CN205368487U - 一种蒸发源设备及系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种蒸发源设备及系统,用以减小蒸发源设备的坩埚调试过程耗时时长,且简化了调试方案。本申请实施例中,通过在蒸发源设备中增加隔离装置,该隔离装置包含至少一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴,用于遮挡第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚,从而,实现了对蒸发源设备中至少一个坩埚进行独立调试的目的,且独立调试的时候不需要对其他坩埚进行熄灭、开启热源的处理,避免了在对蒸发源设备中坩埚进行调试时耗时时间较长的缺陷,简化了调试工艺,提升了调试效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及蒸镀技术领域,尤其涉及一种蒸发源设备及系统。
背景技术
蒸镀工艺即:在真空环境中,将材料加热并镀到基片上,或者,将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华,使之在工件或基片表面析出的过程。
现有的蒸镀工艺一般会使用蒸发源设备,其具体结构参照图1所示,主要包括:蒸发源本体11,嵌设在蒸发源本体11内的第一主源坩埚12,与第一主源坩埚12并排设置的第二主源坩埚13,以及位于第一主源坩埚12与第二主源坩埚13之间的辅源坩埚14,第一主源坩埚12、第二主源坩埚13以及辅源坩埚14均可设置为矩形腔室,每个腔室的上方设置有多个用于喷射出经加热而蒸发的待成膜材料的喷嘴,一般情况下,每个坩埚设置的喷嘴的喷射角度相同,例如:辅源坩埚14的喷嘴141与蒸发源本体11的上表面垂直,即喷嘴141竖直设置;第一主源坩埚12上的喷嘴121与蒸发源本体11的上表面呈预设夹角,且喷嘴121向辅源坩埚14一侧倾斜,相应地,第二主源坩埚13的喷嘴131与第一主源坩埚12上的喷嘴121对称设置。考虑到喷嘴是呈束状方式喷射,为了较好的控制各个坩埚上的喷嘴喷射出的待成膜材料的沉积范围,在蒸发源本体11的边缘位置设置有用于控制喷射范围的隔离柱15,其厚度可根据实际需求进行设定,此外,在第一主源坩埚12与辅源坩埚14之间设置有第一角度控制板161,在第二主源坩埚13与辅源坩埚14之间设置有第二角度控制板162,其中,隔离柱15与第一角度控制板161、第二角度控制板162的高度可根据工艺条件进行调整,其决定了喷嘴喷射出的待成膜材料在衬底基板上的沉积范围。
考虑到在进行蒸镀工艺时,蒸发源设备中的三个坩埚是同时工作的,即:坩埚下方的热源同时开启,然后第一主源坩埚以及第二主源坩埚中的主源材料与辅源坩埚中的辅源材料同时被加热,并通过各自的多个喷嘴待成膜材料喷射至衬底基板上。在每次蒸镀工艺开始之前,都需要根据预设比例对各个坩埚的热源的温度进行调试,以便于主源坩埚与辅源坩埚喷射出的待成膜材料能够均匀混合在一起,且沉积为所需混合比例的膜层。然而,由于三个坩埚的喷嘴是同时喷射,然后在基板上混合成有机膜层,因此,在对蒸发源设备的各个坩埚的热源的温度进行调试时,无法同时进行调试,必须开启一个坩埚的热源,而其他的坩埚的热源熄灭,待调试成功后再熄灭该坩埚,开启另外两个坩埚中的一个进行调试,这一热源的熄灭与开启过程就需要耗费将近24个小时,严重影响了调试的便捷性,进而影响生产的量产产能。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种蒸发源设备,用以解决现有技术中存在的蒸发源设备的坩埚调试过程耗时较长且调试方案较为繁琐的问题。
本实用新型实施例采用以下技术方案:
一种蒸发源设备,包括:蒸发源本体,第一主源坩埚,第二主源坩埚,以及辅源坩埚,设置在所述第一主源坩埚与所述辅源坩埚之间的第一角度控制板,设置在所述第二主源坩埚与所述辅源坩埚之间的第二角度控制板,还包括:
用于遮挡第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚的隔离装置;其中,所述隔离装置包括至少一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴,所述至少一个隔离板的一端固定在所述卷轴上,且以所述卷轴为轴体卷曲在所述卷轴表面,所述至少一个隔离板沿所述卷轴延伸方向的宽度至少大于所述蒸发源设备的长度。
可选地,所述卷轴通过卡簪可拆卸安装在所述蒸发源设备上。
可选地,所述隔离装置包括一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴;
