CN117230412A - 一种双源共蒸发真空蒸镀机 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种双源共蒸发真空蒸镀机，属于真空蒸镀机技术领域，本发明包括机壳，所述机壳的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体的固定座，还包括：固定座的上端中部安装有挡板，两个坩埚主体的中间位置固定连接有隔磁板，隔磁板位于固定座的内部；左右两个所述镀锅的上端转轴均键连接有传动齿轮。该双源共蒸发真空蒸镀机，利用两个坩埚之间挡板的设置，使其左右两个坩埚主体形成可独立控制的两套坩埚系统，同时能够在镀锅上的承载槽中安装两个晶圆，在其中一个晶圆镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆的镀膜，提高镀膜的工作效率，且能够对晶圆进行均匀加热。

Description

一种双源共蒸发真空蒸镀机

技术领域

本发明涉及真空蒸镀机技术领域，具体为一种双源共蒸发真空蒸镀机。

背景技术

真空蒸镀机为在真空条件下，通过电流加热、电子束轰击加热和离子源轰击等方式，蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，再使气化后的粒子飞至基片表面而凝结，最后形成薄膜，真空蒸镀具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点，因此得到广泛的应用。

如公开号为CN216947166U的一种具有双坩埚结构的真空蒸镀机，所述真空蒸镀机的主腔体的底板上设置有坩埚结构，所述坩埚结构包括：坩埚部和加热源，所述坩埚用于盛放蒸镀材料，所述加热源用于将坩埚内的蒸镀材料从固态升华为气态，所述坩埚结构有两个，两个坩埚结构之间具有间距，两个坩埚结构设置在主腔体的底板的水平中心线上，真空蒸镀机的主腔室的上部设置有一个或多个镀锅，镀锅的形状为水平圆板或者为伞面状，坩埚结构镀膜时坩埚内的蒸镀材料以圆锥体的形状向上蒸发，其散射角为，在坩埚的中心垂直面上的向上蒸发的蒸镀材料的形状为散射面，两个坩埚结构的散射面的上表面之间的重合长度或者间距长度小于所述镀锅的直径的1/3。

其中上述现有技术中存在以下技术问题：

现有的蒸镀机虽然通过在机体的内部设置双坩埚结构进行蒸镀，两个坩埚主体之间不设置隔断结构，从而使其两个坩埚主体之间的工作空间互通，因此在蒸镀时，不便于使其左右两个坩埚形成可独立控制的两套坩埚系统，导致在实际蒸镀时，单独的镀锅基片上只能蒸镀一种材料；

如公开号为CN115216738A的一种可旋转镀环的镀锅机构及蒸镀机，包括：设于蒸镀机外壳上的电机，设于蒸镀机腔体内的镀锅；所述镀锅内设有至少一个镀环结构，所述镀环结构包括多个用于放置晶圆的镀环，多个所述镀环沿水平方向呈直线排列，相邻两个所述镀环之间通过连接杆固定连接，每个所述镀环上设有用于活动夹持所述晶圆的固定件，所述镀锅外部设有与蒸镀机腔体的顶部固定连接的伞架，所述镀锅与所述伞架可拆卸连接；所述电机与所述镀锅之间设有旋转机构，所述旋转机构一端与所述电机的输出轴连接，所述旋转机构的另一端穿过所述伞架后与所述镀环结构固定连接，所述电机用于驱动旋转机构带动所述镀环结构沿所述镀环排列方向做周向旋转运动；

其中上述现有技术中存在以下技术问题：

现有的蒸镀机在进行蒸镀加工时，需要将晶圆单面镀膜后，再打开镀膜机将镀锅从伞架上拆卸下来，更换晶圆，再将镀锅与伞架进行安装并重新开始镀膜，从而导致整体的蒸镀效率较低，同时在蒸镀的过程中不便于对晶圆进行加热，使其晶圆容易出现受热不均的现象，当晶圆受热不均后，容易降低蒸镀材的原子与晶圆间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆间的密实性。

