CN204991662U - 流体工艺处理装置 - Google Patents

Abstract

一种流体工艺处理装置包括一基座、一旋转马达、一基板固定单元、一收集单元以及一液体供给单元。收集单元包含一收集环模块、一升降模块与一底部收集盘，其中收集环模块包含多个收集环依序径向设置，升降模块包含多个升降装置分别连接多个收集环，以独立地升降多个收集环，且底部收集盘设置于收集环模块下方，并具有多个排液口与至少一抽气口。上述流体工艺处理装置可简化机构的设计，且可防止不同流体间的互相污染。

Description

流体工艺处理装置

技术领域

本实用新型是有关一种流体工艺处理装置，特别是一种防止不同流体间互相污染的流体工艺处理装置。

背景技术

在半导体晶圆、太阳能基板、显示器玻璃基板、LED基板等基板的制造过程中，需要经过一基板处理系统，以对基板的表面供给处理液(例如化学品或去离子水等)进行蚀刻、清洗等处理程序，而在该基板处理系统中，则必须借由一液体处理装置来针对使用过的处理液进行收集、排液、回收等后续处理。

已知基板处理系统大致包含一基板固定单元、一旋转单元、一液体供给单元及一收集单元，该基板固定单元设置于该旋转单元上，该旋转单元可带动该基板固定单元旋转，该基板固定单元用于承载并利用一固定装置固定一基板，该液体供给单元设置于该基板固定单元上，用于对承载于该基板固定单元的基板供给处理液(例如HCl，H3NO4)，而该收集单元围绕设置于该旋转单元与该基板固定单元的外侧。

其中，该收集单元包含多个收集环，该多个收集环必须利用外部升降机构驱动以相对进行升降作动，以在进行不同液体收集时，可事先升降特定收集环，使液体顺着各该收集环的引导由各该收集环下方的排液管排出。但该外部升降机构必须额外借由皮带、螺杆、马达等装置带动各该收集环，导致结构复杂且成本高。此外，各个收集环之间亦可互相污染的可能。

有鉴于此，提出一种防止不同流体间互相污染的流体工艺处理装置便是目前极需努力的目标。

实用新型内容

本实用新型提供一种流体工艺处理装置，其多个收集环可独立地升降，以简化机构的设计。较佳者，非工作中的收集环可关闭以防止不同流体间的互相污染。

本实用新型一实施例的流体工艺处理装置，是应用于一基板的处理工艺中，该流体工艺处理装置包括一基座、一旋转马达、一基板固定单元、一收集单元以及一液体供给单元。该旋转马达是设置于该基座。该基板固定单元是设置于该旋转马达上，该基板固定单元包含一载台与一固定装置，该载台用于承载该基板并利用该固定装置固定该基板；该收集单元是设置于该基座并围绕该基板固定单元。该收集单元包含一收集环模块、一升降模块与一底部收集盘，该收集环模块包含多个收集环依序径向设置，而该升降模块包含多个升降装置分别连接该多个收集环，以独立地升降该多个收集环至一上升位置或一下降位置，该底部收集盘设置于该收集环模块下方，并该底部收集盘的底部包含多个排液口与至少一抽气口。该液体供给单元是设置于该基座，用以供应处理液至该基板上。

在本实用新型一或多个实施方式中，该收集环模块包含一第一收集环、一第二收集环、一第三收集环以及一外侧挡板，且该第一收集环、该第二收集环、该第三收集环以及该外侧挡板依序径向朝外排列设置，其中，该第一收集环、该第二收集环以及该第三收集环分别具有向上延伸的一第一挡板、一第二挡板以及一第三挡板，且处于该上升位置的该第一挡板、该第二挡板、该第三挡板以及该外侧挡板之前端抵靠在一起，以及处于该下降位置的该第一挡板、该第二挡板以及该第三挡板之前端抵靠在一起。

在本实用新型一或多个实施方式中，该第一挡板、该第二挡板、该第三挡板以及该外侧挡板相对于该基板所在的一平面的夹角小于90度。

在本实用新型一或多个实施方式中，该第一收集环包含一第一环状集液槽以及一第二环状集液槽，且该第一环状集液槽以及该第二环状集液槽分别设置于该第一挡板之内侧以及外侧。

在本实用新型一或多个实施方式中，该第一收集环还包含一伸缩排液管，该伸缩排液管连通该第一环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

在本实用新型一或多个实施方式中，该收集单元还包含一阻隔模块，该阻隔模块设置于该收集单元的中央并包含一上盖与一侧环，其中该上盖设置于该基板固定单元的该载台下方，且具有一第一突出部，其该延伸至该第一环状集液槽上方，且该第一突出部与处于上升位置的该第一环状集液槽的一槽壁于径向方向上部分重叠，且该侧环围绕该基板固定单元并设置于该底部收集盘上方。

