CN205711046U - 小炉盖升降旋转机构 - Google Patents

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Inventor
郑清超
赵玉梅
杨坤
高宇
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Hebei Tongguang Semiconductor Co.,Ltd.
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HEBEI TONGGUANG CRYSTAL CO Ltd
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Abstract

本实用新型涉及一种小炉盖升降旋转机构,包括炉台、上炉室、小炉盖、托架、观察窗、锁紧螺母、旋转托盘、支撑轴、直线轴承和气缸,炉台上分别设置有上炉室、气缸和支撑轴,上炉室上设置有小炉盖,小炉盖正上方中心位置设有观察窗;气缸移动端板上固定设置有旋转托盘,旋转托盘上表面通过锁紧螺母与托架一端固定连接,托架另一端与小炉盖上表面固定连接;旋转托盘下表面通过气缸的移动端板与支撑轴相连;支撑轴设置有直线轴承。本实用新型的有益效果是:拆装热场方便,保证炉体的真空密封性,提升小炉盖并旋转至相应位置,便于后续工序操作。

Description

小炉盖升降旋转机构
技术领域
本实用新型涉及一种碳化硅单晶生长炉领域内的升降旋转机构,具体的涉及一种小炉盖升降旋转机构。
背景技术
在半导体器件的应用方面,随着碳化硅生产成本的降低,碳化硅由于其优良的性能而可能取代硅作芯片,打破硅芯片由于材料本身性能的瓶颈,将给电子业带来革命性的变革。目前碳化硅的主要应用领域有LED固体照明和高频率器件,未来手机和笔记本电脑的背景光市场将给碳化硅提供巨大的需求增长。同时晶体生长设备-单晶生长炉也随之得到了飞速的发展。
碳化硅单晶生长炉属于高真空密封装置,对真空泄漏率的要求很高。由于晶体工艺要求,需要增加小炉盖上升旋转开启功能,便于拆装内部热场件。晶体生长过程,需要小炉盖与下方炉室密封,目前的技术关于小炉盖旋转机构的创造较少,拆装复杂、真空密封效果差。
为此,如何提供一种小炉盖升降旋转机构,是本实用新型研究的目的。
实用新内容
为克服现有技术不足,本实用新型提供一种小炉盖升降旋转机构,在长晶前装料和长晶后取晶时,通过升降平台,提升小炉盖并旋转至相应位置,便于后续工序操作,同时保证了真空密封的效果。
为解决现有技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种小炉盖升降旋转机构,包括炉台、上炉室、小炉盖、托架、观察窗、锁紧螺母、旋转托盘、支撑轴、直线轴承和气缸,所述的炉台上分别设置有上炉室、气缸和支撑轴,所述的上炉室上设置有小炉盖,所述的小炉盖正上方中心位置设有观察窗;所述的气缸移动端板上固定设置有旋转托盘,所述的旋转托盘上表面通过锁紧螺母与托架一端固定连接,所述的托架另一端与小炉盖上表面固定连接;所述的旋转托盘下表面通过气缸的移动端板与支撑轴相连;所述的支撑轴设置有直线轴承。
进一步的,所述的上炉室与小炉盖通过o型密封圈密封。
进一步的,所述的气缸初始下限位置高于小炉盖和上炉室的压紧位置。
进一步的,所述的支撑轴与旋转托盘的表面做材料硬化处理。
进一步的,所述的气缸可根据需要选择带导向杆的型号。
本实用新型的有益效果是:拆装热场方便,保证炉体的真空密封性,提升小炉盖并旋转至相应位置,便于后续工序操作。
附图说明
图1为本实用新型的结构剖面图。
图2为本实用新型的结构俯视图。
其中:炉台1、上炉室2、小炉盖3、托架4、观察窗5、锁紧螺母6、旋转托盘7、支撑轴8、直线轴承9、气缸10、连接杆11。
具体实施方式
为了使本领域技术人员能够更好的理解本实用新型技术方案,下面结合附图1-2对本实用新型做进一步分析。
如图1所示,一种小炉盖升降旋转机构,包括炉台1、上炉室2、小炉盖3、托架4、观察窗5、锁紧螺母6、旋转托盘7、支撑轴8、直线轴承9和气缸10,上炉室2置于炉台1上,小炉盖3位于上炉室2上,通过密封圈实现密封;小炉盖3正上方中心留有观察窗5,可观察炉内生长情况;气缸10紧固于炉台上,升降行程根据预定升起高度选定;气缸10的初始下限位置可略高于小炉盖3和上炉室2的压紧位置,保证密封圈被充分压缩,真空可靠。如图2所示,旋转托盘7下表面固定在气缸10的移动端板11上,其上表面与托架4一端通过锁紧螺母6紧固,托架另一端与小炉盖上表面固定连接;移动端板11与支撑轴8相连,支撑轴8设置有直线轴承9。上炉室2与炉体真空部分贯通。
气缸10下限位位于小炉盖3压紧状态,随着行程上升,可抬起小炉盖3,受气缸10行程限制,可自动止于最高位置。气缸10可选带导向杆的型式,保证垂直升降。旋转托盘7可实现最高时旋转功能,让出炉口位置,便于后续操作。支撑轴8与旋转托盘7的表面需做材料硬化处理。
本实用新型工作中,随着气缸10顶升,小炉盖3被逐渐抬高,由于小炉盖3中心与气缸10中心偏移,产生的轴向力矩被固定在炉台1上的支撑轴8及直线轴承9通过旋转托盘7抵消。直线轴承9与支撑轴8沿轴向相对位移。随着小炉盖3升至最高位,可手动将小炉盖3旋转出炉口位置,让出操作空间。正常工序操作完成后,过程逆向操作,将小炉盖3旋回中心,并下降到初始位置。
本实用新型所述的机构整个过程无需繁杂人工操作,仅控制气缸10启动时间,上升到预定高度后,人为实现旋转,其余自动完成。
以上对本申请所提供的技术方案进行了详细介绍,本文中应用了实施例对本申请的原理及实施方式进行了阐述,以上实施例的说明只是用于帮助理解本申请的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本申请的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本申请的限制。

