CN205205218U - 掩模板的改良结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩模板的改良结构，包括板框及膜片，板框形成有镂空区及位于所述镂空区周围的框沿；膜片具有相对的接触面和蒸镀面以及自所述蒸镀面贯穿至所述接触面的蒸镀孔，所述蒸镀孔位于所述镂空区上方，所述蒸镀孔的外围形成有边缘部；所述边缘部贴附于所述框沿上且所述蒸镀面朝下，所述边缘部上布设有自所述接触面贯穿至所述蒸镀面的透气孔。根据本实用新型提供的掩模板的改良结构，可以确保膜片的边缘部与板框之间无间隙贴合，保持膜片更加平整。

Description

掩模板的改良结构

技术领域

本实用新型涉及掩模板，尤其涉及一种掩模板的改良结构。

背景技术

有机电致发光器件，具有自发光、反应时间快、视角广、成本低、制造工艺简单、分辨率佳及高亮度等多项优点，被认为是下一代的平面显示器新兴应用技术。在OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机电致发光二极管)技术中，真空蒸镀中的掩模板技术是一项非常重要和关键的技术，该技术的等级直接影响OLED产品的质量和制造成本。

现有技术中的掩模板，一般包括膜片和板框，膜片的边缘部焊接并贴附在板框上，一方面，由于膜片的边缘部与板框之间在贴合时，两者之间多或多少存在一定的间距，该间隙中可能存在气泡，因此导致膜片不能与板框完全贴合。另一方面，在使用后进行掩模板清洗时，膜片的边缘部与板框之间的间隙中可能存在积水等问题，导致膜片与板框也不能完全贴合。也就是说，上述两种情况均造成膜片与板框不能完全贴合，不能完全贴合则直接导致膜片的平整度降低，而膜片的平整度直接影响了蒸镀时的蒸镀质量。

实用新型内容

本实用新型的目的在于克服现有技术中的不足而提供一种掩模板的改良结构。

本实用新型解决现有技术问题所采用的技术方案是：一种掩模板的改良结构，包括：

板框，所述板框形成有镂空区及位于所述镂空区周围的框沿；

膜片，所述膜片具有相对的接触面和蒸镀面以及自所述蒸镀面贯穿至所述接触面的蒸镀孔，所述蒸镀孔位于所述镂空区上方，所述蒸镀孔的外围形成有边缘部；所述边缘部贴附于所述框沿上且所述蒸镀面朝下，所述边缘部上布设有自所述接触面贯穿至所述蒸镀面的透气孔。

优选地，所述透气孔为多个，多个所述透气孔阵列分布于所述边缘部上。

优选地，所述边缘部通过激光焊接于所述框沿，且于所述边缘部形成有连续的焊点，所述透气孔位于所述焊点的内侧。

优选地，所述边缘部上设有泄力孔，所述泄力孔为条形孔且与所述透气孔平行设置。

优选地，所述泄力孔位于所述透气孔内侧。

优选地，所述蒸镀孔以N列M行排布于所述膜片的中央，每行所述蒸镀孔的两侧分别设置至少一个所述泄力孔，每列所述蒸镀孔的两侧分别设有至少一个所述泄力孔。

优选地，所述蒸镀孔为自所述蒸镀面向所述接触面尺寸逐渐减小的渐缩孔。

优选地，所述蒸镀孔包括同轴设置的第一孔段及第二孔段，所述第一孔段邻近所述蒸镀面。

优选地，所述第二孔段的孔壁与竖直方向之间的夹角50±3度，所述膜片的厚度为18～190微米，所述第二孔段的垂直深度为8～20微米。

优选地，所述板框及膜片为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金材质中的任意一种。

根据本实用新型提供的掩模板的改良结构，通过在膜片的边缘部上设置透气孔，一方面，可以使得在使用过程中，膜片的边缘部与板框之间的气泡快速从透气孔排出，确保膜片的边缘部与板框之间无间隙贴合，保持膜片更加平整；另一方面，在使用后对掩模板清洗时，膜片的边缘部与板框之间的液体可以从透气孔排出，如此，也可以保持膜片与板框恢复至无间隙贴合状态，保持其平整度。

附图说明

图1是本实用新型一个实施例掩模板的改良结构的分解图；

图2是本实用新型一个实施例掩模板的改良结构的整体结构示意图；

图3是本实用新型另一个实施例掩模板的改良结构的分解图；

图4是本实用新型另一个实施例掩模板的改良结构的整体结构示意图；

图5是本实用新型一个实施例掩模板的改良结构中膜片的剖视图；

图6是图5中A处的局部放大图。

附图标记：

膜片10；

蒸镀孔101；

边缘部102；

透气孔1021；

焊点1022；

泄力孔1023；

接触面11；

蒸镀面12；

板框20；

镂空区201；

框沿202。

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语″中心″、″纵向″、″横向″、″长度″、″宽度″、″厚度″、″上″、″下″、″前″、″后″、″左″、″右″、″竖直″、″水平″、″顶″、″底″″内″、″外″、″顺时针″、″逆时针″等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语″第一″、″第二″仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有″第一″、″第二″的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，″多个″的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语″安装″、″相连″、″连接″、″固定″等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