所以我们提出了一种双源共蒸发真空蒸镀机，以便于解决上述中提出的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双源共蒸发真空蒸镀机，以解决上述背景技术提出的目前市场上现有的蒸镀机虽然通过在机体的内部设置双坩埚结构进行蒸镀，两个坩埚主体之间不设置隔断结构，从而使其两个坩埚主体之间的工作空间互通，因此在蒸镀时，不便于使其左右两个坩埚形成可独立控制的两套坩埚系统，导致在实际蒸镀时，单独的镀锅基片上只能蒸镀一种材料，需要将晶圆单面镀膜后，再打开镀膜机将镀锅从伞架上拆卸下来，更换晶圆，再将镀锅与伞架进行安装并重新开始镀膜，从而导致整体的蒸镀效率较低，同时在蒸镀的过程中不便于对晶圆进行加热，使其晶圆容易出现受热不均的现象，当晶圆受热不均后，容易降低蒸镀材的原子与晶圆间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆间的密实性的问题。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种双源共蒸发真空蒸镀机，包括机壳，所述机壳的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体的固定座，左右两个坩埚主体的上方均对应设置有一个镀锅，所述镀锅的周向开设有承载槽，且每个承载槽的内部均安装有晶圆，所述机壳的内部侧边固定连接有立柱，且立柱上转动连接有锅盖，通过锅盖用于对坩埚主体的上端开口遮挡；

还包括：

所述机壳内部容纳左右两个坩埚主体的固定座上端中部安装有挡板，两个坩埚主体的中间位置固定连接有隔磁板，隔磁板位于固定座的内部；

左右两个所述镀锅的上端转轴均键连接有传动齿轮，左右两个传动齿轮之间啮合连接有中心齿轮，所述中心齿轮固定在伺服电机的输出轴上，且传动齿轮和中心齿轮位于支撑架的内侧，所述支撑架固定在机壳的内部；

所述支撑块位于承载槽的内侧中部，且支撑块的中部固定连接有传动杆，所述传动杆伸出镀锅的一端侧边固定连接有挡块，所述支撑块的内侧中部固定连接有加热器，用于对晶圆加热；

所述支撑块上下两端的左右两侧均固定连接有侧托块，且侧托块朝向支撑块的一侧固定连接有限位结构，通过支撑块的设置能够在上下两面均能够摆放一个晶圆，所述传动杆插入在调控结构的内部，通过调控结构用于控制传动杆带动支撑块进行旋转，所述支撑块上还设置有辅助吸附结构，用于在支撑块旋转时通过负压对晶圆进行吸附，保证晶圆进行翻转调换时的稳定性。

优选的，所述镀锅位于坩埚主体的正上方，且镀锅上端转轴键连接的传动齿轮与中心齿轮构成啮合传动结构。

通过采用上述技术方案，当中心齿轮转动时能够利用传动齿轮带动镀锅进行同步旋转。

优选的，所述侧托块关于支撑块的横向中轴线对称设置，且侧托块设置为“L”形结构，并且每个侧托块的内侧均固定连接有限位结构，所述限位结构由限制块和复位弹簧组成，且限制块通过复位弹簧和侧托块相互连接。

通过采用上述技术方案，通过将晶圆按压至支撑块的上下两端时，通过复位弹簧的弹力对晶圆进行固定。

优选的，所述支撑块的横截面设置为矩形结构，且支撑块的上下表面均与晶圆相互贴合。

通过采用上述技术方案，通过支撑块与晶圆的相互贴合，从而能够利用支撑块内侧的加热器对其晶圆进行加热。

优选的，所述调控结构由固定柱、衔接丝杆、压块、储气腔、连通管、容纳柱和密封块组成，且固定柱固定在镀锅的侧边，所述固定柱的中部安装有衔接丝杆，且衔接丝杆伸入至固定柱内部的一端连接有压块，所述压块和固定柱的内部之间形成储气腔，所述传动杆侧边固定连接的挡块位于容纳柱的内部，且容纳柱的内部固定连接有密封块，所述密封块靠近传动杆的一端设置为弧形并与传动杆的表面相互贴合，且传动杆侧边固定连接的挡块远离传动杆的一端设置为弧形并与容纳柱的内壁相互贴合，所述传动杆侧边固定连接的挡块和容纳柱内部固定连接的密封块之间形成密封的驱动空腔，所述储气腔上连接有连通管，且连通管依次通过分支管道与每个容纳柱内部的驱动空腔相互连通。