在本实用新型一或多个实施方式中，该第二收集环包含一第三环状集液槽以及一第二突出部，其中，该第三环状集液槽设置于该第二挡板之外侧，该第二收集环的该第二突出部沿该第二挡板的一内侧表面向下延伸至该第二环状集液槽内，该第二收集环的该第二突出部与该第二环状集液槽的该槽壁于径向方向上部分重叠。

在本实用新型一或多个实施方式中，该第三收集环包含分别沿该第三挡板的一内侧表面以及一外侧表面向下延伸的一第三突出部以及一第四突出部，其中该第三收集环的该第三突出部延伸至该第三环状集液槽内，且该第三收集环的该第三突出部以及该第四突出部与该第三环状集液槽的一槽壁于径向方向上部分重叠。

在本实用新型一或多个实施方式中，该升降模块包含一第一排液气压缸以及一第一升降气压缸，其连接至该第三收集环，其中该第一排液气压缸设置于该第一收集环的该第二环状集液槽的底部，且该第一排液气压缸包含一第一气压缸体以及一第一中空轴杆，该第一中空轴杆设置于该第一气压缸体内，该第一中空轴杆连通该第二环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

在本实用新型一或多个实施方式中，该升降模块还包含一第二升降气压缸，其连接至该外侧挡板。

在本实用新型一或多个实施方式中，该升降模块包含一第二排液气压缸，其设置于该第二收集环的该第三环状集液槽的底部，且该第二排液气压缸包含一第二气压缸体与一第二中空轴杆，该第二中空轴杆设置于该第二气压缸体内，该第二中空轴杆连通该第三环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

在本实用新型一或多个实施方式中，该外侧挡板的一内侧表面延伸至该底部收集盘。

在本实用新型一或多个实施方式中，该流体工艺处理装置还包含一气箱，其连接至该底部收集盘的该抽气口。

在本实用新型一或多个实施方式中，该底部收集盘的气体通道大于通过该收集环模块的气体信道。

在本实用新型一或多个实施方式中，该固定装置为一真空装置，且该基板固定单元还包含一弹性胶卷，该弹性胶卷围绕设置于该载台的顶面周缘，以在该真空装置运作时该弹性胶卷吸附于该基板的底部。

本实用新型上述实施方式与已知背景技术相较，可防止不同流体间的互相污染。

附图说明

以下借由具体实施例配合所附的图式详加说明，更容易了解本实用新型的目的、技术内容、特点及其所达成的功效。

图1是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置的收集单元内部结构的概略剖面示意图一。

图2是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置的收集单元内部结构的概略剖面示意图二。

图3是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置中施加处理液至基板时收集单元内部运作状态的概略剖面示意图。

图4是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置中施加处理液至基板时收集单元内部运作状态的概略剖面示意图。

图5是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置中施加处理液至基板时收集单元内部运作状态的概略剖面示意图。

图6是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置中施加处理液至基板时收集单元内部运作状态的概略剖面示意图。

符号说明

10基座

20旋转马达

30基板固定单元

31载台

32固定装置

33弹性胶卷

40收集单元

41收集环模块

411第一收集环

411a第一环状集液槽

411b第二环状集液槽

411c伸缩排液管

411d第一挡板

412第二收集环

412a第三环状集液槽

412b第二挡板

412c第二突出部

413第三收集环

413a第三挡板

413b第三突出部

413c第四突出部414外侧挡板

42升降模块

421第一排液气压缸

4211第一气压缸体

4212第一中空轴杆

422第二排液气压缸

4221第二气压缸体

4222第二中空轴杆

423第一升降气压缸

424第二升降气压缸

43底部收集盘

431排液口

432抽气口

44阻隔模块

441上盖

441a第一突出部

442侧环

50液体供给单元

70气箱

71抽气管

72废液收集口

A、B、C、D处理液

G气体

T1第一开口

T2第二开口

T3第三开口

T4第四开口

W基板

Z轴

具体实施方式

以下将详述本实用新型的各实施例，并配合图式作为例示。除了该多个详细说明之外，本实用新型亦可广泛地施行于其它的实施例中，任何所述实施例的轻易替代、修改、等效变化都包含在本实用新型的范围内，并以申请专利范围为准。在说明书的描述中，为了使读者对本实用新型有较完整的了解，提供了许多特定细节；然而，本实用新型可能在省略部分或全部特定细节的前提下，仍可实施。此外，众所周知的步骤或组件并未描述于细节中，以避免对本实用新型形成不必要的限制。图式中相同或类似的组件将以相同或类似符号来表示。特别注意的是，图式仅为示意之用，并非代表组件实际的尺寸或数量，有些细节可能未完全绘出，以求图式的简洁。