参照图1至图2所示，本实用新型实施例提供了一种掩模板的改良结构，包括板框20及膜片10。

具体而言，板框20形成有镂空区201及位于所述镂空区201周围的框沿202。例如图1所示，板框20呈方形，方形板框20的中间为镂空区201，外围为框沿202。

膜片10具有相对的接触面11和蒸镀面12以及自所述蒸镀面12贯穿至所述接触面11的蒸镀孔101，如图1所示，膜片10呈与所述板框20相适配的方形，该膜片10的上表面为接触面11，用于在蒸镀时与玻璃基板的ITO层(氧化铟锡)接触，下表面为蒸镀面12，在蒸镀时与蒸发源相对。蒸镀孔101位于膜片10的中央，可以是通过激光工艺或蚀刻工艺等加工形成。

蒸镀孔101位于所述镂空区201上方，所述蒸镀孔101的外围形成有边缘部102。边缘部102贴附于所述框沿202上且所述蒸镀面12朝下，所述边缘部102上布设有自所述接触面11贯穿至所述蒸镀面12的透气孔1021。也就是说，膜片10上蒸镀孔101的外围为边缘部102，边缘部102的下表面(也即是蒸镀面12)是贴附在板框20的框沿202上的，而且该边缘部102上设置有透气孔1021。

根据本实用新型提供的掩模板的改良结构，通过在膜片10的边缘部102上设置透气孔1021，一方面，可以使得在使用过程中，膜片10的边缘部102与板框20之间的气泡快速从透气孔1021排出，确保膜片10的边缘部102与板框20之间无间隙贴合，保持膜片10更加平整；另一方面，在使用后对掩模板清洗时，膜片10的边缘部102与板框20之间的液体可以从透气孔1021排出，如此，也可以保持膜片10与板框20恢复至无间隙贴合状态，保持其平整度。

参照图1至图2所示，在本实用新型的优选实施例中，透气孔1021为多个，多个所述透气孔1021阵列分布于所述边缘部102上。也就是说，透气孔1021密集布置在边缘部102上，如此，膜片10的边缘部102与板框20之间的气泡、液体等可以更好地从透气孔1021中完全排除至外部，确保膜片10与板框20之间无间隙贴合，达到更高的平整度。

在本实用新型的一个具体实施例中，边缘部102通过激光焊接于所述框沿202，且于所述边缘部102形成有连续的焊点1022，所述透气孔1021位于所述焊点1022的内侧。也就是说，膜片10是通过激光焊接工艺焊接在板框20上的，而激光焊接工艺可以使得膜片10与板框20之间焊接更加牢固可靠，同时，焊点1022极小，不会影响膜片10的平整度。

参照图3至图4所示，在本实用新型的一个优选实施例中，边缘部102上设有泄力孔1023，所述泄力孔1023为条形孔且与所述透气孔1021平行设置。

由于在掩模板的加工制作过程中，需要利用张紧机对膜片10进行张平，再通过激光焊接工艺焊接在板框20上，因此，膜片10内部具有一定的张力，而张力的存在使膜片10上的蒸镀孔101变形，进而造成蒸镀孔101的尺寸存在一定的误差，最终影响蒸镀时的精度。由此，本实施例中，在边缘部102上设置泄力孔1023，则可以消除或部分消除膜片10内的张力，从而减小内部张力对蒸镀孔101造成的影响，提高蒸镀孔101的精度。

更为有利的，在本实用新型的一个示例中，泄力孔1023位于所述透气孔1021内侧。由于透气孔1021为微孔，其尺寸较小，而泄力孔1023为条形孔，因此，将泄力孔1023设置在透气孔1021内侧，靠近蒸镀孔101可以起到更好的泄力作用。同时，也使得膜片10的边缘部102上焊点1022、透气孔1021、泄力孔1023布置更加紧凑合理。

更为具体的，在本实用新型的一个具体实施例中，蒸镀孔101以N列M行排布于所述膜片10的中央，每行所述蒸镀孔101的两侧分别设置至少一个所述泄力孔1023，每列所述蒸镀孔101的两侧分别设有至少一个所述泄力孔1023。

也就是说，本实施例中，泄力孔1023设置为多个，且布置在蒸镀孔101的周围，如此，可以使得膜片10内的张力均匀分散，在确保消除部分张力的同时，还可以确保膜片10保持良好的平整度。

