CN206188876U - 一种精细蒸镀掩膜板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种精细蒸镀掩膜板，包括掩膜板框架，在掩膜板框架上设有支撑条，在支撑条上设有掩膜板基板，掩膜板基板的端部焊接在掩膜板框架上，所述的掩膜板基板包括基板和相邻板，在基板上设有基板蚀刻区，在相邻板上设有相邻板蚀刻区，基板和相邻板的蚀刻面相反，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区相匹配，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区形成重叠区,基板和相邻板的上下表面在同一个水平面上，基板和相邻板上均开设有图案。这种结构包括掩膜板框架、支撑条和掩膜板基板，不需要在掩膜板基板上设置遮挡条，避免掩膜板在蒸镀过程中出现色混、色偏等蒸镀不良的现象，使得蒸镀的效果好。该实用新型可以减少工艺流程，节省成本与制作时间，同时可以减少制作不良。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种掩膜板，尤其是涉及一种精细蒸镀掩膜板。
背景技术
当前中国的高像素显示屏的制作成本极其昂贵，其中的一个重要因素在于掩膜板的制作费用较高。对于智能显示高像素显示屏生产厂家而言，高精细蒸镀掩膜板的制作极为困难，工艺复杂，容易引起掩膜板的制作不良，从而导致企业在掩膜板的制作上投入大量资金。目前整体的蒸镀金属掩膜板由掩膜板框架、金属掩膜基板、支撑条以及遮挡条组成。制作整体的蒸镀金属掩膜板过程是将遮挡条与支撑条张紧固定在掩膜板框架上，最后将掩膜基板张紧后固定在掩膜框架上。其中遮挡条的作用是遮蔽相邻两条掩模基板之间的间隙，支撑条的作用是对掩模基板及遮挡条起一个支撑的作用，而实际生产中，由于工艺参数的设定及制作精度的问题，导致遮挡条干扰到了掩模基板的正常形态，从而导致掩膜板用在蒸镀工艺中出现色混、色偏等蒸镀不良。
实用新型内容
本实用新型为了解决上述技术问题提供了一种精细蒸镀掩膜板，本设计解决了现有制作掩膜板过程中易出现色混、偏差等蒸镀不良的技术问题。
实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现：一种精细蒸镀掩膜板，包括掩膜板框架，在掩膜板框架上设有支撑条，在支撑条上设有掩膜板基板，掩膜板基板的端部焊接在掩膜板框架上，所述的掩膜板基板包括基板和相邻板，在基板上设有基板蚀刻区，在相邻板上设有相邻板蚀刻区，基板和相邻板的蚀刻面相反，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区相匹配，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区形成重叠区, 基板和相邻板的上下表面在同一个水平面上，基板和相邻板上均开设有图案。
优选的，所述的掩膜板基板的高度为a, 基板的蚀刻高度为b, 相邻板的蚀刻高度为a-b＜c＜a。
优选的，所述基板的蚀刻高度a/2＜b＜a。
优选的，所述的图案为梯形。
本实用新型提供一种精细蒸镀掩膜板，这种结构包括掩膜板框架、支撑条和掩膜板基板，不需要在掩膜板基板上设置遮挡条，避免掩膜板在蒸镀过程中出现色混、色偏等蒸镀不良的现象，使得蒸镀的效果好。相等厚度的掩模基板在重叠处必然会导致厚度的叠加，即在重叠处存在凸起。本实用新型预先将基板和相邻板在重叠处进行厚度的减薄，可以达到重叠后不再存在凸起现象，从而避免在与玻璃的贴合后出现因凸起导致的间隙，相邻基板的重叠可以避免不重叠情况下蒸镀材料从两条相邻掩模基板之间的间隙蒸镀到玻璃基板上。该实用新型可以减少工艺流程，节省成本与制作时间，同时可以减少制作不良。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
图2为本实用新型的剖切面示意图。
图3为本实用新型的基板和相邻板的局部结构示意图。
具体实施方式
为了让本领域的技术人员更好地理解本实用新型的技术方案，下面结合附图对本实用新型作进一步阐述。
掩膜板，即在某种材质的框架上焊接上很薄的一张钢片，钢片上设置了很多图案，图案是开口的，材料通过蒸镀升华，穿过开口部分，沉积在钢片上方的玻璃上。掩膜板框架，用于支撑掩膜板基材的框架结构。支撑条，用于支撑各掩膜基板。蚀刻，即利用溶液与预蚀刻材料之间的化学反应来去除未被掩蔽膜材料掩蔽的部分而达到蚀刻目的。
具体实施例，如附图1~3所示，一种精细蒸镀掩膜板，包括掩膜板框架1，在掩膜板框架上设有支撑条2，在支撑条上设有掩膜板基板，掩膜板基板的端部焊接在掩膜板框架上，所述的掩膜板基板包括基板3和相邻板4，在基板上设有基板蚀刻区31，在相邻板上设有相邻板蚀刻区41，基板和相邻板的蚀刻面相反，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区相匹配，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区形成重叠区34, 基板和相邻板的上下表面在同一个水平面上，基板和相邻板上均开设有梯形图案5。
所述的掩膜板基板的高度为a, 基板的蚀刻高度为b, 相邻板的蚀刻高度为a-b＜c＜a，所述基板的蚀刻高度a/2＜b＜a。相邻的两张基板和相邻板蚀刻面相反，其制作时，将彼此反向蚀刻的基板和相邻板，在蚀刻处重叠，其焊接位在掩模基板上非蚀刻区。蚀刻高度的设置以保证在掩模基板开口图案不便的情况下能够将掩模基板重叠，掩膜基板张网焊接时，将相反蚀刻面的掩模基板在蚀刻区重叠，其焊接位在掩模基板上非蚀刻区。
本实用新型提供一种精细蒸镀掩膜板，这种结构包括掩膜板框架、支撑条和掩膜板基板，不需要在掩膜板基板上设置遮挡条，避免掩膜板在蒸镀过程中出现色混、色偏等蒸镀不良的现象，使得蒸镀的效果好。相等厚度的掩模基板在重叠处必然会导致厚度的叠加，即在重叠处存在凸起。本实用新型预先将基板和相邻板在重叠处进行厚度的减薄，可以达到重叠后不再存在凸起现象，从而避免在与玻璃的贴合后出现因凸起导致的间隙，相邻基板的重叠可以避免不重叠情况下蒸镀材料从两条相邻掩模基板之间的间隙蒸镀到玻璃基板上。该实用新型可以减少工艺流程，节省成本与制作时间，同时可以减少制作不良。
以为本实用新型较佳的实现方式，需要说明的是，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。
Claims (4)
1.一种精细蒸镀掩膜板，包括掩膜板框架，在掩膜板框架上设有支撑条，在支撑条上设有掩膜板基板，掩膜板基板的端部焊接在掩膜板框架上，其特征在于：所述的掩膜板基板包括基板和相邻板，在基板上设有基板蚀刻区，在相邻板上设有相邻板蚀刻区，基板和相邻板的蚀刻面相反，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区相匹配，基板蚀刻区与相邻板蚀刻区形成重叠区, 基板和相邻板的上下表面在同一个水平面上，基板和相邻板上均开设有图案。
2. 根据权利要求1所述的精细蒸镀掩膜板，其特征在于：所述的掩膜板基板的高度为a, 基板的蚀刻高度为b, 相邻板的蚀刻高度为a-b＜c＜a。
3.根据权利要求2所述的精细蒸镀掩膜板，其特征在于：所述基板的蚀刻高度a/2＜b＜a。
4.根据权利要求1所述的精细蒸镀掩膜板，其特征在于：所述的图案为梯形。
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