优选的，所述衔接丝杆和固定柱的中部为螺纹连接，且衔接丝杆下端的压块外壁和储气腔的内壁相互贴合。

通过采用上述技术方案，当衔接丝杆在固定柱上转动时，能够使其下端螺纹连接的压块向下移动并将储气腔内部的气体向外挤出。

优选的，所述储气腔内部的气流能够通过连通管进入至容纳柱内部的驱动空腔中。

通过采用上述技术方案，通过驱动空腔内部的充气能够推动传动杆以及挡块进行旋转。

优选的，所述辅助吸附结构由定位环、施压杆、输气管、卡接柱、活塞片、助力弹簧、磁块和辅助弹簧组成，且定位环固定在支撑块左右两侧的传动杆上，所述定位环侧边的柱体内部插入有施压杆，且施压杆伸出定位环侧边柱体的一端和镀锅的内部均固定连接有磁块，在初始状态下施压杆端部的磁块和镀锅内部固定的磁块位于同一水平直线上，所述施压杆通过辅助弹簧和定位环的内部相互连接，所述定位环通过输气管和卡接柱的内部相互连通，且卡接柱固定在支撑块上，所述卡接柱的内部安装有上下两个活塞片，且活塞片通过助力弹簧和卡接柱的内部相互连接，所述输气管位于卡接柱的内部和活塞片之间。

优选的，所述定位环内部设置为空心结构，且定位环的内部和侧边的柱体内部相互连通，定位环侧边的柱体内壁和施压杆远离磁块的一端外壁相互贴合，并且施压杆能够在定位环侧边的柱体内部滑动。

通过采用上述技术方案，当施压杆在定位环侧边的柱体内部滑动时，能够将定位环内部的气流通过输气管向外挤出。

优选的，所述活塞片的外壁和卡接柱的内壁相互贴合，且活塞片通过助力弹簧和卡接柱构成弹性伸缩结构，并且卡接柱的上下端均设置为开口结构，卡接柱的上下端部与支撑块的表面相互齐平。

通过采用上述技术方案，通过助力弹簧的设置能够使其在卡接柱内部移动后的活塞片复位回弹。

与现有技术相比，本发明的有益效果是：该双源共蒸发真空蒸镀机，利用两个坩埚之间挡板的设置，使其左右两个坩埚主体形成可独立控制的两套坩埚系统，同时能够在镀锅上的承载槽中安装两个晶圆，在其中一个晶圆镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆的镀膜，提高镀膜的工作效率，且能够对晶圆进行均匀加热；

1、设置挡板和隔磁板，通过左右两个坩埚主体之间加装隔板，从而能够在进行材料蒸镀时，左右两个坩埚主体形成可独立控制的两套坩埚系统，使其两侧坩埚系统可同时蒸镀两种不同的材料，同时挡板为可拆卸设置，在使用时将挡板从两个坩埚主体之间取下时，两个坩埚之间没有遮挡，此时左右两个坩埚主体能够进行同时蒸发作业；

2、设置有支撑块，将两个晶圆分别按压至支撑块的上下表面，此时晶圆按压后其侧边对限制块进行挤压，限制块受压后复位弹簧发生形变，利用复位弹簧压缩后提供的回弹力对其支撑块上下表面的晶圆进行限位固定，同时晶圆与支撑块的表面相互贴合，利用支撑块内侧的加热器来对晶圆进行加热；

3、设置有驱动空腔，通过向驱动空腔内部的充气能够推动传动杆以及支撑块翻转，以此来实现在其中一个晶圆镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆的镀膜，同时在支撑块以及传动杆旋转的过程中，施压杆端部的磁块和镀锅内部的磁块相互远离，施压杆朝向定位环侧边的柱体外侧移动，卡接柱内部的气流通过输气管回流至定位环的内部，此时卡接柱内部两个活塞片朝向卡接柱的内侧移动，由此利用活塞片在卡接柱内部移动后形成的负压将其支撑块上下两面摆放的晶圆进行吸附，以此保证在晶圆翻转调换时晶圆的稳定性。