参照图5至图6所示，进一步的，在本实用新型的一个实施例中，蒸镀孔101为自所述蒸镀面12向所述接触面11尺寸逐渐减小的渐缩孔。也就是说，蒸镀孔101内越靠近接触面11，其内径更小。

采用上述结构，在利用该掩模板进行蒸镀时，其膜片10的接触面11朝上，与玻璃基板贴合，而蒸镀面12朝下与蒸发源相对，蒸发源蒸发出的有机发光材料颗粒进入蒸镀孔101，由于蒸镀孔101为自所述蒸镀面12至所述接触面11其尺寸逐渐减小的渐缩孔，所以，能够使得有机发光材料颗粒均匀聚集在接触面11上，并沾附于玻璃基板的ITO(氧化铟锡)层上，形成蒸镀膜。

换言之，本实施例的蒸镀孔101设计成渐缩孔结构，可以使得蒸镀孔101以更宽的角度接收有机发光材料颗粒，没有蒸镀死角，形成的蒸镀膜的厚薄更加均匀，形状更加符合要求。

更进一步的，在本实用新型的一个实施例中，蒸镀孔101包括同轴设置的第一孔段及第二孔段，所述第一孔段邻近所述蒸镀面12。

本实施例中，形成的第一孔段的目的在于在蒸镀面12上形成更大敞口作为蒸镀孔101接受有机发光材料接受端，以便于接受更多的有机发光材料，更多有机发光材料在通过第二孔段进入与接触面11贴合的玻璃基板上，实现与玻璃基板上的ITO层沾附形成蒸镀膜，进一步提高形成的蒸镀膜均匀度及满足厚度要求。

在本实用新型的一个实施例中，第二孔段的孔壁与竖直方向之间的夹角50±3度，所述膜片10的厚度为18～190微米，所述第二孔段的垂直深度为8～20微米。

采用上述结构的膜片10，可以使蒸镀孔101的尺寸与所需尺寸基本一致，不会因受到膜片10的张力而发生变化，特别是当膜片10为大尺寸时，蒸镀孔101的精度保持效果更加显著，从而可以生产出高质量的OLED显示屏。

可以理解的是，板框20及膜片10为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金材质中的任意一种。

综上所述，根据本实用新型提供的掩模板的改良结构，通过在膜片10的边缘部102上设置透气孔1021，一方面，可以使得在使用过程中，膜片10的边缘部102与板框20之间的气泡快速从透气孔1021排出，确保膜片10的边缘部102与板框20之间无间隙贴合，保持膜片10更加平整；另一方面，在使用后对掩模板清洗时，膜片10的边缘部102与板框20之间的液体可以从透气孔1021排出，如此，也可以保持膜片10与板框20恢复至无间隙贴合状态，保持其平整度。

在本说明书的描述中，参考术语″一个实施例″、″一些实施例″、″示例″、″具体示例″、或″一些示例″等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下在本实用新型的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (10)

1.一种掩模板的改良结构，其特征在于，包括：

板框，所述板框形成有镂空区及位于所述镂空区周围的框沿；

膜片，所述膜片具有相对的接触面和蒸镀面以及自所述蒸镀面贯穿至所述接触面的蒸镀孔，所述蒸镀孔位于所述镂空区上方，所述蒸镀孔的外围形成有边缘部；所述边缘部贴附于所述框沿上且所述蒸镀面朝下，所述边缘部上布设有自所述接触面贯穿至所述蒸镀面的透气孔。

2.根据权利要求1所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述透气孔为多个，多个所述透气孔阵列分布于所述边缘部上。

3.根据权利要求1或2所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述边缘部通过激光焊接于所述框沿，且于所述边缘部形成有连续的焊点，所述透气孔位于所述焊点的内侧。

4.根据权利要求1所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述边缘部上设有泄力孔，所述泄力孔为条形孔且与所述透气孔平行设置。

5.根据权利要求4所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述泄力孔位于所述透气孔内侧。

6.根据权利要求4所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述蒸镀孔以N列M行排布于所述膜片的中央，每行所述蒸镀孔的两侧分别设置至少一个所述泄力孔，每列所述蒸镀孔的两侧分别设有至少一个所述泄力孔。

7.根据权利要求1所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述蒸镀孔为自所述蒸镀面向所述接触面尺寸逐渐减小的渐缩孔。

8.根据权利要求7所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述蒸镀孔包括同轴设置的第一孔段及第二孔段，所述第一孔段邻近所述蒸镀面。

9.根据权利要求8所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述第二孔段的孔壁与竖直方向之间的夹角50±3度，所述膜片的厚度为18～190微米，所述第二孔段的垂直深度为8～20微米。

10.根据权利要求8所述的掩模板的改良结构，其特征在于，所述板框及膜片为镍钴合金、镍铁合金、铟瓦合金材质中的任意一种。