其关于Y方向的两端(图3的上端和下端)处的内壁表面分别定义为X方向内壁表面13X1和13X2,凹部13在其关于X方向的两端(图3的左端和右端)处的内壁表面分别定义为Y方向内壁表面13Y1和13Y2。
智能手机10设置在凹部13中,凹部13具有中间框架30,中间框架30安装(插置)在成像单元20和凹部13之间。为了与凹部13的形状相对应,在Z方向上观察,中间框架30形成为矩形框架,中间框架30在Y方向上的长度大于其在X方向上的长度,并且中间框架30在Z方向上的长度是非常小的。中间框架30设置有X方向支撑壁31X(X方向支撑壁31X位于成像单元20的X方向外壁表面21X与凹部13的X方向内壁表面13X1之间)并且设置有X方向支撑壁32X(X方向支撑壁32X位于成像单元20的X方向外壁表面22X与凹部13的X方向内壁表面13X2之间)。另外,中间框架30设置有Y方向支撑壁31Y(Y方向支撑壁31Y位于成像单元20的Y方向外壁表面21Y与凹部13的Y方向内壁表面13Y1之间)并且设置有Y方向支撑壁32Y(Y方向支撑壁32Y位于成像单元20的Y方向外壁表面22Y与凹部的Y方向内壁表面13Y2之间)。中间框架30围绕成像单元20的外表面(外周表面)(其在高度方向(Y方向)、宽度方向(X方向)和厚度方向(Z方向)中具有最小尺寸);在该具体实施方案中,在厚度方向(Z方向)中的外表面具有最小尺寸。Z方向是与摄影镜头(镜头元件)23的光轴平行的方向。X方向支撑壁31X和32X以及Y方向支撑壁31Y和32Y都在Z方向延伸。
X方向支撑壁31X设置有在X方向支撑壁31X的长度方向上(也即,在图4的水平方向上)彼此间隔的两个框架突出部31X1。类似地,X方向支撑壁32X设置有在X方向支撑壁31X的长度方向上(也即,在图4的水平方向上)彼此间隔的两个框架突出部32X1。两个框架突出部31X1中的一个(具体地,图4的左框架突出部31X1)和对应的框架突出部32X1(具体地,图4的左框架突出部32X1)在Y-Z平面中在相同的方向上(具体地,图4的向上方向)突出,并且另一个框架突出部31X1(具体地,图4的右框架突出部31X1)和对应的框架突出部32X1(具体地,图4的右框架突出部32X1)在另一个Y-Z平面中在相同的方向上(具体地,图4的向上方向)突出。
Y方向支撑壁31Y设置有三个框架突出部31Y1,该三个框架突出部31Y1在Y方向支撑壁31Y的长度方向上(也即,在图4的垂直方向上)以规律间隔彼此间隔地布置。类似地,Y方向支撑壁32Y设置有三个框架突出部32Y1,该三个框架突出部32Y1在Y方向支撑壁32Y的长度方向上(也即,在图4的垂直方向上)以规律间隔彼此间隔地布置。三个框架突出部31Y1中的一个(具体地,图4的上框架突出部31Y1)和对应的框架突出部32Y1(具体地,图4的上框架突出部32Y1)在X-Z平面中在相同的方向(具体地,图4的向左方向)上突出,三个框架突出部31Y1中的另一个(具体地,图4的中部框架突出部31Y1)和对应的框架突出部32Y1(具体地,图4的中部架突出部32Y1)在另一个X-Z平面中在相同的方向(具体地,图4的向左方向)上突出,三个框架突出部31Y1中的又一个(具体地,图4的下框架突出部31Y1)和对应的框架突出部32Y1(具体地,图4的下框架突出部32Y1)在又一个X-Z平面中在相同的方向(具体地,图4的向左方向)上突出。
智能手机10设置有两个短缓冲构件41X和42X以及两个长缓冲构件41Y和42Y,每个缓冲构件具有平板形状,并且以如下进行讨论的方式插在凹部13、成像单元20和中间框架30之间。首先,两个短缓冲构件41X和42X(在X方向上延长)中的一个短缓冲构件41X(如图4的上部所示)以压缩的状态插在中间框架30的X方向支撑壁31X和成像单元20的X方向外壁表面21X之间,同时两个短缓冲构件41X和42X中的另一个短缓冲构件42X(如图4的下部所示)以压缩的状态插在凹部13的X方向内壁表面13X2和中间框架30的X方向支撑壁32X之间。
两个长缓冲构件41Y和42Y(在Y方向上延长)中的一个长缓冲构件41Y(图4的左部所示)以压缩的状态插在中间框架30的Y方向支撑壁31Y和成像单元20的Y方向外壁表面21Y之间,同时两个长缓冲构件41Y和42Y中的另一个长缓冲构件42Y(图4的右部所示)以压缩的状态插在凹部13的Y方向内壁表面13Y2和中间框架30的Y方向支撑壁32Y之间。短缓冲构件41X和42X以及长缓冲构件41Y和42Y由可压缩材料(比如,聚氨酯泡沫(UF)、异戊二烯橡胶(IR)等等)制成,可压缩材料在压缩状态下产生排斥力。
因此,在短缓冲构件41X和42X以及长缓冲构件41Y和42Y插在凹部13、成像单元20和中间框架30之间的状态下(如图4中所示),图4的上部所示的中间框架30的X方向支撑壁31X的两个框架突出部31X1与凹部13的X方向内壁表面13X1机械接触,同时图4的下部所示的中间框架30的X方向支撑壁32X的两个框架突出部32X1与成像单元20的X方向外壁表面22X机械接触。这些机械接触限定成像单元20在凹部13中在Y方向上的机械位置。另一方面,通过上下成对的短冲击缓冲构件41X和42X来实现成像单元20的凹部13中在Y方向上的冲击缓冲效果。
类似地,图4的左部所示的中间框架30的Y方向支撑壁31Y的三个框架突出部31Y1与凹部13的Y方向内壁表面13Y1机械接触,同时图4的右部所示的中间框架30的Y方向支撑壁32Y的三个框架突出部32Y1与成像单元20的Y方向外壁表面22Y机械接触。这些机械接触限定成像单元20在凹部13中在X方向上的机械位置。另一方面,通过左右成对的短冲击缓冲构件41Y和42Y来实现成像单元20的凹部13中在X方向上的冲击缓冲效果。
从上述内容可以看出,在摄影装置(智能手机10)的上述示出的实施方案中,由于中间框架30相对于凹部13的安装位置,两个短缓冲构件41X和42X以及两个长缓冲构件41Y和42Y关于成像单元20的中心不对称地设置;也即,成对形成的X方向支撑壁31X和32X中的一个与凹部13的X方向内壁表面13X1机械接触,另一个与成像单元20的X方向外壁表面22X机械接触,并且成对形成的Y方向支撑壁31Y和32Y中的一个与凹部13的Y方向内壁表面13Y1机械接触,另一个与成像单元20的Y方向外壁表面22Y机械接触。这使得可以提高成像单元20在凹部13中的位置精度。
另外,短缓冲构件41X和42X以及长缓冲构件41Y和42Y具体地以如下将讨论的方式保护成像单元20。
例如,当智能手机10下落时(成像单元20的X方向外壁表面22X侧朝下),成像单元20(X方向外壁表面22X)承受的冲击被短缓冲构件42X吸收。类似地,当智能手机10下落时(成像单元20的X方向外壁表面21X侧朝下),成像单元20(X方向外壁表面21X)承受的冲击被短缓冲构件41X吸收。
另外,当智能手机10下落时(成像单元20的Y方向外壁表面21Y侧朝下),成像单元20(Y方向外壁表面21Y)承受的冲击被长缓冲构件41Y吸收。类似地,当智能手机10下落时(成像单元20的Y方向外壁表面22Y侧朝下),成像单元20(Y方向外壁表面22Y)承受的冲击被长缓冲构件42Y吸收。
在摄影装置(智能手机10)的上述实施方案中,成对形成的X方向支撑壁31X和32X通过Y方向支撑壁31Y和32Y连接,并且成对形成的Y方向支撑壁31Y和32Y通过X方向支撑壁31X和32X连接;然而,例如,X方向支撑壁31X和32X可以通过平行于图4的页面延伸的一个或多个连接构件而连接,而Y方向支撑壁31Y和32Y可以通过平行于图4的页面延伸的一个或多个连接构件而连接。另外,X方向支撑壁31X和32X以及Y方向支撑壁31Y和32Y仅仅需要与容纳在凹部13中的成像单元20机械连接;因此,X方向支撑壁31X和32X以及Y方向支撑壁31Y和32Y可以在任何阶段机械连接。
中间框架30的框架突出部31X1、32X1、31Y1和32Y1的形成减少了中间框架30与凹部13和成像单元20的接触面积,从而有效确保了中间框架30与凹部13和成像单元20的接触。然而,可以省略框架突出部31X1、32X1、31Y1和32Y1,使得X方向支撑壁31X和Y方向支撑壁31Y(都形成为平板)分别与凹部13的X方向内壁表面13X1和Y方向内壁表面13Y1(也是平坦形状)接触,并且使得X方向支撑壁32X和Y方向支撑壁32Y(都形成为平板)分别与成像单元20的X方向外壁表面22X和Y方向外壁表面22Y(也是平坦形状)接触。
图5为冲击缓冲结构的参照示例(比较示例),其中,两个短缓冲构件40X和两个长缓冲构件40Y布置在凹部13和成像单元20之间并且在其中等距间隔,在凹部13和成像单元20之间没有插置中间框架30(成像单元20被两个短缓冲构件40X和两个长缓冲构件40Y围绕并且被插入到凹部13中)。在该示例中,短缓冲构件40X和40Y的变形使成像单元20在凹部13中X方向上和Y方向上的位置精度变差。
图6是冲击缓冲结构的另一个参照示例(比较示例),其中成像单元20关于X方向的一侧和成像单元20关于Y方向的一侧都与凹部13的内壁表面机械接触,并且一个短缓冲构件40X位于成像单元20关于Y方向的另一侧和凹部13的内壁表面之间,而一个长缓冲构件40Y位于成像单元20关于X方向的另一侧和凹部13的另一个内壁表面之间。在该示例中,提高了成像单元20在凹部13中的位置精度;然而,抗冲击性能在不同方向上变化。
尽管摄影装置的上述实施方案的冲击缓冲结构吸收施加到细长成像单元20(其在Y方向上的长度大于在X方向上的长度并且在Z方向上的长度(厚度)非常小)的X方向和Y方向上的冲击,但是,类似的冲击缓冲结构也可以设置在Z方向(厚度方向)上。相反地,即使根据本实用新型的冲击缓冲结构仅仅应用到X方向和Y方向中的一个方向,但是也可以获得一定程度的冲击缓冲效果。
尽管本实用新型已针对在上述实施方案的正视图中为竖直较长的成像单元20而应用于智能手机10的冲击缓冲结构,但是也可以将本实用新型进行应用而不管成像单元20的形状如何。
尽管本实用新型的上述实施方案适用于配置有成像单元20的智能手机10,但是本实用新型也可以应用于通常可能(意外)掉落的任何智能设备和摄影装置。
可以对文中所述本实用新型的具体实施方案做明显改变,这些变型落在本实用新型要求保护的精神和范围内。需要指出的是,文中包含的所有内容都是说明性的,而并不限制本实用新型的范围。
Claims (7)
1.一种摄影装置,其特征在于,其包括:
底盘,在所述底盘中形成有凹部,所述凹部包括彼此面对的至少一对内壁表面;
成像单元,其位于所述凹部中;
中间框架,其插置在所述凹部和所述成像单元之间,所述中间框架包括与所述凹部的成对内壁表面对应的成对支撑壁;
第一缓冲构件,其插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的一个与所述成像单元的邻近的外壁表面之间;以及
第二缓冲构件,其插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的另一个与所述凹部的所述成对内壁表面的邻近的内壁表面之间。
2.根据权利要求1所述的摄影装置,其特征在于,所述成像单元具有长方体形状,其具有高度、宽度和厚度。
3.根据权利要求2所述的摄影装置,其特征在于,所述中间框架设置为围绕所述成像单元的外周表面,所述中间框架在所述成像单元在所述高度、所述宽度和所述厚度中具有最小尺寸的方向上延伸。
4.根据权利要求1所述的摄影装置,其特征在于,所述成对支撑壁在所述成像单元的最靠近物体的镜头元件的光轴方向上延伸。
5.根据权利要求2所述的摄影装置,其特征在于,所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个面对所述成像单元的所述外壁表面;
其中,所述第一缓冲构件插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个的内表面与所述成像单元的所述外壁表面之间,以及
其中,所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述一个的外表面与所述凹部的所述成对内壁表面中的一个彼此接触。
6.根据权利要求5所述的摄影装置,其特征在于,所述中间框架的所述成对支撑壁中的另一个面对所述凹部的所述成对内壁表面中的另一个;
其中,所述第二缓冲构件插置在所述中间框架的所述成对支撑壁中的所述另一个的外表面与所述凹部的所述成对内壁表面中的另一个之间,以及
其中,所述中间框架的所述成对支撑壁的所述另一个的内表面与所述成像单元的外壁表面彼此接触。
7.据权利要求1所述的摄影装置,其特征在于,所述第一缓冲构件和所述第二缓冲构件由聚氨酯泡沫或异戊二烯橡胶制成。
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