CN206052151U - 一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，包括沉积室，沉淀室包括通过螺栓连接的上腔体和上腔体，上腔体和下腔体之间设置有密封圈，上腔体的外壁设置有用于与供气设备连接的进气口，下腔体的外壁设置有用于与真空泵连接的抽气管，下腔体的底部设置有延伸至上腔体内的高度可调支架，高度可调支架的顶部设置有加热装置，加热装置的顶部设置有托盘。其有益效果是：使用方便、自动化程度高。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备。
背景技术
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)是利用气态物质在一固体表面进行化学反应，生成固态沉积物的过程，是近十几年发展起来的制备无机物新材料的新技术。它广泛的应用于提纯物质，制备新晶体，特别是用于制备导体、半导体或者介电的单晶、多晶或者玻璃态涂层或者薄膜。
中国专利201320064809.1公开了一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，所述设备包括沉积室以及与所述沉积室相连的供气装置和抽真空装置，所述沉积室上设有多个进气口，各个进气口通过角阀与所述供气装置连通，其中，所述沉积室包括：下部腔体和可拆卸的上部腔体，所述上部腔体与下部腔体通过卡环加氟橡胶圈密封；支架，所述支架从所述沉积室的下部腔体延伸至上部腔体，并且在所述支架上设有基片加热装置。该实用新型具备体积小，构造简单、造价低廉的优点。但是该实用新型中的基片加热装置的高度不能够根据需要调节，使用起来不方便。
实用新型内容
本实用新型要解决的问题是提供一种使用方便、自动化程度高的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备。
为了解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，包括沉积室，所述沉淀室包括通过螺栓连接的上腔体和上腔体，所述上腔体和下腔体之间设置有密封圈，所述上腔体的外壁设置有用于与供气设备连接的进气口，所述下腔体的外壁设置有用于与真空泵连接的抽气管，所述下腔体的底部设置有延伸至所述上腔体内的高度可调支架，所述高度可调支架的顶部设置有加热装置，所述加热装置的顶部设置有托盘，其特征在于，所述高度可调支架包括设置在所述下腔体底部的竖直支撑筒、顶端与所述加热装置连接的支撑杆，所述竖直支撑筒为空心结构且所述竖直支撑筒内设置有步进电机，所述步进电机的输出轴上通过联轴器连接有螺纹轴，所述螺纹轴上通过螺纹连接有一滑动块，所述竖直支撑筒的左侧内壁设置有一限位板，所述限位板上设置有与所述螺纹轴平行的限位槽，所述限位槽内滑动设置有与所述滑动块连接的推板，所述支撑杆的底端延伸至所述竖直支撑筒内并与所述推板连接，所述沉积室的外壁设置有电控箱，所述电控箱的外壁设置有触摸屏，所述电控箱内设置有与所述触摸屏电性连接的PLC、与所述PLC电性连接的步进驱动器，所述步进驱动器与所述步进电机电性连接。
优选地，上述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其中所述进气口内设置有朝向所述沉积室凸出的凹型金属网，所述进气口内位于所述凹型金属网凹陷的一侧设置有安装座，所述安装座上设置有气道，所述安装座上朝向所述沉积室的一面设置有两个弹性筒，所述弹性筒的端头设置有条形板，所述条形板上固定有可与所述凹型金属网接触的金属球。
优选地，上述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其中所述弹性筒包括设置在所述安装座上的横管、设置在所述横管端头的堵板、与所述条形板连接的横杆、滑动设置在所述横管内的移动板，所述横杆的端头穿过所述堵板并与所述移动板连接，所述安装座与所述移动板通过第一弹簧连接，所述横杆上位于所述移动板和堵板之间套设有第二弹簧。
优选地，上述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其中所述电控箱内设置有与所述PLC、步进电机电性连接的蓄电池。
优选地，上述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其中所述竖直支撑筒的顶部设置有挡块，所述支撑杆穿过所述挡块并与所述挡块滑动连接。
本实用新型的技术效果主要体现在：通过触摸屏可控制步进电机旋转，进而带动螺纹轴旋转，使得滑动块在螺纹轴上上下滑动，进而带动推板上下运动，进一步带动支撑杆上下运动，支撑杆带动加热装置运动，从而实现了加热装置的高度调节，给用户带来方便，而且自动化程度高。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图；
图2为图1的纵向剖视图；
图3为图1中高度可调支架的结构示意图；
图4为图1中电控箱的纵向剖视图；
图5为图3中限位板的结构示意图；
图6为图1中A处局部放大图；
图7为图6中弹性筒的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图，对本实用新型的具体实施方式作进一步地详述，以使本实用新型的技术方案更易于理解和掌握。
