CN205734577U - 一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，涉及真空吸附技术领域。本实用新型包括基体、触发装置、弹簧和密封圈组成，基体中有抽真空孔、目标孔和安装触发装置的空腔；本实用新型处于工作状态时，可通过真空完成对被吸附元件的吸附；当处于非工作状态时，将自动完成对抽真空孔的密封。
Description
技术领域
本实用新型涉及真空吸附装置技术领域，更具体地说涉及一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构。
背景技术
随着机械加工、玻璃加工等加工行业的快速发展，提高加工效率和加工质量成为机械加工和玻璃加工企业生存和发展的关键因素。通用真空吸附装置可以减少零件装夹压紧工件环节，有利于提高机械加工和玻璃加工效率，同时使用真空吸附装置装夹时，作用力作用在零件上面，而不是传统压紧方式作用在工艺凸台上，故零件压紧稳定性较好，加工质量得到很好提升。然而，传统通用真空吸附装置受到零件轮廓大小尺寸的限制，需要在零件加工前密封非工作状态孔和根据零件轮廓尺寸大小布置密封圈，降低了零件加工效率，普遍使用存在限制。
实用新型内容
为了克服上述现有技术中存在的缺陷和不足，本实用新型提供了一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，本实用新型的发明目的在于解决现有技术中不能快速有效地对非工作状态的吸附孔进行密封的问题，本实用新型处于工作状态时，可通过真空完成对被吸附元件的吸附；当处于非工作状态时，将自动完成对抽真空孔的密封。
为了解决上述现有技术中存在的问题，本实用新型是通过下述技术方案实现的：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：包括真空吸附基体，所述真空吸附基体上设置有吸附孔和抽真空孔，所述吸附孔与抽真空孔之间设置有触发腔，所述触发腔分别于吸附孔和抽真空孔连通，所述触发腔内设置有触发机构，所述触发机构上设置有触发杆，所述触发杆穿过吸附孔并向真空吸附基体外侧延伸；所述触发机构连接有弹性元件，所述弹性元件带动触发机构移动。
所述触发机构包括触发底座，所述触发底座将触发腔体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔连通。
所述连通孔设置在触发底座上。
所述连通孔设置在真空吸附基体上。
所述触发机构包括触发底座，所述触发杆设置在触发底座上，所述触发底座与触发腔侧壁之间留有空隙。
所述吸附孔与抽真空孔之间设置有密封圈Ⅰ，用于密封阻止吸附孔与抽真空孔之间的空气流通。
所述密封圈Ⅰ设置在触发底座上或触发腔上端壁上。
所述密封圈Ⅰ的轴向方向外侧，设置有密封圈Ⅱ，密封圈Ⅰ和密封圈Ⅱ围成真空密封腔，用于密封抽真空孔；所述密封圈Ⅱ设置在触发底座上或触发腔上端壁上。
所述弹性元件一端连接在触发底座下端，另一端连接在触发腔底部。
所述弹性元件一端连接在触发底座上端，另一端连接在触发腔顶部。
与现有技术相比，本实用新型所带来的有益的技术效果表现在：
1、本实用新型的结构，可以实现，当处于工作状态时，可通过真空完成对被吸附元件的吸附，当处于非工作状态时，将自动完成对抽真空孔的密封。
2、当处于工作状态时，连通孔的设计保证基体中触发装置上部空腔及触发装置下部空腔均为真空；当该结构设计处于非工作状态时，连通孔的设计保证基体中触发装置上部两密封圈内部空腔为真空，而触发装置下部空腔及触发装置上部两密封圈外部空腔均为非真空，实现对触发装置的吸附。
3、本实用新型的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构不需要密封非工作状态孔，减少了操作使用时密封非工作状态孔的操作，提高了加工效率。也不需要根据零件轮廓尺寸大小布置密封圈，提高了加工效率。
附图说明
图1是本实用新型的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构的设计原理示意图。
图2 是本实用新型的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构工作状态时的作用原理示意图。
图3是本实用新型实施例3的结构示意图；
图4是本实用新型的触发机构的轴侧示意图；
图5为本实用新型实施例4的结构示意图；
图6为本实用新型实施例7的结构示意图；
附图标记：
1、真空吸附基体，2、吸附孔，3、抽真空孔，4、触发腔，5、触发机构，6、触发杆，7、弹性元件，8、触发底座，9、连通孔，10、密封圈Ⅰ，11、密封圈Ⅱ。
具体实施方式
实施例1
作为本实用新型一较佳实施例，参照说明书附图1，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动。
实施例2
作为本实用新型又一较佳实施例，参照说明书附图1和2，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发底座8将触发腔4体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔9连通；所述连通孔9设置在触发底座8上。
实施例3
作为本实用新型又一较佳实施例，参照说明书附图3，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发底座8将触发腔4体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔9连通；所述连通孔9设置在真空吸附基体1上。
实施例4
作为本实用新型又一较佳实施例，参照说明书附图5，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发杆6设置在触发底座8上，所述触发底座8与触发腔4侧壁之间留有空隙。
实施例5
作为本实用新型又一较佳实施例，参照说明书附图1、2和4，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发底座8将触发腔4体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔9连通；所述连通孔9设置在触发底座8上；
所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有密封圈Ⅰ10，用于密封阻止吸附孔2与抽真空孔3之间的空气流通；在本实施例中，所述密封圈Ⅰ10可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上。
所述密封圈Ⅰ10的轴向方向外侧，设置有密封圈Ⅱ11，密封圈Ⅰ10和密封圈Ⅱ11围成真空密封腔，用于密封抽真空孔3；所述密封圈Ⅱ11可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上。
实施例6
作为本实用新型又一较佳实施例，参照说明书附图1、2和4，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发底座8将触发腔4体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔9连通；所述连通孔9设置在触发底座8上；
