CN205833738U - 一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置 - Google Patents

一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置 Download PDF

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曹韵国
常青
孙纤
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Abstract

本实用新型记载了一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，包括清洗槽、设置在清洗槽上方的滑轨，滑轨上滑动设置有升降机构，升降机构的下端设置有挂钩，挂钩上连接有清洗篮；清洗篮的内腔两侧壁上设置有若干个竖向凸条，竖向凸条延伸至清洗篮的底面，相邻两个竖向凸条间构成竖向凹槽；清洗篮的两侧边上设置有与挂钩相配合的支撑柱，清洗槽被挡板依次隔为第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部；第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部的底部均设置有超声波发生板。在本实用新型中，升降机构能够将硅片依次送入第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部中清洗，免去了人工操作，提升了工作效率。

Description

一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置
技术领域
本实用新型涉及一种超声波清洗装置，尤其涉及一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置。
背景技术
太阳能电池是通过光电效应或者光化学效应直接把光能转化成电能的装置。只要被光照到，瞬间就可输出电压及电流。太阳能电池是一种绿色环保产品，不会引起环境污染，是可再生资源，在当今能源短缺的情况下，具有广阔的发展前途。太阳能电池根据所用材料的不同，可分为：硅太阳能电池、多元化合物薄膜太阳能电池、聚合物多层修饰电极型太阳能电池、纳米晶太阳能电池、有机太阳能电池、塑料太阳能电池，其中硅太阳能电池是目前发展最成熟的，在应用中居主导地位。
硅片清洗是指在氧化、光刻、外延、扩散和引线蒸发等工艺前，采用物理或化学的方法去除硅片表面的污染物和自身氧化物，以得到符合清洁度要求的硅片表面的过程，在光伏太阳能产业中，硅片在加工中表面会产生硅料多晶边皮、顶料、片料、埚底料以及原生多晶料，需要清洗设备进行表面清洗。在硅片的清洗过程中，一般需要通过清洗篮将太阳能硅片放置到装有不同清洗液的清洗槽中进行清洗，现有的大多通过人工将清洗篮放置到清洗槽中，操作麻烦，工作效率低下。
实用新型内容
为解决现有的硅片清洗装置需要人工将清洗篮放置到清洗槽的缺陷，本实用新型特提供一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置。
本实用新型的技术方案如下：
一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，包括清洗槽、设置在清洗槽上方的滑轨，滑轨上滑动设置有升降机构，升降机构的下端设置有挂钩，挂钩上连接有清洗篮；清洗篮的内腔两侧壁上设置有若干个竖向凸条，竖向凸条延伸至清洗篮的底面，相邻两个竖向凸条间构成竖向凹槽；清洗篮的两侧边上设置有与挂钩相配合的支撑柱，清洗槽被挡板依次隔为第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部；第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部的底部均设置有超声波发生板。在本方案中，相邻两个竖向凸条间构成竖向凹槽，硅片卡设在竖向凹槽中，使得硅片之间存在间隙，避免在清洗过程中硅片相互触碰发生破损。升降机构能够带动清洗篮上下移动。与此同时，升降机构滑动设置在滑轨上，又能带动清洗篮左右移动，依次将硅片送入第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部中清洗，免去了人工操作，提升了工作效率。支撑柱的设置便于挂钩钩住清洗篮，提升运动过程的平稳性。超声波发生板对清洗篮内的硅片具有声波清洗作用。
作为本实用新型的优选结构，所述第一清洗部为纯水清洗槽，第二清洗部为加清洗剂清洗槽，第三清洗槽为纯水漂洗槽。在本方案中，纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽的清洗，使得硅片能够被清洗彻底，保证了清洗效果。
进一步地，所述清洗篮的侧面及底面均开设有漏水孔。本方案中的漏水孔在硅片清洗完毕后，便于清洗剂或纯水从清洗篮中流出，利于硅片的干燥。
为更好地实现本实用新型，所述漏水孔的直径为2～8mm。漏水孔的直径为2～8mm能够避免小颗粒碎硅片的流失，利于硅料的回收。
进一步地，所述升降机构包括滑动设置在滑轨上的滑座，滑座上固定有电机和液压缸，液压缸上的推杆穿过滑座连接有升降板，挂钩设置在升降板的下端两侧；所述导轨的侧壁上固定有齿条，电机的输出轴上连接有与齿条相啮合的齿轮。本方案的具体工作原理如下：在清洗篮中装满硅片后，开启液压缸，在推杆的作用下，升降板将带动清洗篮向下移动进入清洗槽中，待清洗完毕后，启动液压缸使得升降板带动清洗篮上升。随后，开启电机，其输出轴上的齿轮转动将带动滑座移动，升降板随着滑座移动将带动清洗篮移动到下一个清洗槽上方。如此循环即可将清洗篮中的硅片依次送入第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部中进行清洗。