其中,所述卷轴设置在所述第一角度控制板靠近所述辅源坩埚的一侧底端,所述隔离板的伸缩区域为所述第一角度控制板和与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱之间;或者,
所述卷轴设置在所述第二角度控制板靠近所述辅源坩埚的一侧底端,所述隔离板的伸缩区域为所述第二角度控制板和与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱之间。
可选地,所述隔离装置包括第一隔离板,第二隔离板,以及分别与所述第一隔离板、第二隔离板配套的第一卷轴、第二卷轴;
其中,所述第一卷轴设置在与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第一隔离板的伸缩区域为与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱和所述第二角度控制板之间;
所述第二卷轴设置在与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第二隔离板的伸缩区域为与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱和所述第一角度控制板之间。
可选地,所述隔离装置包括第一隔离板,第二隔离板,以及分别与所述第一隔离板、第二隔离板配套的第一卷轴、第二卷轴;
其中,所述第一卷轴设置在所述第一角度控制板靠近所述第一主源坩埚的一侧底端,所述第一隔离板的伸缩区域为与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱和所述第一角度控制板之间;
所述第二卷轴设置在与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第二隔离板的伸缩区域为与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱和所述第二角度控制板之间。
可选地,所述隔离板的材质为金属单质或合金。
可选地,所述隔离板的材质为不锈钢。
可选地,所述隔离板的厚度范围为0.01mm-0.03mm。
可选地,所述隔离板的另一端设置有卡折结构。
一种蒸发源系统,包括所述的蒸发源设备,以及与所述蒸发源设备的隔离装置连接的控制处理设备;
其中,所述控制处理设备用于根据接收到的用户指令控制所述隔离装置的卷轴自动转动以实现隔离板对蒸发源设备中第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚的遮挡。
在本实用新型中,通过在蒸发源设备中增加隔离装置,该隔离装置至少包含一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴,用于遮挡第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚,从而,实现了对蒸发源设备中至少一个坩埚进行独立调试的目的,且独立调试的时候不需要对其他坩埚进行熄灭、开启热源的处理,避免了在对蒸发源设备中坩埚进行调试时耗时时间较长的缺陷,简化了调试工艺,提升了调试效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简要介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域的普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为现有的蒸镀工艺所使用的蒸发源设备的结构示意图;
图2(a)为本实用新型提供的蒸发源设备的结构示意图;
图2(b)为本实用新型提供的蒸发源设备的侧面结构示意图;
图3(a)和图3(b)分别为本实用新型提供的蒸发源设备的结构示意图之一;
图3(c)为本实用新型提供的图3(a)和图3(b)所示的蒸发源设备的工作原理示意图;
图4(a)为本实用新型提供的蒸发源设备的结构示意图之二;
图4(b)-图4(d)为本实用新型提供的图4(a)所示的蒸发源设备的工作原理示意图;
图5(a)为本实用新型提供的蒸发源设备的结构示意图之三;
图5(b)为本实用新型提供的图5(a)所示的蒸发源设备的工作原理示意图;
图6为本实用新型提供的一种蒸发源系统的结构示意图。
具体实施方式
为了使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本实用新型作进一步地详细描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本实用新型保护的范围。
下面通过具体的实施例对本实用新型所涉及的技术方案进行详细描述,本实用新型包括但并不限于以下实施例。
