CN205159370U - 柔性基板、oled显示结构和电子设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种柔性基板，包括第一基板、有机薄膜和阻隔层，其中：有机薄膜形成于第一基板上；阻隔层形成于有机薄膜上；且有机薄膜与阻隔层接触的一侧设置有多个凹坑。上述柔性基板能够增加有机薄膜和阻隔层之间的接触面积，从而缓解层应力，减少变温环境及有机薄膜的致密性变动，从而增强阻隔层阻隔水氧的能力。本实用新型还提出一种具有上述柔性基板的OLED显示结构，以及具有上述OLED显示结构的电子设备。

Description

柔性基板、OLED显示结构和电子设备

技术领域

本实用新型涉及柔性显示技术领域，尤其涉及一种柔性基板、OLED显示结构和电子设备。

背景技术

现今电子产业高速发展，电子设备的普及率也越来越高。例如，个人电脑、手机、服务器、GPS导航装置等已成为人们日常生活的必需用品。AMOLED(Active-matrixorganiclight-emittingdiode，有源矩阵有机发光二极体)作为一种新型封装结构，具有高色度、高对比度、宽视角、高亮度、自发光、响应速度快、可实现柔性显示等特点，已经被广泛应用在移动电话和媒体播放器上。AMOLED显示装置对水氧阻隔的要求较高，且聚酰亚胺薄膜吸水会膨胀，导致阻隔层与聚酰亚胺薄膜脱离。业界采用多层阻隔层和聚酰亚胺薄膜的结构，增强阻隔层的水氧阻隔能力，提高AMOLED显示装置寿命，但对水氧的阻隔效果并不理想，其制作工艺较为复杂。

实用新型内容

基于此，有必要提供一种对水氧的阻隔效果较佳的柔性基板。

一种柔性基板，包括第一基板、有机薄膜和阻隔层，其中：

所述有机薄膜形成于所述第一基板上；

所述阻隔层形成于所述有机薄膜上；且

所述有机薄膜与所述阻隔层接触的一侧设置有多个凹坑。

在其中一个实施例中，所述第一基板为玻璃基板。

在其中一个实施例中，所述有机薄膜为聚酰亚胺薄膜。

在其中一个实施例中，所述凹坑的形状为矩形。

在其中一个实施例中，多个所述凹坑形成预设的图像形状。

本实用新型还提出一种OLED显示结构，包括：

上述任意一种所述的柔性基板；

OLED器件，形成于所述柔性基板上；

封装层，设置于所述OLED器件的外围，包围所述OLED器件。

在其中一个实施例中，所述OLED器件包括阳极、有机发光层和阴极；

所述阳极形成于所述柔性基板上；

所述有机发光层形成于所述阳极与所述阴极之间。

在其中一个实施例中，所述OLED器件还包括TFT层；所述TFT层形成于所述柔性基板和所述阳极之间。

在其中一个实施例中，所述OLED器件还包括空穴层和电子层；

所述空穴层形成于所述阳极上，位于所述阳极和所述发光层之间；

所述电子层形成于所述发光层上，位于所述发光层和所述阴极之间。

本实用新型还提出一种电子设备，包括上述任意一种OLED显示结构。

上述柔性基板包括第一基板、有机薄膜和阻隔层。其中，有机薄膜形成于第一基板之上。阻隔层形成于有机薄膜之上。且有机薄膜与阻隔层接触的一侧设置有多个凹坑，能够增加有机薄膜和阻隔层之间的接触面积，从而缓解层应力，减少变温环境及有机薄膜的致密性变动，最终达到增强阻隔层阻隔水氧能力的技术效果。

附图说明

图1为本实用新型柔性基板一个实施例的结构示意图；

图2为本实用新型柔性基板一个实施例中的在第一基板上制作有机薄膜后的结构示意图；

图3为本实用新型柔性基板一个实施例中对有机薄膜进行图像化制作的示意图；

图4为本实用新型柔性基板一个实施例中的图像化制作完成后的结构示意图；

图5为本实用新型OLED显示结构一个实施例的结构示意图。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图对本实用新型柔性基板、OLED显示结构和电子设备的具体实施方式进行说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

参见图1和图4，一个实施例中，柔性基板110包括第一基板111、有机薄膜112和阻隔层113。其中，有机薄膜112形成于第一基板111之上。阻隔层113形成于有机薄膜112之上。且有机薄膜112与阻隔层113接触的一侧设置有多个凹坑1121。即有机薄膜112与阻隔层113接触的侧面较为粗糙，能够增加有机薄膜112和阻隔层113之间的接触面积，从而缓解层应力，减少变温环境及有机薄膜112的致密性变动，最终达到增强阻隔层113阻水能力的技术效果。

优选的，第一基板111可以为玻璃基板。玻璃基板具有成本较低而且性价比较高等优点。当然，第一基板111还可以为其他材质的基板。另外，有机薄膜112可以为聚酰亚胺薄膜。聚亚酰胺薄膜是综合性能最佳的有机薄膜之一，具有耐高温、使用温度范围较宽和绝缘性能较强等优点。当然，有机薄膜112还可以为其他材质的有机薄膜。其中，玻璃基板和聚酰亚胺薄膜均为本领域人员所熟知，故在此不再过多描述。