综上所述，本实用新型的有益技术效果如下：
1、硅片卡设在竖向凹槽中，使得硅片之间存在间隙，避免在清洗过程中硅片相互触碰发生破损。
2、升降机构能够带动清洗篮上下移动，与此同时，升降机构滑动设置在滑轨上，又能带动清洗篮左右移动，依次将硅片送入第一清洗部、第二清洗部、第三清洗部中清洗，免去了人工操作，提升了工作效率。
3、纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽的清洗，使得硅片能够被清洗彻底，保证了清洗效果。
4、漏水孔在硅片清洗完毕后，便于清洗剂或纯水从清洗篮中流出，利于硅片的干燥。
附图说明
图1为一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置的结构示意图；
图2为升降机构滑动设置在滑轨上的俯视图；
图3为升降机构滑动设置在滑轨上的侧视图；
图4为清洗篮的俯视图；
图5为清洗篮的侧视图；
其中附图标记所对应的零部件名称如下：
1-清洗槽，2-滑轨，3-升降机构，4-挂钩，5-清洗篮，6-竖向凸条，7-竖向凹槽，8-支撑柱，9-挡板，10-第一清洗部，11-第二清洗部，12-第三清洗部，13-超声波发生板，14-漏水孔，15-滑座，16-电机，17-液压缸，18-推杆，19-升降板，20-齿条，21-齿轮。
具体实施方式
如图1、图2、图3、图4、图5所示，一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，包括清洗槽1、设置在清洗槽1上方的滑轨2，滑轨2上滑动设置有升降机构3，升降机构3的下端设置有挂钩4，挂钩4上连接有清洗篮5；清洗篮5的内腔两侧壁上设置有若干个竖向凸条6，竖向凸条6延伸至清洗篮5的底面，相邻两个竖向凸条6间构成竖向凹槽7；清洗篮1的两侧边上设置有与挂钩4相配合的支撑柱8，清洗槽1被挡板9依次隔为第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12；第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12的底部均设置有超声波发生板13。在本实施例中，相邻两个竖向凸条6间构成竖向凹槽7，硅片卡设在竖向凹槽7中，使得硅片之间存在间隙，避免在清洗过程中硅片相互触碰发生破损。升降机构3能够带动清洗篮5上下移动。与此同时，升降机构3滑动设置在滑轨2上，又能带动清洗篮5左右移动，依次将硅片送入第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12中清洗，免去了人工操作，提升了工作效率。支撑柱8的设置便于挂钩4钩住清洗篮5，提升运动过程的平稳性。超声波发生板13对清洗篮5内的硅片具有声波清洗作用。
作为本实用新型的优选结构，所述第一清洗部10为纯水清洗槽，第二清洗部11为加清洗剂清洗槽，第三清洗槽12为纯水漂洗槽。在本实施例中，纯水清洗槽、加清洗剂清洗槽、纯水漂洗槽的清洗，使得硅片能够被清洗彻底，保证了清洗效果。
进一步地，所述清洗篮5的侧面及底面均开设有漏水孔14。漏水孔14的直径为2～8mm能够避免小颗粒碎硅片的流失，利于硅料的回收。
为更好地实现本实用新型，所述漏水孔14的直径为2～8mm。漏水孔14的直径为2～8mm能够避免小颗粒碎硅片的流失，利于硅料的回收。
进一步地，所述升降机构3包括滑动设置在滑轨2上的滑座15，滑座15上固定有电机16和液压缸17，液压缸17上的推杆18穿过滑座15连接有升降板19，挂钩4设置在升降板19的下端两侧；所述导轨2的侧壁上固定有齿条20，电机16的输出轴上连接有与齿条20相啮合的齿轮21。本实施例的具体工作原理如下：在清洗篮5中装满硅片后，开启液压缸17，在推杆18的作用下，升降板19将带动清洗篮5向下移动进入清洗槽1中，待清洗完毕后，启动液压缸17使得升降板19带动清洗篮5上升。随后，开启电机16，其输出轴上的齿轮20转动将带动滑座15移动，升降板19随着滑座15移动将带动清洗篮5移动到下一个清洗槽1上方。如此循环即可将清洗篮1中的硅片依次送入第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12中进行清洗。
实施例1
一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，包括清洗槽1、设置在清洗槽1上方的滑轨2，滑轨2上滑动设置有升降机构3，升降机构3的下端设置有挂钩4，挂钩4上连接有清洗篮5；清洗篮5的内腔两侧壁上设置有若干个竖向凸条6，竖向凸条6延伸至清洗篮5的底面，相邻两个竖向凸条6间构成竖向凹槽7；清洗篮1的两侧边上设置有与挂钩4相配合的支撑柱8，清洗槽1被挡板9依次隔为第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12；第一清洗部10、第二清洗部11、第三清洗部12的底部均设置有超声波发生板13。
实施例2
本实施例在实施例1的基础上，所述第一清洗部10为纯水清洗槽，第二清洗部11为加清洗剂清洗槽，第三清洗槽12为纯水漂洗槽。
实施例3
本实施例在实施例1或实施例2的基础上，所述清洗篮5的侧面及底面均开设有漏水孔14。
实施例4
本实施例在实施例3的基础上，所述漏水孔14的直径为2～8mm。
实施例5
本实施例在实施例1或实施例2或实施例3或实施例4的基础上，所述升降机构3包括滑动设置在滑轨2上的滑座15，滑座15上固定有电机16和液压缸17，液压缸17上的推杆18穿过滑座15连接有升降板19，挂钩4设置在升降板19的下端两侧；所述导轨2的侧壁上固定有齿条20，电机16的输出轴上连接有与齿条20相啮合的齿轮21。
如上所述，可较好地实现本实用新型。