如图2(a)所示,为本实用新型提供的蒸发源设备的结构示意图,该蒸发源设备主要包括:蒸发源本体21,第一主源坩埚22,第二主源坩埚23,以及辅源坩埚24,设置在第一主源坩埚22与辅源坩埚24之间的第一角度控制板25,设置在第二主源坩埚23与辅源坩埚24之间的第二角度控制板26,此外,该实用新型所涉及的蒸发源设备还包括:用于遮挡第一主源坩埚22、第二主源坩埚23以及辅源坩埚24中至少一个坩埚喷射出的蒸发源材料的隔离装置27;该隔离装置27进一步包括至少一个隔离板271以及与该隔离板271配套的卷轴272,至少一个隔离板271的一端固定在卷轴272上,且以卷轴272为轴体卷曲在卷轴272表面,具体地,隔离板271的另一端s1可以拉伸至第一角度控制板25的顶端,以使得隔离板271遮挡住第一主源坩埚22。另外,结合图2(b)所示的侧面图可知,隔离板271沿卷轴272延伸方向的宽度d至少大于最大的坩埚的长度l。
在本实用新型中,隔离装置的卷轴可通过多种方式安装在蒸发源设备上,例如,可焊接在蒸发源设备上。可选地,为了能够提升蒸发源设备的灵活性,避免在实际生产过程中,隔离装置对蒸发源设备的蒸镀造成影响,卷轴通过卡簪可拆卸安装在所述蒸发源设备上,从而,在调试时将该隔离装置安装上,在调试结束后实际生产时则可将隔离装置拆卸掉,提升了蒸发源设备灵活性。
参照图3(a)所示,在本实用新型的一种可实现的实施例中,蒸发源设备的除隔离装置以外的部件均以图2(a)和图2(b)中的标注,而隔离装置重新标记为31,且该隔离装置31包括一个隔离板32以及与该隔离板32配套的卷轴33;其中,卷轴33设置在第一角度控制板25靠近辅源坩埚24的一侧底端,隔离板32的伸缩区域为第一角度控制板25和与第二主源坩埚23相邻的隔离柱34之间。
同时,参照图3(b),该卷轴33设置在第二角度控制板26靠近辅源坩埚24的一侧底端,隔离板32的伸缩区域为第二角度控制板26和与第一主源坩埚22相邻的隔离柱35之间。
上述图3(a)、图3(b)提供的蒸发源设备,通过设置隔离装置31,可具体实现以下两种调试方案:
方案1:
针对生产之前待调试的蒸发源设备或是生产过程中检测出蒸镀参数问题的蒸发源设备,若蒸发源设备为图3(a)的结构,则可以通过转动卷轴33的方式将隔离板32的另一端s2拉伸至第二角度控制板26的顶端,以遮挡住辅源坩埚24,此时,该蒸发源设备对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以主源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测试,确定计算出匹配参数值,进一步,可以通过人工计算确定出补正后的匹配参数值(补正后匹配参数值=平均厚度值/目标厚度*匹配参数值),然后发送给设备进行主源坩埚的热源调整(补正后的匹配参数值变大,则热源调低);或者,将匹配参数值直接发送给蒸发源设备,使得其自身的控制处理装置根据匹配参数值确定补正后的匹配参数值并进一步调整主源坩埚的热源。需要说明的是,由于此时的方案中,仅能对辅源坩埚进行遮挡,在进行调试过程的蒸镀时,两个主源坩埚同时喷射主源材料,因此,在计算匹配参数值时,需要对测量得到的膜层减半,以对应其中一个主源坩埚的蒸镀厚度。
在方案1中,通过隔离装置的隔离板对辅源坩埚的遮挡,从而,在不必对坩埚的热源进行熄灭、开启等繁琐耗时的工序的前提下,实现了对两个主源坩埚的粗粒度调试,虽然对辅源坩埚进行调试时,无法使用隔离装置的隔离板的遮挡,可能还必须采用现有的对两侧的两个主源坩埚的热源进行熄灭、开启等工序,才能实现对辅源坩埚的蒸镀厚度的调试,然而,在整个调试过程中,仅需要对坩埚的热源进行一次熄灭、开启的操作,因此,对辅源坩埚的调试需要耗时8小时,而对两个主源坩埚的调试耗时非常短,甚至几分钟就可以完成,相比于现有技术中对每个坩埚分别进行调试,需要耗时24小时而言,节省了调试时长,简化了调试工艺,提升了调试效率。
图3(b)的蒸发源设备的工作原理同上,只是隔离板拉伸的方向不同,具体可以通过转动卷轴33的方式将隔离板32的另一端s2拉伸至第一角度控制板25的顶端,以遮挡住辅源坩埚24。同样,该蒸发源设备的结构节省了调试时长,简化了调试工艺,提升了调试效率。
方案2:
仍以图3(a)所示的蒸发源设备为例进行说明,参照图3(c)所示,可以通过转动卷轴33的方式将隔离板32的另一端s2拉伸至与第二主源坩埚23相邻的隔离柱34的顶端,以遮挡住辅源坩埚24以及第二主源坩埚23,此时,该蒸发源设备对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以主源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测试,确定计算出匹配参数值,此时测试的为第一主源坩埚22的蒸镀厚度,进一步,可以通过人工计算确定出补正后的匹配参数值(补正后匹配参数值=平均厚度值/目标厚度*匹配参数值),然后发送给设备进行第一主源坩埚的热源调整(补正后的匹配参数值变大,则热源调低);或者,将匹配参数值直接发送给蒸发源设备,使得其自身的控制处理装置根据匹配参数值确定补正后的匹配参数值并进一步调整第一主源坩埚的热源。同理,图3(b)所示的蒸发源设备也可以实现对辅源设备24以及第一主源坩埚22的遮挡,以实现对第二主源坩埚23的调试。
在方案2中,通过隔离装置的隔离板对辅源坩埚的遮挡,从而,在不必对坩埚的热源进行熄灭、开启等繁琐耗时的工序的前提下,实现了对第一主源坩埚的调试,虽然对辅源坩埚、第二主源坩埚进行调试时,无法使用隔离装置的隔离板的遮挡,可能还必须采用现有的对坩埚的热源进行熄灭、开启等工序,才能实现对辅源坩埚、第二主源坩埚的蒸镀厚度的调试,然而,在整个调试过程中,需要对坩埚的热源进行两次熄灭、开启的操作,因此,对辅源坩埚以及第二主源坩埚的调试需要耗时2*8,约16个小时,而对第一主源坩埚的调试耗时非常短,甚至几分钟就可以完成,相比于现有技术中对每个坩埚分别进行调试,需要耗时24小时而言,节省了调试时长,简化了调试工艺,提升了调试效率。
参照图4(a)所示,在本实用新型的第二种可实现的实施例中,隔离装置41包括第一隔离板42,第二隔离板43,以及分别与第一隔离板42、第二隔离板43配套的第一卷轴44、第二卷轴45;其中,第一卷轴44设置在与第一主源坩埚22相邻的隔离柱46的顶端,第一隔离板42的伸缩区域为与第一主源坩埚22相邻的隔离柱46和第二角度控制板26之间;第二卷轴45设置在与第二主源坩埚23相邻的隔离柱47的顶端,第二隔离板43的伸缩区域为与第二主源坩埚23相邻的隔离柱47和第一角度控制板25之间。
下面通过具体的实施方案对图4(a)所示的蒸镀源设备的工作原理进行说明。需要说明的是,该蒸发源设备的结构可以分别实现对第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚的调试,而不需现有技术中熄灭、开启坩埚的热源。具体地,由于该第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚都可以进行调试,因此,各个坩埚调试的顺序并不进行限定,例如:
首先,对辅源坩埚进行调试,具体参见图4(b),需要转动第一卷轴44,将第一隔离板42的另一端s2拉伸至第一角度控制板25的顶端,以遮挡住第一主源坩埚22,同时,转动第二卷轴45,将第二隔离板43的另一端s3拉伸至第二角度控制板26的顶端,以遮挡住第二主源坩埚23。然后,对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以辅源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测量,确定计算出匹配参数值,此时测试的为辅源坩埚24的蒸镀厚度,进一步,通过人工计算或是控制设备自动计算得出补正后的匹配参数值,并调整辅源坩埚的热源。
接着,对第二主源坩埚进行调试,具体参见图4(c),转动第一卷轴44,将第一隔离板42的另一端s2由第一角度控制板25的顶端拉伸至第二角度控制板26的顶端,以遮挡住第一主源坩埚22以及辅源坩埚24,同时,转动第二卷轴45,将第二隔离板43的另一端s3由第二角度控制板25恢复至与第二主源坩埚23相邻的隔离柱47的顶端,以暴露出待调试的第二主源坩埚。然后,对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以第二主源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测量,确定计算出匹配参数值,此时测试的为第二主源坩埚23的蒸镀厚度,进一步,通过人工计算或是控制设备自动计算得出补正后的匹配参数值,并调整第二主源坩埚的热源。
同理,基于图4(c)的操作对第一主源坩埚进行调试,参照图4(d)所示,转动第一卷轴44,将第一隔离板42的另一端s2由第二角度控制板26的顶端恢复至与第一主源坩埚22相邻的隔离柱46的顶端,以暴露出第一主源坩埚22,同时,转动第二卷轴45,将第二隔离板43的另一端s3由与第二主源坩埚23相邻的隔离柱47的顶端拉伸至第一角度控制板26的顶端,以遮挡住第二主源坩埚以及辅源坩埚。然后,对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以第一主源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测量,确定计算出匹配参数值,此时测试的为第一主源坩埚22的蒸镀厚度,进一步,通过人工计算或是控制设备自动计算得出补正后的匹配参数值,并调整第一主源坩埚的热源。
通过上述方案可知,第二种可实现的实施例中,该蒸发源设备能够分别通过隔离装置的隔离板对相应的坩埚进行遮挡,以便于很好的对其中一个坩埚进行调试,避免了现有技术中对坩埚的热源进行熄灭、开启的繁琐处理过程,仅需要至多两个小时即可完成各个坩埚的调试操作,相比现有技术而言,节省了近22个小时,而且,简化了调试工艺,提升了调试效率。
参照图5(a)所示,在本实用新型的第三种可实现的实施例中,隔离装置51包括第一隔离板52,第二隔离板53,以及分别与第一隔离板52、第二隔离板53配套的第一卷轴54、第二卷轴55;其中,第一卷轴54设置在第一角度控制板25靠近第一主源坩埚22的一侧底端,第一隔离板52的伸缩区域为与第一主源坩埚22相邻的隔离柱56和第一角度控制板25之间;第二卷轴55设置在与第二主源坩埚23相邻的隔离柱57的顶端,第二隔离板53的伸缩区域为与第二主源坩埚23相邻的隔离柱57和第二角度控制板26之间。
下面通过具体的实施方案对图5(a)所示的蒸镀源设备的工作原理进行说明。需要说明的是,该蒸发源设备的结构仅可以对辅源坩埚进行调试。具体地,参照图5(b)所示,转动第一卷轴54,将第一隔离板52的另一端s2拉伸至与第一主源坩埚22相邻的隔离柱56的顶端,以遮挡住第一主源坩埚。同时,转动第二卷轴55,将第二隔离板53的另一端s3拉伸至第二主源坩埚23相邻的隔离柱57的顶端,以遮挡住第二主源坩埚。对调试用的衬底基板进行蒸镀工艺,在衬底基板上沉积形成仅以辅源材料为主的膜层,通过对该膜层进行厚度测量,确定计算出匹配参数值,此时测试的为辅源坩埚24的蒸镀厚度,进一步,通过人工计算或是控制设备自动计算得出补正后的匹配参数值,并调整辅源坩埚的热源。
通过上述方案可知,第三种可实现的实施例中,该蒸发源设备能够通过隔离装置的隔离板对第一主源坩埚以及第二主源坩埚进行遮挡,以便于很好的对辅源坩埚进行调试,而另外两个主源坩埚可以按照现有技术中对坩埚的热源进行熄灭、开启的处理过程,整个调试过程近17个小时左右,相比现有技术而言,节省了近7个小时,而且,简化了调试工艺,提升了调试效率。
可选地,在本实用新型中,考虑到隔离板遮挡的是高温的坩埚,其喷射出的蒸镀材料的温度也相应很高,因此,隔离板的材质为耐高温的金属单质或合金。一种较佳地实施例,隔离板的材质为不锈钢。
可选地,考虑到隔离板的耐高温需求,以及卷曲特性,本实用新型中的隔离板的厚度范围为0.01mm-0.03mm。
可选地,在本实用新型中,为了保证隔离板能够稳定地起到遮挡作用,隔离板的另一端设置有卡折结构,该卡折结构能够与第一角度控制板的顶端或者第二角度控制板的顶端或者与第一角度控制板相邻的隔离柱的顶端或者与第二角度控制板相邻的隔离柱的顶端或者卷轴相互卡合,从而较为稳定地固定。
同理,本实用新型还提供了一种蒸发源系统,参照图6所示,该蒸发源系统6包括本实用新型所涉及的任意一种蒸发源设备61,以及与蒸发源设备61的隔离装置611连接的控制处理设备62;其中,控制处理设备62用于根据接收到的用户指令控制隔离装置611的卷轴自动转动以实现隔离板对蒸发源设备61中第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚的遮挡。
尽管已描述了本实用新型的优选实施例,但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念,则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以,所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
显然,本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。
Claims (10)
1.一种蒸发源设备,包括:蒸发源本体,第一主源坩埚,第二主源坩埚,以及辅源坩埚,设置在所述第一主源坩埚与所述辅源坩埚之间的第一角度控制板,设置在所述第二主源坩埚与所述辅源坩埚之间的第二角度控制板,其特征在于,还包括:
用于遮挡第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚的隔离装置;其中,所述隔离装置包括至少一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴,所述至少一个隔离板的一端固定在所述卷轴上,且以所述卷轴为轴体卷曲在所述卷轴表面,所述至少一个隔离板沿所述卷轴延伸方向的宽度至少大于所述蒸发源设备的长度。
2.如权利要求1所述的设备,其特征在于,所述卷轴通过卡簪可拆卸安装在所述蒸发源设备上。