一个实施例中，凹坑1121的形状可以为矩形，与采用该柔性基板110的发光器件的发光像素的形状对应。多个凹坑1121的形状排布为预设的图像形状。具体的，多个凹坑1121的形状排布与采用该柔性基板110的发光器件的各个发光像素的形状排布相匹配。这样，有机薄膜112能够使采用该柔性基板110的发光器件的发光位置厚度降低，从而增加透过率。当然，在其他实施例中，凹坑1121还可以为其他形状。例如圆形、正多边形等形状。

参见图1至图4，以下对该柔性基板110的制作工艺进行说明。

首先，形成第一基板111。本实施例中，第一基板111为玻璃基板。

然后，参见图2，在第一基板111上制作有机薄膜112。本实施例中，有机薄膜112采用聚酰亚胺薄膜。在玻璃基板上制作聚酰亚胺薄膜可以采用现有技术来完成，为本领域技术人员所熟知，故在此不再做说明。

接着，可以通过压印图形化工艺、喷砂图形化工艺或激光图像化工艺等方式，在有机薄膜112上制作出具有预设的图像形状的多个凹坑1121。其中，压印图形化工艺和喷砂图形化工艺的精度较高，激光图像化工艺的精度较低。用户可以根据实际需要及加工条件，选择其中一种工艺对有机薄膜112进行加工。图3中，通过压印图形化工艺的方式对有机薄膜112进行加工。可以采用模具200对有机薄膜112进行加工。加工完成后，有机薄膜112的结构如图4所示。

最后，制作阻隔层113。阻隔层113形成于有机薄膜112上，且阻隔层113与有机薄膜112接触的侧面与凹坑1121相匹配，以增加阻隔层113和有机薄膜112之间的接触面接，缓解层应力，增强阻隔层113的阻水能力。

上述柔性基板110，包括第一基板111、有机薄膜112和阻隔层113。有机薄膜112形成于第一基板111之上。阻隔层113形成于有机薄膜112之上。且有机薄膜112与阻隔层113接触的一侧设置有多个凹坑1121。其能够增加有机薄膜112和阻隔层113之间的接触面积，从而缓解层应力，减少变温环境及有机薄膜112的致密性变动，最终达到增强阻隔层113阻水能力的技术效果。鉴于上述优点，其使用寿命会比较长。

参见图5，一个实施例中，OLED(organiclight-emittingdiode，有机发光二极体)显示结构100包括上述任意一种柔性基板110、OLED器件120和封装层130。其中，OLED器件120形成于柔性基板110上。封装层130设置在OLED器件120的外围，并包围OLED器件120。

参见图5，作为一种可实施方式，OLED器件120具体可以为包括阳极层121、有机层122和阴极层123。其中，阳极层121形成于柔性基板110上。有机发光层122形成于阳极层121和阴极层123之间。

优选的，OLED器件120还可以包括TFT(ThinFilmTransistor，薄膜晶体管)层124。TFT层124形成于柔性基板110的表面上，且位于柔性基板110和阳极层121之间。此时，阳极层121形成于TFT层124上。也就是说，一个实施例中，该OLED显示结构100可以为AMOLED显示结构。

进一步地，OLED器件120还可以包括空穴层125和电子层126。具体的，空穴层125形成于阳极层121上，且位于阳极层121和有机发光层122之间。电子层126形成于有机发光层122上，且位于有机发光层122和阴极层123之间。

上述OLED显示结构100，包括柔性基板110、OLED器件120和封装层130。由于其包括柔性基板110，因此该OLED显示结构100的基板具有较好的水氧阻隔能力，制作流程简单，且使用寿命较长。

另外，一个实施例中，还提出一种电子设备，包括上述任意一种OLED显示结构100，且具有OLED显示结构100所具有的优点。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种柔性基板，其特征在于，包括第一基板、有机薄膜和阻隔层，其中：

所述有机薄膜形成于所述第一基板上；

所述阻隔层形成于所述有机薄膜上；且

所述有机薄膜与所述阻隔层接触的一侧设置有多个凹坑。

2.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述第一基板为玻璃基板。

3.根据权利要求1所述的柔性基板，其特征在于，所述有机薄膜为聚酰亚胺薄膜。

4.根据权利要求3所述的柔性基板，其特征在于，所述凹坑的形状为矩形。

5.根据权利要求4所述的柔性基板，其特征在于，多个所述凹坑形成预设的图像形状。

6.一种OLED显示结构，其特征在于，包括：

权利要求1至5任意一项所述的柔性基板；

OLED器件，形成于所述柔性基板上；

封装层，设置于所述OLED器件的外围，包围所述OLED器件。

7.根据权利要求6所述的OLED显示结构，其特征在于，所述OLED器件包括阳极层、有机发光层和阴极层；

所述阳极层形成于所述柔性基板上；

所述有机发光层形成于所述阳极层与所述阴极层之间。

8.根据权利要求7所述的OLED显示结构，其特征在于，所述OLED器件还包括TFT层；所述TFT层形成于所述柔性基板和所述阳极层之间。

9.根据权利要求8所述的OLED显示结构，其特征在于，所述OLED器件还包括空穴层和电子层；

所述空穴层形成于所述阳极层上，位于所述阳极层和所述有机发光层之间；

所述电子层形成于所述有机发光层上，位于所述有机发光层和所述阴极层之间。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求6至9任意一项所述的OLED显示结构。