所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有密封圈Ⅰ10，用于密封阻止吸附孔2与抽真空孔3之间的空气流通；在本实施例中，所述密封圈Ⅰ10可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上。
所述密封圈Ⅰ10的轴向方向外侧，设置有密封圈Ⅱ11，密封圈Ⅰ10和密封圈Ⅱ11围成真空密封腔，用于密封抽真空孔3；所述密封圈Ⅱ11可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上。所述弹性元件7一端连接在触发底座8下端，另一端连接在触发腔4底部。
实施例7
作为本实用新型又一较佳实施例，本实施例公开了：
一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，包括真空吸附基体1，所述真空吸附基体1上设置有吸附孔2和抽真空孔3，所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有触发腔4，所述触发腔4分别于吸附孔2和抽真空孔3连通，所述触发腔4内设置有触发机构5，所述触发机构5上设置有触发杆6，所述触发杆6穿过吸附孔2并向真空吸附基体1外侧延伸；所述触发机构5连接有弹性元件7，所述弹性元件7带动触发机构5移动；
所述触发机构5包括触发底座8，所述触发杆6设置在触发底座8上，所述触发底座8与触发腔4侧壁之间留有空隙；
所述吸附孔2与抽真空孔3之间设置有密封圈Ⅰ10，用于密封阻止吸附孔2与抽真空孔3之间的空气流通；在本实施例中，所述密封圈Ⅰ10可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上。
所述密封圈Ⅰ10的轴向方向外侧，设置有密封圈Ⅱ11，密封圈Ⅰ10和密封圈Ⅱ11围成真空密封腔，用于密封抽真空孔3；所述密封圈Ⅱ11可以设置在触发底座8上，也可以设置在触发腔4上端壁上；所述弹性元件7一端连接在触发底座8上端，另一端连接在触发腔4顶部。
Claims (10)
1.一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：包括真空吸附基体（1），所述真空吸附基体（1）上设置有吸附孔（2）和抽真空孔（3），所述吸附孔（2）与抽真空孔（3）之间设置有触发腔（4），所述触发腔（4）分别于吸附孔（2）和抽真空孔（3）连通，所述触发腔（4）内设置有触发机构（5），所述触发机构（5）上设置有触发杆（6），所述触发杆（6）穿过吸附孔（2）并向真空吸附基体（1）外侧延伸；所述触发机构（5）连接有弹性元件（7），所述弹性元件（7）带动触发机构（5）移动。
2.如权利要求1所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述触发机构（5）包括触发底座（8），所述触发底座（8）将触发腔（4）体分隔为上腔体和下腔体，上腔体和下腔体通过连通孔（9）连通。
3.如权利要求2所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述连通孔（9）设置在触发底座（8）上。
4.如权利要求2所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述连通孔（9）设置在真空吸附基体（1）上。
5.如权利要求1所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述触发机构（5）包括触发底座（8），所述触发杆（6）设置在触发底座（8）上，所述触发底座（8）与触发腔（4）侧壁之间留有空隙。
6.如权利要求1、2或5所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述吸附孔（2）与抽真空孔（3）之间设置有密封圈Ⅰ（10），用于密封阻止吸附孔（2）与抽真空孔（3）之间的空气流通。
7.如权利要求6所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述密封圈Ⅰ（10）设置在触发底座（8）上或触发腔（4）上端壁上。
8.如权利要求6所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述密封圈Ⅰ（10）的轴向方向外侧，设置有密封圈Ⅱ（11），密封圈Ⅰ（10）和密封圈Ⅱ（11）围成真空密封腔，用于密封抽真空孔（3）；所述密封圈Ⅱ（11）设置在触发底座（8）上或触发腔（4）上端壁上。
9.如权利要求1、2或5所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述弹性元件（7）一端连接在触发底座（8）下端，另一端连接在触发腔（4）底部。
10.如权利要求1、2或5所述的一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构，其特征在于：所述弹性元件（7）一端连接在触发底座（8）上端，另一端连接在触发腔（4）顶部。
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| CN201620621234.2U CN205734577U (zh) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构 |
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| CN201620621234.2U CN205734577U (zh) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构 |
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ID=57384636
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| CN201620621234.2U Active CN205734577U (zh) | 2016-06-22 | 2016-06-22 | 一种自动密封非工作状态孔的真空吸附结构 |
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| CN (1) | CN205734577U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110842626A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-02-28 | 杭州富阳钰宝机床厂 | 一种机床用t形工件抓取机构 |
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2016
- 2016-06-22 CN CN201620621234.2U patent/CN205734577U/zh active Active
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| CN110842626A (zh) * | 2019-11-27 | 2020-02-28 | 杭州富阳钰宝机床厂 | 一种机床用t形工件抓取机构 |
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| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant |