CN206232800U - 一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置，包括蒸镀腔室，其内部上方设有第一导电板，下方设有第二导电板，第二导电板上设有基台及旋转驱动装置，基台上设有蒸发源；第二导电板上还布置有离子源和离子加速器；所述第一导电板和第二导电板还分别与电场驱动装置的正负电极连接。能够在蒸镀过程中有效地控制带电蒸镀分子的运动速率以及方向，使得在蒸镀过程中能够解决基板成膜均一性的问题以及材料利用率过低的问题。不仅如此，由于增加了对蒸镀材料的可控性，使得利用所述真空蒸镀装置量产大尺寸OLED面板成为可能。

Description

一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置

技术领域

本实用新型涉及蒸镀领域，具体为一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置。

背景技术

目前，工业用蒸镀工艺很广泛地被应用在电子器件如有机发光二极管（OLED）器件的制备生产上，它的基本原理是将待蒸镀的基板放置在真空环境中，通过蒸发源使材料加热到一定温度发生蒸发或升华，从而使蒸镀材料凝结沉积在待蒸镀的基板表面而完成镀膜，现阶段大多数OLED面板制造商多采用此种蒸镀工艺。

在现有的真空蒸镀装置中设有真空腔，蒸发源，晶振片，挡板等主要工件，真空腔用于提供蒸镀有效区，蒸发源使蒸镀材料发生升华或是蒸发，晶振片用于蒸镀过程中检测蒸镀速率，挡板用于保护蒸发源不受污染。将待蒸镀的基板放置于蒸镀区域内，蒸发源稳定后可对基板进行成膜。一般的，在蒸镀期间，一旦蒸发源出现了蒸镀速率不稳定等情况，就必须停止工作直到蒸发源稳定，极大地降低了生产效率；不仅如此，由于蒸发时蒸发源只能在特定方向上成膜，会造成镀膜的不均匀，影响器件的性能，还使得大尺寸OLED面板的制备受限。

发明内容

本实用新型提供的一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置，能够均匀成膜、提高镀膜效率并且能够适用于量产大尺寸OLED面板。

为解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置，包括蒸镀腔室，其内部上方设有第一导电板，下方设有第二导电板，第二导电板上设有基台及旋转驱动装置，基台上设有蒸发源；第二导电板上还布置有离子源和离子加速器；所述第一导电板和第二导电板还分别与直流电源的正负电极连接。

所述蒸镀装置还设有真空泵，其通过抽气管道连接到蒸镀腔室，真空泵位于蒸镀腔室外。

所述的蒸发源为三个，且蒸发源为点源式；三个蒸发源构成等边三角形，分别固定在基台的边缘。

所述蒸镀装置还包括晶振片和挡片；晶振片位于蒸发源上方，且晶振片与蒸发源之间还设有挡片。

所述离子源和离子加速器分别设置两个。

所述旋转驱动装置采用电机进行驱动。

本实用新型创新性地加入电场驱动装置以及通过离子轰击使蒸镀材料带电，能够在蒸镀过程中有效地控制带电蒸镀分子的运动速率以及方向，使得在蒸镀过程中能够解决基板成膜均一性的问题以及材料利用率过低的问题。不仅如此，由于增加了对蒸镀材料的可控性，使得利用所述真空蒸镀装置量产大尺寸OLED面板成为可能。

附图说明

图1为本实用新型的结构俯视图；

图2为本实用新型的使用状态图；

图3为本实用新型的结构主视图。

具体实施方式

下面结合实施例及附图来进一步说明本实用新型，但本实用新型要求保护的范围并不局限于实施例表述的范围。

如图1-图3所示，一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置，包括蒸镀腔室1，其内部上方设有第一导电板2，下方设有第二导电板3，第二导电板3上设有基台4及旋转驱动装置5，基台4上设有蒸发源6；第二导电板3上还布置有离子源7和离子加速器8；所述第一导电板2和第二导电板3还分别与直流电源9的正负电极连接。优选的方案中，两块导电板的尺寸大小可根据待蒸镀的基板的大小进行灵活调节，导电板材料可以为金属如铁、铜、铝等其中的一种。直流电源可以控制两块导电板之间的电场方向和大小。

为了保证待蒸镀基板的更换方便，蒸镀腔室被设计为长方体型，蒸镀腔室内壁全为绝缘材料，以避免蒸镀材料的吸附而浪费材料或是造成腔室的污染。优选的，蒸镀腔室壁所选的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、环氧树脂、聚碳酸酯等其中的一种。在蒸镀之前，腔室内的真空度可依制备工艺参数进行设定，真空度的大小与维持时间可由真空装置进行可控调节。