请参照图1至图2，图1为本实用新型第一具体实施例的流体工艺处理装置的收集单元内部结构的概略剖面示意图一，图2是为本实用新型第一具体实施例的流体工艺处理装置的收集单元内部结构的概略剖面示意图二。如图所示，本实用新型的流体工艺处理装置，是应用于一基板W的处理工艺中，该流体工艺处理装置包括一基座10、一旋转马达20、一基板固定单元30、一收集单元40以及一液体供给单元50。值得注意的是，本实施例中该流体工艺处理装置的该收集单元40之外观大体上呈圆筒状，且其内部的该旋转马达20驱动该基板固定单元30以一轴Z为中心旋转，而于说明该收集单元40内部的各概略剖面图式中，该轴Z的左右侧是为由该收集单元40的中心线朝不同方向的径向剖面示意图，并将该收集单元40的特征结构移至同一平面以清楚地显示于该多个剖面示意图中，进而借由此形式的剖面示意图来说明本实用新型的技术内容。

该旋转马达20是设置于该基座10。

该基板固定单元30是设置于该旋转马达20上，该基板固定单元30包含一载台31与一固定装置32，该载台31用于承载该基板W并利用该固定装置32固定该基板W。举例而言，该固定装置32可为一真空装置，固定装置32即可利用该真空装置吸附固定该基板W，亦即借由该真空装置于该基板W的背面形成负压而吸住该基板W。

该收集单元40是设置于该基座10并围绕该基板固定单元30，且该收集单元40包含一收集环模块41、一升降模块42与一底部收集盘43。该收集环模块41包含多个收集环依序径向设置，以在相邻的各该收集环之间形成一环状气体信道，而该升降模块42包含多个升降装置分别连接该多个收集环，以分别独立控制该多个收集环升降至一上升位置或一下降位置，该底部收集盘43设置于该收集环模块41下方，并该底部收集盘43的底部包含多排液口431与至少一抽气口432。

该液体供给单元50可施加不同处理液至该基板W。该液体供给单元50能够以已知的方式实现，故省略该液体供给单元50的详细说明。可以理解的是，该液体供给单元50可包含多个管路，以分别施加不同的处理液并分开清洗，如此可避免工艺中交叉污染。

本实用新型的流体工艺处理装置，可将一外部抽气装置(未图标)连接该收集单元40的该底部收集盘43的该抽气口432，以使该外部抽气装置透过位于该底部收集盘43底部的该抽气口432向下抽气，而由于该收集环模块41的该多个收集环之间所形成的环状气体通道截面积小，使得位于该基板W周围的气体会经由整个环状气体通道流动至该底部收集盘43，亦即该基板W周围的气体流场将沿着该多个收集环之间所形成的环状气体通道朝向该抽气口432的方向均匀发展，而达到均匀抽气的功效。

具体而言，在本实施例中，该收集环模块41包含一第一收集环411、一第二收集环412及一第三收集环413，该第一收集环411、该第二收集环412及该第三收集环413依序径向朝外排列设置。该第一收集环411、该第二收集环412以及该第三收集环413分别具有向上延伸的一第一挡板411d、一第二挡板412b以及一第三挡板413a。该第一挡板411d、该第二挡板412b以及该第三挡板413a相对于该基板W所在的平面的夹角小于90度，以降低处理液的喷溅。在一实施例中，该夹角小于60度、45度或30度。该第一收集环411包含一第一环状集液槽411a与一第二环状集液槽411b，其中该第一环状集液槽411a与该第二环状集液槽411b分别设置于该第一挡板411d的内侧与外侧。该第二收集环412包含一第三环状集液槽412a以及一第二突出部412c其中该第三环状集液槽412a设置于该第二挡板412b的外侧，而沿该第二收集环412的内侧表面底端的第二突出部412c延伸至该第二环状集液槽411b内，且该第二突出部412c与该第二环状集液槽411b的槽壁于径向方向上部分重叠。该第三收集环413包含分别沿该第三挡板413a之内侧表面以及外侧表面向下延伸的一第三突出部413b以及一第四突出部413c，其中该第三突出部413b延伸至该第三环状集液槽412a内，而该第四突出部413c则在该第三环状集液槽412a外侧，且该第三突出部413b以及该第四突出部413c与该第三环状集液槽412a的槽壁于径向方向上部分重叠。

可以理解的是，该收集环模块41可依不同的需求而修改设计。上述实施例是以该收集环模块41包含第一收集环411、第二收集环412及第三收集环413为例作说明，但不限于此。举例而言，省略第二收集环412，该收集环模块41仅包含第一收集环411及第三收集环413亦可实现本实用新型，其中第三收集环413的该第三突出部413b延伸至该第二环状集液槽411b内，而该第四突出部413c则在该第二环状集液槽411b外侧。同理，第一收集环411及第三收集环413之间亦可设置多个第二收集环412。