Claims (5)

1.一种小炉盖升降旋转机构,其特征在于:包括炉台、上炉室、小炉盖、托架、观察窗、锁紧螺母、旋转托盘、支撑轴、直线轴承和气缸,所述的炉台上分别设置有上炉室、气缸和支撑轴,所述的上炉室上设置有小炉盖,所述的小炉盖正上方中心位置设有观察窗;所述的气缸移动端板上固定设置有旋转托盘,所述的旋转托盘上表面通过锁紧螺母与托架一端固定连接,所述的托架另一端与小炉盖上表面固定连接;所述的旋转托盘下表面通过气缸的移动端板与支撑轴相连;所述的支撑轴设置有直线轴承。
2.根据权利要求1所述的一种小炉盖升降旋转机构,其特征在于:所述的上炉室与小炉盖通过o型密封圈密封。
3.根据权利要求1所述的一种小炉盖升降旋转机构,其特征在于:所述的气缸初始下限位置高于小炉盖和上炉室的压紧位置。
4.根据权利要求1所述的一种小炉盖升降旋转机构,其特征在于:所述的支撑轴与旋转托盘的表面做材料硬化处理。
5.根据权利要求1所述的一种小炉盖升降旋转机构,其特征在于:所述的气缸可根据需要选择带导向杆的型号。
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Inventor before: Zhao Yumei

Inventor before: Yang Kun

Inventor before: Gao Yu

CB03 Change of inventor or designer information
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Address after: 071066 No. 6001, North Third Ring Road, Baoding City, Hebei Province

Patentee after: Hebei Tongguang Semiconductor Co.,Ltd.

Address before: 071051 4th floor, block B, building 6, University Science Park, 5699 North 2nd Ring Road, Baoding City, Hebei Province

Patentee before: HEBEI TONGGUANG CRYSTAL Co.,Ltd.

CP03 Change of name, title or address