所述蒸镀装置还设有真空泵10，其通过抽气管道连接到蒸镀腔室1。用于调节蒸镀腔室内的真空度，保证蒸镀后基板薄膜的质量。

所述的蒸发源6为三个，且蒸发源为点源式；三个蒸发源构成等边三角形，分别固定在基台的边缘。设置多个蒸发源，用于蒸发不同的待蒸镀材料，这样可以实现连续蒸镀作业，有利于节省蒸镀作业时间。

为了实现对蒸镀流程持续性地可控，基台将用于调节蒸镀工艺流程。每当完成对一种蒸镀材料的蒸镀作业后，可以调节下一个待蒸镀蒸发源的位置，并在对应位置接受离子轰击，完成待镀材料的带电过程。蒸发源旋转的轨迹为圆形，这样可以保证蒸发源能够准确地接受离子束的轰击。为了保证待蒸镀材料充分带电，离子源及离子加速器被应用于产生高能离子束。离子源用于提供高能离子束，离子加速器包含圆筒状的磁体和真空电极导管，用于加速离子束。所述离子源7和离子加速器8分别设置两个。一组进行工作，另一组备用，以备离子源或是离子加速器任何一个出现故障时，能够起到维持轰击蒸镀材料的作用。

所述蒸镀装置还包括晶振片11和挡片12；晶振片位于蒸发源6上方，且晶振片与蒸发源6之间还设有挡片。晶振片用于检测蒸发源的蒸镀速率，从而提高测量精度。挡板用于防止其他蒸发源在蒸镀过程中被污染。挡板数量配合蒸发源的数量，并且设置在临近蒸发源处。

所述旋转驱动装置采用电机进行驱动，这样可以提高基板加工自动化。不局限于电机驱动。

采用本实用新型提供的装置进行真空蒸镀操作的方法，包括以下步骤：

1）驱动真空装置确定蒸镀腔室真空度后，关闭抽气管道。将待蒸镀的材料分别置于不同蒸发源中。初始状态时，其中一个蒸发源处于离子射出的出口处，其余蒸发源在挡板的保护下处于非击的轰状态，如图2所示。蒸发源的位置受蒸镀作业步骤所决定。

2）开启旋转驱动装置，使得基台进行旋转，根据有机发光二极管器件制备工艺依次确定蒸发源的位置，使蒸发源能够准确地接受离子束的轰击，确保待蒸镀材料的带电均匀；

3）启动离子源使之稳定生成离子束，通过离子加速器的加速作用后，离子束以高能状态轰击蒸镀材料。调节离子源束速度以及轰击时间，使待蒸镀材料带电稳定，并且均匀带电。

4）根据有机发光二极管器件制备工艺所需要的成膜速率和成膜厚度，开启电场驱动装置，控制第一导电板和第二导电板电极，产生带电蒸镀分子运动所需的电场方向，当带电蒸镀材料脱离蒸发源后，在基板上成膜之前，调节电场方向使带电蒸镀分子运动受阻悬空，同时利用镀材料带同样电荷的性质，带电蒸镀材料在基板上成膜之前能够充分相互排斥，使得蒸镀分子能够水平均匀分布在蒸镀腔室当中。在蒸镀分子均匀分布后，开启电场驱动装置，控制第一导电板和第二导电板电极，调节电场方向使带电蒸镀分子加速运动轰击或是沉积在基板。此蒸镀作业过程中还包括将待蒸镀基板接地，以避免电荷积累破坏薄膜层特性。

本实用新型能够在蒸镀过程中有效地控制带电蒸镀分子的运动速率以及方向，使得在蒸镀过程中能够解决基板成膜均一性的问题以及材料利用率过低的问题。

Claims (6)

1.一种制备有机发光二极管器件的蒸镀装置，其特征在于：包括蒸镀腔室（1），其内部上方设有第一导电板（2），下方设有第二导电板（3），第二导电板（3）上设有基台（4）及旋转驱动装置（5），基台（4）上设有蒸发源（6）；第二导电板（3）上还布置有离子源（7）和离子加速器（8）；所述第一导电板（2）和第二导电板（3）还分别与直流电源（9）的正负电极连接。

2.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还设有真空泵（10），其通过抽气管道连接到蒸镀腔室（1），真空泵位于蒸镀腔室外。

3.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述的蒸发源（6）为三个，且蒸发源为点源式；三个蒸发源构成等边三角形，分别固定在基台的边缘。

4.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述蒸镀装置还包括晶振片（11）和挡板（12）；挡板位于蒸发源（6）与晶振片（11）之间。

5.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述离子源（7）和离子加速器（8）分别设置两个。

6.根据权利要求1所述的蒸镀装置，其特征在于：所述旋转驱动装置采用电机进行驱动。