3.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离装置包括一个隔离板以及与该隔离板配套的卷轴;
其中,所述卷轴设置在所述第一角度控制板靠近所述辅源坩埚的一侧底端,所述隔离板的伸缩区域为所述第一角度控制板和与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱之间;或者,
所述卷轴设置在所述第二角度控制板靠近所述辅源坩埚的一侧底端,所述隔离板的伸缩区域为所述第二角度控制板和与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱之间。
4.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离装置包括第一隔离板,第二隔离板,以及分别与所述第一隔离板、第二隔离板配套的第一卷轴、第二卷轴;
其中,所述第一卷轴设置在与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第一隔离板的伸缩区域为与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱和所述第二角度控制板之间;
所述第二卷轴设置在与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第二隔离板的伸缩区域为与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱和所述第一角度控制板之间。
5.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离装置包括第一隔离板,第二隔离板,以及分别与所述第一隔离板、第二隔离板配套的第一卷轴、第二卷轴;
其中,所述第一卷轴设置在所述第一角度控制板靠近所述第一主源坩埚的一侧底端,所述第一隔离板的伸缩区域为与所述第一主源坩埚相邻的隔离柱和所述第一角度控制板之间;
所述第二卷轴设置在与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱的顶端,所述第二隔离板的伸缩区域为与所述第二主源坩埚相邻的隔离柱和所述第二角度控制板之间。
6.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离板的材质为金属单质或合金。
7.如权利要求6所述的设备,其特征在于,所述隔离板的材质为不锈钢。
8.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离板的厚度范围为0.01mm-0.03mm。
9.如权利要求1或2所述的设备,其特征在于,所述隔离板的另一端设置有卡折结构。
10.一种蒸发源系统,其特征在于,包括权利要求1-9任一项所述的蒸发源设备,以及与所述蒸发源设备的隔离装置连接的控制处理设备;
其中,所述控制处理设备用于根据接收到的用户指令控制所述隔离装置的卷轴自动转动以实现隔离板对蒸发源设备中第一主源坩埚、第二主源坩埚以及辅源坩埚中至少一个坩埚的遮挡。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201620119145.8U CN205368487U (zh) | 2016-02-05 | 2016-02-05 | 一种蒸发源设备及系统 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201620119145.8U CN205368487U (zh) | 2016-02-05 | 2016-02-05 | 一种蒸发源设备及系统 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN205368487U true CN205368487U (zh) | 2016-07-06 |
Family
ID=56264752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201620119145.8U Active CN205368487U (zh) | 2016-02-05 | 2016-02-05 | 一种蒸发源设备及系统 |
Country Status (1)
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- 2016-02-05 CN CN201620119145.8U patent/CN205368487U/zh active Active
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