附图说明

图1为本发明正面立体结构示意图；

图2为本发明中心齿轮和支撑架立体结构示意图；

图3为本发明晶圆和传动杆立体结构示意图；

图4为本发明镀锅和晶圆分解结构示意图；

图5为本发明固定柱和衔接丝杆剖视结构示意图；

图6为本发明支撑块和传动杆剖视结构示意图；

图7为本发明支撑块和加热器剖视结构示意图；

图8为本发明定位环和磁块结构示意图；

图9为本发明定位环和施压杆剖视结构示意图；

图10为本发明容纳柱和密封块剖视结构示意图；

图11为本发明坩埚主体和隔磁板剖视结构示意图。

图中：1、机壳；2、坩埚主体；3、挡板；4、镀锅；5、承载槽；6、晶圆；7、传动齿轮；8、中心齿轮；9、支撑架；10、立柱；11、锅盖；12、支撑块；13、传动杆；14、挡块；15、加热器；16、侧托块；17、限位结构；171、限制块；172、复位弹簧；18、调控结构；181、固定柱；182、衔接丝杆；183、压块；184、储气腔；185、连通管；186、容纳柱；187、密封块；19、辅助吸附结构；191、定位环；192、施压杆；193、输气管；194、卡接柱；195、活塞片；196、助力弹簧；197、磁块；198、辅助弹簧；20、隔磁板。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参阅图1-图11，本发明提供如下两种实施例：

实施例一：现有的蒸镀机两个坩埚主体之间不设置隔断结构，从而使其两个坩埚主体之间的工作空间互通，因此在蒸镀时，不便于使其左右两个坩埚形成可独立控制的两套坩埚系统，导致在实际蒸镀时，单独的镀锅基片上只能蒸镀一种材料，为了解决这一技术问题，本实施公开了如下技术内容，如图1、图2和图11所示；

一种双源共蒸发真空蒸镀机，包括机壳1，机壳1的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体2的固定座，且固定座的上端中部安装有挡板3，两个坩埚主体2的中间位置固定连接有隔磁板20，隔磁板20位于固定座的内部，左右两个坩埚主体2的上方均对应设置有一个镀锅4，镀锅4的周向开设有承载槽5，且每个承载槽5的内部均安装有晶圆6，机壳1的内部侧边固定连接有立柱10，且立柱10上转动连接有锅盖11，通过锅盖11用于对坩埚主体2的上端开口遮挡；左右两个镀锅4的上端转轴均键连接有传动齿轮7，左右两个传动齿轮7之间啮合连接有中心齿轮8，中心齿轮8固定在伺服电机的输出轴上，且传动齿轮7和中心齿轮8位于支撑架9的内侧，支撑架9固定在机壳1的内部；镀锅4位于坩埚主体2的正上方，且镀锅4上端转轴键连接的传动齿轮7与中心齿轮8构成啮合传动结构。

本实施例的工作原理是：在进行蒸镀加工时，将蒸镀材料放置在机壳1内部下端左右两侧的坩埚主体2中，通过伺服电机的输出轴控制中心齿轮8转动，通过中心齿轮8和传动齿轮7的啮合传动能够使其镀锅4进行同步旋转，两个坩埚主体2之间加装挡板3，从而能够在进行材料蒸镀时，左右两个坩埚主体2形成可独立控制的两套坩埚系统，使其两侧坩埚系统可同时蒸镀两种不同的材料。

实施例二：本实施中公开的双源共蒸发真空蒸镀机是在上述实施例一的基础上做出的进一步改进，现有的蒸镀机在进行蒸镀加工时，需要将晶圆单面镀膜后，再打开镀膜机将镀锅从伞架上拆卸下来，更换晶圆6，再将镀锅与伞架进行安装并重新开始镀膜，从而导致整体的蒸镀效率较低，同时在蒸镀的过程中不便于对晶圆6进行加热，使其晶圆6容易出现受热不均的现象，当晶圆受热不均后，容易降低蒸镀材的原子与晶圆间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆间的密实性，为了进一步解决这一技术问题，本实施例公开了如下技术内容，如图2-图10所示；