如图1、2、3、4、5、6、7所示，一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，包括沉积室1，沉淀室1包括通过螺栓连接的上腔体11和上腔体12，上腔体11和下腔体12之间设置有密封圈13，上腔体11的外壁设置有用于与供气设备连接的进气口14，下腔体12的外壁设置有用于与真空泵连接的抽气管15，下腔体12的底部设置有延伸至上腔体11内的高度可调支架2，高度可调支架2的顶部设置有加热装置3，加热装置3的顶部设置有托盘4。
高度可调支架2包括设置在下腔体12底部的竖直支撑筒21、顶端与加热装置3连接的支撑杆22，竖直支撑筒21为空心结构且竖直支撑筒21内设置有步进电机23，步进电机23的输出轴上通过联轴器24连接有螺纹轴25，螺纹轴25上通过螺纹连接有一滑动块26，竖直支撑筒21的左侧内壁设置有一限位板27，限位板27上设置有与螺纹轴25平行的限位槽28，限位槽28内滑动设置有与滑动块26连接的推板29，支撑杆22的底端延伸至竖直支撑筒21内并与推板29连接，沉积室1的外壁设置有电控箱5，电控箱5的外壁设置有触摸屏51，电控箱5内设置有与触摸屏51电性连接的PLC52、与PLC52电性连接的步进驱动器53，步进驱动器53与步进电机23电性连接。
其中进气口14内设置有朝向沉积室1凸出的凹型金属网61，进气口14内位于凹型金属网61凹陷的一侧设置有安装座62，安装座62上设置有气道63，安装座62上朝向沉积室1的一面设置有两个弹性筒7，弹性筒7的端头设置有条形板8，条形板8上固定有可与凹型金属网61接触的金属球81。当进气口14内气流速度突然加快时，金属球81可以朝向凹型金属网61靠拢，并挡住一部分凹型金属网61，防止了气体过快流入到沉淀室1内，这样设计起到了自动调节气体流速的作用。
其中弹性筒7包括设置在安装座62上的横管71、设置在横管71端头的堵板72、与条形板8连接的横杆73、滑动设置在横管71内的移动板74，横杆73的端头穿过堵板72并与移动板74连接，横杆73与堵板72滑动连接。安装座62与移动板74通过第一弹簧75连接，横杆73上位于移动板74和堵板72之间套设有第二弹簧76，这样设计使得弹性筒7的结构坚固，弹性性能好。
其中电控箱5内设置有与PLC52、步进电机23电性连接的蓄电池50。竖直支撑筒21的顶部设置有挡块20，支撑杆22穿过挡块20并与挡块20滑动连接，这样设计防止了支撑杆22晃动。
当然，以上仅为本实用新型的较佳实施例而已，非因此即局限本实用新型的专利范围，凡运用本实用新型说明书及图式内容所为之简易修饰及等效结构变化，均应同理包含于本实用新型的专利保护范围之内。
Claims (5)
1.一种制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，包括沉积室，所述沉淀室包括通过螺栓连接的上腔体和上腔体，所述上腔体和下腔体之间设置有密封圈，所述上腔体的外壁设置有用于与供气设备连接的进气口，所述下腔体的外壁设置有用于与真空泵连接的抽气管，所述下腔体的底部设置有延伸至所述上腔体内的高度可调支架，所述高度可调支架的顶部设置有加热装置，所述加热装置的顶部设置有托盘，其特征在于：所述高度可调支架包括设置在所述下腔体底部的竖直支撑筒、顶端与所述加热装置连接的支撑杆，所述竖直支撑筒为空心结构且所述竖直支撑筒内设置有步进电机，所述步进电机的输出轴上通过联轴器连接有螺纹轴，所述螺纹轴上通过螺纹连接有一滑动块，所述竖直支撑筒的左侧内壁设置有一限位板，所述限位板上设置有与所述螺纹轴平行的限位槽，所述限位槽内滑动设置有与所述滑动块连接的推板，所述支撑杆的底端延伸至所述竖直支撑筒内并与所述推板连接，所述沉积室的外壁设置有电控箱，所述电控箱的外壁设置有触摸屏，所述电控箱内设置有与所述触摸屏电性连接的PLC、与所述PLC电性连接的步进驱动器，所述步进驱动器与所述步进电机电性连接。
2.根据权利要求1所述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述进气口内设置有朝向所述沉积室凸出的凹型金属网，所述进气口内位于所述凹型金属网凹陷的一侧设置有安装座，所述安装座上设置有气道，所述安装座上朝向所述沉积室的一面设置有两个弹性筒，所述弹性筒的端头设置有条形板，所述条形板上固定有可与所述凹型金属网接触的金属球。
3.根据权利要求2所述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述弹性筒包括设置在所述安装座上的横管、设置在所述横管端头的堵板、与所述条形板连接的横杆、滑动设置在所述横管内的移动板，所述横杆的端头穿过所述堵板并与所述移动板连接，所述安装座与所述移动板通过第一弹簧连接，所述横杆上位于所述移动板和堵板之间套设有第二弹簧。
4.根据权利要求1所述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述电控箱内设置有与所述PLC、步进电机电性连接的蓄电池。
5.根据权利要求1所述的制备纳米薄膜的化学气相沉积设备，其特征在于：所述竖直支撑筒的顶部设置有挡块，所述支撑杆穿过所述挡块并与所述挡块滑动连接。
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111620313A (zh) * | 2020-06-09 | 2020-09-04 | 合肥中航纳米技术发展有限公司 | 一种利用化学气相沉积法制备纳米氮化钛粉体的工艺 |
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2016
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