CN205473959U - 一种双电子枪蒸发源 - Google Patents

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Abstract

本实用新型属于真空镀膜技术,具体涉及一种双电子枪蒸发源。所述阴极和偏转系统组合配套使用,所述组合装置至少有2套,所述多束电子束都能轰击同一熔池。本实用新型有益效果:两套电子束系统同时工作,增强了电子束的稳定性。同时,由于电子枪功率的相应降低,使用寿命相应的增加。

Description

一种双电子枪蒸发源
技术领域
本实用新型属于真空镀膜技术,具体涉及一种双电子枪蒸发源。
背景技术
蒸发源是用来加热膜材使之气化蒸发的装置。目前,所用的蒸发源主要有电阻加热、电子束加热、感应加热、电弧加热和激光加热等形式。有很多材料不能用电阻加热的形式蒸发,在这种情况下,必须采用电子束加热方式。电子枪所用电源大小更多的取决于蒸发材料的导热性,而不是其蒸发温度。电源功率一般在4-10KV之间,对于大多数绝缘材料,4KW是比较理想的功率条件。
当需要电子束大功率长时间功率时,电子枪的使用寿命大幅度按降低,电子束稳定性降低。
实用新型内容
本实用新型为了克服上述技术缺陷,提供一种双电子枪蒸发源。
一种双电子枪蒸发源,包括熔池、阴极、偏转系统,其特征在于:所述阴极和偏转系统组合配套使用,所述组合装置至少有2套。
所述多束电子束都能轰击同一熔池。
本实用新型有益效果:两套电子束系统同时工作,增强了电子束的稳定性。同时,由于电子枪功率的相应降低,使用寿命相应的增加。
附图说明
图1为本实用新型结构图
具体实施方式
如图1所示,电子位于熔池1下面的阴极2发出,这种结构避免了阴极被蒸发材料的污染。阴极2发出的电子经过偏转系统3的电压作用,轰击熔池1内的材料。该电子束在电磁线圈的磁场中可沿E×B的方向偏转。两套电子束系统同时工作,增强了电子束的稳定性。同时,由于电子枪功率的相应降低,使用寿命相应的增加。

Claims (2)

1.一种双电子枪蒸发源,包括熔池(1)、阴极(2)、偏转系统(3),其特征在于:所述阴极(2)和偏转系统(3)组合配套使用,所述组合装置至少有2套。
2.根据权利要求1所述一种双电子枪蒸发源,其特征在于:多束电子束都能轰击同一熔池(1)。
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