支撑块12位于承载槽5的内侧中部，且支撑块12的中部固定连接有传动杆13，传动杆13的侧边固定连接有挡块14，支撑块12的内侧中部固定连接有加热器15，用于对晶圆6加热；支撑块12上下两端的左右两侧均固定连接有侧托块16，且侧托块16朝向支撑块12的一侧固定连接有限位结构17，通过支撑块12的设置能够在上下两面均能够摆放一个晶圆6，传动杆13插入在调控结构18的内部，通过调控结构18用于控制传动杆13带动支撑块12进行旋转，支撑块12上还设置有辅助吸附结构19，用于在支撑块12旋转时通过负压对晶圆6进行吸附，保证晶圆6进行翻转调换时的稳定性。侧托块16关于支撑块12的横向中轴线对称设置，且侧托块16设置为“L”形结构，并且每个侧托块16的内侧均固定连接有限位结构17，限位结构17由限制块171和复位弹簧172组成，且限制块171通过复位弹簧172和侧托块16相互连接。支撑块12的横截面设置为矩形结构，且支撑块12的上下表面均与晶圆6相互贴合。调控结构18由固定柱181、衔接丝杆182、压块183、储气腔184、连通管185、容纳柱186和密封块187组成，且固定柱181固定在镀锅4的侧边，固定柱181的中部安装有衔接丝杆182，且衔接丝杆182伸入至固定柱181内部的一端连接有压块183，压块183和固定柱181的内部之间形成储气腔184，传动杆13侧边固定连接的挡块14位于容纳柱196的内部，且容纳柱196的内部固定连接有密封块187，密封块187靠近传动杆13的一端设置为弧形并与传动杆13的表面相互贴合，且传动杆13侧边固定连接的挡块14远离传动杆13的一端设置为弧形并与容纳柱186的内壁相互贴合，传动杆13侧边固定连接的挡块14和容纳柱186内部固定连接的密封块187之间形成密封的驱动空腔，储气腔184上连接有连通管185，且连通管185依次通过分支管道与每个容纳柱186内部的驱动空腔相互连通。衔接丝杆182和固定柱181的中部为螺纹连接，且衔接丝杆182下端的压块183外壁和储气腔184的内壁相互贴合。储气腔184内部的气流能够通过连通管185进入至容纳柱186内部的驱动空腔中。辅助吸附结构19由定位环191、施压杆192、输气管193、卡接柱194、活塞片195、助力弹簧196、磁块197和辅助弹簧198组成，且定位环191固定在支撑块12左右两侧的传动杆13上，定位环191侧边的柱体内部插入有施压杆192，且施压杆192伸出定位环191侧边柱体的一端和镀锅4的内部均固定连接有磁块197，在初始状态下施压杆192端部的磁块197和镀锅4内部固定的磁块197位于同一水平直线上，施压杆192通过辅助弹簧198和定位环191的内部相互连接，定位环191通过输气管193和卡接柱194的内部相互连通，且卡接柱194固定在支撑块12上，卡接柱194的内部安装有上下两个活塞片195，且活塞片195通过助力弹簧196和卡接柱194的内部相互连接，输气管193位于卡接柱194的内部和活塞片195之间。定位环191内部设置为空心结构，且定位环191的内部和侧边的柱体内部相互连通，定位环191侧边的柱体内壁和施压杆192远离磁块197的一端外壁相互贴合，并且施压杆192能够在定位环191侧边的柱体内部滑动。活塞片195的外壁和卡接柱194的内壁相互贴合，且活塞片195通过助力弹簧196和卡接柱194构成弹性伸缩结构，并且卡接柱194的上下端均设置为开口结构，卡接柱194的上下端部与支撑块12的表面相互齐平。