Claims (5)

1.一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，其特征在于：
包括清洗槽(1)、设置在清洗槽(1)上方的滑轨(2)，滑轨(2)上滑动设置有升降机构(3)，升降机构(3)的下端设置有挂钩(4)，挂钩(4)上连接有清洗篮(5)；清洗篮(5)的内腔两侧壁上设置有若干个竖向凸条(6)，竖向凸条(6)延伸至清洗篮(5)的底面，相邻两个竖向凸条(6)间构成竖向凹槽(7)；清洗篮(1)的两侧边上设置有与挂钩(4)相配合的支撑柱(8)，清洗槽(1)被挡板(9)依次隔为第一清洗部(10)、第二清洗部(11)、第三清洗部(12)；第一清洗部(10)、第二清洗部(11)、第三清洗部(12)的底部均设置有超声波发生板(13)。
2.根据权利要求1所述的一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，其特征在于：
所述第一清洗部(10)为纯水清洗槽，第二清洗部(11)为加清洗剂清洗槽，第三清洗槽(12)为纯水漂洗槽。
3.根据权利要求1所述的一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，其特征在于：
所述清洗篮(5)的侧面及底面均开设有漏水孔(14)。
4.根据权利要求3所述的一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，其特征在于：
所述漏水孔(14)的直径为2～8mm。
5.根据权利要求1所述的一种太阳能电池硅片的超声波清洗装置，其特征在于：
所述升降机构(3)包括滑动设置在滑轨(2)上的滑座(15)，滑座(15)上固定有电机(16)和液压缸(17)，液压缸(17)上的推杆(18)穿过滑座(15)连接有升降板(19)，挂钩(4)设置在升降板(19)的下端两侧；所述导轨(2)的侧壁上固定有齿条(20)，电机(16)的输出轴上连接有与齿条(20)相啮合的齿轮(21)。
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