本实施例的工作原理是：在进行蒸镀时，将两个晶圆6分别按压至支撑块12的上下表面，使其晶圆6与支撑块12的表面相互贴合，晶圆6的侧边按压至左右两侧的侧托块16之间，晶圆6对限制块171进行挤压，此时限制块171侧边的复位弹簧172发生压缩，通过复位弹簧172的弹性形变从而能够对晶圆6进行限位固定，保证晶圆6的稳定性，接着开启支撑块12中部的加热器15，利用加热器15的开启能够对贴合设置的晶圆6进行加热，避免晶圆6受热不均后，导致降低蒸镀材的原子与晶圆6间的键合效果以及蒸镀材的原子与晶圆6间的密实性，当支撑块12下表面的晶圆6镀膜完成之后，转动固定柱181中部的衔接丝杆182，衔接丝杆182的转动能够使其压块183在储气腔184的内部移动，通过压块183的移动将其储气腔184内部的气流通过连通管185和对应的分支管道挤出至相应容纳柱186内部的驱动空腔中，利用驱动空腔内部的充气能够推动挡块14以及传动杆13在容纳柱186的内部旋转，通过传动杆13的转动使其固定连接的支撑块12能够带动上下表面的晶圆6进行翻转，使其支撑块12上表面的晶圆6转动至下方，而支撑块12下表面镀膜后的晶圆6转动至上方，由此在其中一个晶圆6镀膜之后，能够翻转进行另一个晶圆6的镀膜，提高整体的蒸镀加工效率，然而在传动杆13带动支撑块12进行转动时，传动杆13转动后其上的定位环191跟随其同步旋转，当定位环191转动后侧边柱体内部插入的施压杆192端部的磁块197和镀锅4内部的磁块197相互远离，此时施压杆192在辅助弹簧198的作用下复位回弹，复位后的施压杆192朝向定位环191侧边柱体的外侧移动，施压杆192移动后，定位环191内部的蓄气腔体变大，此时卡接柱194内部与活塞片195之间的气流通过输气管193回流至定位环191的内部，卡接柱194内部失去气流后，活塞片195在助力弹簧196的作用下复位并朝向卡接柱194的内侧移动，通过活塞片195的移动使其卡接柱194的上下端部开口处产生负压，从而支撑块12带动晶圆6翻转时，对其贴合的晶圆6进行吸附固定，保证晶圆6在翻转时的稳定性。

本说明书中未作详细描述的内容属于本领域专业技术人员公知的现有技术。

尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种双源共蒸发真空蒸镀机，包括机壳（1），所述机壳（1）的内部下端安装有容纳左右两个坩埚主体（2）的固定座，左右两个坩埚主体（2）的上方均对应设置有一个镀锅（4），所述镀锅（4）的周向开设有承载槽（5），且每个承载槽（5）的内部均安装有晶圆（6），所述机壳（1）的内部侧边固定连接有立柱（10），且立柱（10）上转动连接有锅盖（11），通过锅盖（11）用于对坩埚主体（2）的上端开口遮挡；

其特征在于，还包括：

所述机壳（1）内部容纳左右两个坩埚主体（2）的固定座上端中部安装有挡板（3），两个坩埚主体（2）的中间位置固定连接有隔磁板（20），隔磁板（20）位于固定座的内部；

左右两个所述镀锅（4）的上端转轴均键连接有传动齿轮（7），左右两个传动齿轮（7）之间啮合连接有中心齿轮（8），所述中心齿轮（8）固定在伺服电机的输出轴上，且传动齿轮（7）和中心齿轮（8）位于支撑架（9）的内侧，所述支撑架（9）固定在机壳（1）的内部；

所述承载槽（5）的内侧中部安装有支撑块（12），且支撑块（12）的中部固定连接有传动杆（13），所述传动杆（13）伸出镀锅（4）的一端侧边固定连接有挡块（14），所述支撑块（12）的内侧中部固定连接有加热器（15），用于对晶圆（6）加热；

所述支撑块（12）上下两端的左右两侧均固定连接有侧托块（16），且侧托块（16）朝向支撑块（12）的一侧固定连接有限位结构（17），通过支撑块（12）的设置能够在上下两面均能够摆放一个晶圆（6），所述传动杆（13）插入在调控结构（18）的内部，通过调控结构（18）用于控制传动杆（13）带动支撑块（12）进行旋转，所述支撑块（12）上还设置有辅助吸附结构（19），用于在支撑块（12）旋转时通过负压对晶圆（6）进行吸附，保证晶圆（6）进行翻转调换时的稳定性。

2.根据权利要求1所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述镀锅（4）位于坩埚主体（2）的正上方，且镀锅（4）上端转轴键连接的传动齿轮（7）与中心齿轮（8）构成啮合传动结构。

3.根据权利要求1所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述侧托块（16）关于支撑块（12）的横向中轴线对称设置，且侧托块（16）设置为“L”形结构，并且每个侧托块（16）的内侧均固定连接有限位结构（17），所述限位结构（17）由限制块（171）和复位弹簧（172）组成，且限制块（171）通过复位弹簧（172）和侧托块（16）相互连接。

4.根据权利要求1所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述支撑块（12）的横截面设置为矩形结构，且支撑块（12）的上下表面均与晶圆（6）相互贴合。

5.根据权利要求1所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述调控结构（18）由固定柱（181）、衔接丝杆（182）、压块（183）、储气腔（184）、连通管（185）、容纳柱（186）和密封块（187）组成，且固定柱（181）固定在镀锅（4）的侧边，所述固定柱（181）的中部安装有衔接丝杆（182），且衔接丝杆（182）伸入至固定柱（181）内部的一端连接有压块（183），所述压块（183）和固定柱（181）的内部之间形成储气腔（184），所述传动杆（13）侧边固定连接的挡块（14）位于容纳柱（196）的内部，且容纳柱（196）的内部固定连接有密封块（187），所述密封块（187）靠近传动杆（13）的一端设置为弧形并与传动杆（13）的表面相互贴合，且传动杆（13）侧边固定连接的挡块（14）远离传动杆（13）的一端设置为弧形并与容纳柱（186）的内壁相互贴合，所述传动杆（13）侧边固定连接的挡块（14）和容纳柱（186）内部固定连接的密封块（187）之间形成密封的驱动空腔，所述储气腔（184）上连接有连通管（185），且连通管（185）依次通过分支管道与每个容纳柱（186）内部的驱动空腔相互连通。

6.根据权利要求5所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述衔接丝杆（182）和固定柱（181）的中部为螺纹连接，且衔接丝杆（182）下端的压块（183）外壁和储气腔（184）的内壁相互贴合。

7.根据权利要求5所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述储气腔（184）内部的气流能够通过连通管（185）进入至容纳柱（186）内部的驱动空腔中。

8.根据权利要求1所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述辅助吸附结构（19）由定位环（191）、施压杆（192）、输气管（193）、卡接柱（194）、活塞片（195）、助力弹簧（196）、磁块（197）和辅助弹簧（198）组成，且定位环（191）固定在支撑块（12）左右两侧的传动杆（13）上，所述定位环（191）侧边的柱体内部插入有施压杆（192），且施压杆（192）伸出定位环（191）侧边柱体的一端和镀锅（4）的内部均固定连接有磁块（197），在初始状态下施压杆（192）端部的磁块（197）和镀锅（4）内部固定的磁块（197）位于同一水平直线上，所述施压杆（192）通过辅助弹簧（198）和定位环（191）侧边的柱体内部相互连接，所述定位环（191）通过输气管（193）和卡接柱（194）的内部相互连通，且卡接柱（194）固定在支撑块（12）上，所述卡接柱（194）的内部安装有上下两个活塞片（195），且活塞片（195）通过助力弹簧（196）和卡接柱（194）的内部相互连接，所述输气管（193）位于卡接柱（194）的内部和活塞片（195）之间。

9.根据权利要求8所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述定位环（191）内部设置为空心结构，且定位环（191）的内部和侧边的柱体内部相互连通，定位环（191）侧边的柱体内壁和施压杆（192）远离磁块（197）的一端外壁相互贴合，并且施压杆（192）能够在定位环（191）侧边的柱体内部滑动。

10.根据权利要求8所述的一种双源共蒸发真空蒸镀机，其特征在于：所述活塞片（195）的外壁和卡接柱（194）的内壁相互贴合，且活塞片（195）通过助力弹簧（196）和卡接柱（194）构成弹性伸缩结构，并且卡接柱（194）的上下端均设置为开口结构，卡接柱（194）的上下端部与支撑块（12）的表面相互齐平。