再者，本实施例中，该升降模块42包含一第一排液气压缸421、一第二排液气压缸422及一第一升降气压缸423。该第一排液气压缸421设置于该第一收集环411的该第二环状集液槽411b的底部，且该第一排液气压缸421包含一第一气压缸体4211与一第一中空轴杆4212，该第一中空轴杆4212设置于该第一气压缸体4211内，而该第一中空轴杆4212连通该第二环状集液槽411b至该底部收集盘43的其中之一排液口431，从而，该第一排液气压缸421的该第一气压缸体4211可控制该第一收集环411的升降，而进入该第二环状集液槽411b的处理液可由该第一中空轴杆4212集中至对应的排液口431，以回收进入该第一收集环411与该第二收集环412之间的该处理液。另外，该第二排液气压缸422是设置于该第二收集环412的该第三环状集液槽412a的底部，且该第二排液气压缸422包含一第二气压缸体4221与一第二中空轴杆4222，该第二中空轴杆4222设置于该第二气压缸体4221内，而该第二中空轴杆4222连通该第三环状集液槽412a至该底部收集盘43的其中之一排液口431，从而，该第二排液气压缸422的该第二气压缸体4221可控制该第二收集环412的升降，而进入该第三环状集液槽412a的处理液可由该第二中空轴杆4222集中至对应的排液口431，以回收进入该第二收集环412与该第三收集环413之间的该处理液。该第一升降气压缸423是连接至该第三收集环413，以控制该第三收集环413的升降。

在本实施例中，该收集环模块41的该多个收集环可还包含一外侧挡板414，该外侧挡板414设置于该第三收集环413的外侧，且该升降模块42还包含一第二升降气压缸424，该第二升降气压缸424连接至该外侧挡板414，以控制该外侧挡板414的升降。

其中，该收集环模块41、该第一环状集液槽411a、该第二环状集液槽411b及该第三环状集液槽412a皆呈环状，而于该流体工艺处理装置的剖面示意图中，该轴Z的左右侧的该第一环状集液槽411a是相互连通，该轴Z的左右侧的该第二环状集液槽411b是相互连通，该轴Z的左右侧的该第三环状集液槽412a亦相互连通。

借此，该第一收集环411、该第二收集环412及该第三收集环413可分别直接由设置于其下方的该第一排液气压缸421、该第二排液气压缸422及该第一升降气压缸423的带动进行升降，而无须透过复杂的外部升降机构带动。此外，该第一排液气压缸421与该第二排液气压缸422可同时作为排液管，以分别将进入该第二环状集液槽411b及该第三环状集液槽412a的处理液引导至对应的排液口431回收，如此即可分开收集不同的处理液。

在本实施例中，该第一收集环411还包含一伸缩排液管411c，该伸缩排液管411c连通该第一环状集液槽411a至该底部收集盘43的其中一排液口431，该伸缩排液管411c可在该第一排液气压缸421带动该第一收集环411上升时伸长，而在该第一排液气压缸421带动该第一收集环411下降时缩短，以维持连通该第一环状集液槽411a至该底部收集盘43的对应排液口431，使进入该第一环状集液槽411a的处理液可由该伸缩排液管411c集中至对应的排液口431并回收。

其中，该流体工艺处理装置还包含一气箱70，该气箱70是连接至该底部收集盘43底部的该抽气口432，该气箱70连接于该外部抽气装置与该抽气口432之间，使气体于该流体工艺处理装置均匀下降至该底部收集盘43并经由该抽气口432、该气箱70排出。在本实施例中，该气箱70设置于该基座10下方，该气箱70内设置有一抽气管71与一废液收集口72，该废液收集口72设置于该气箱70的底部用于排出废液至一废液收集槽(图未示)，而该抽气管71设置于该废液收集口72上方并连通至该外部抽气装置以供抽出气体。

又，该收集单元40还包含一阻隔模块44，该阻隔模块44设置于该收集单元40的中央并包含一上盖441与一侧环442，该上盖441设置于该基板固定单元30的该载台31下方，且具有一第一突出部441a，其该延伸至该第一环状集液槽411a上方，且该第一突出部441a与处于上升位置的该第一环状集液槽411a的一槽壁于径向方向上部分重叠。该侧环442围绕该基板固定单元30并设置于该底部收集盘43上方。于该基板W进行慢速旋转时，由于离心力不足会使得部分处理液流入该第一收集环411与该基板固定单元30之间，该阻隔模块44用于将进入该第一收集环411与该基板固定单元30之间的该处理液引导至该底部收集盘43，而由该抽气口432将该处理液进一步排至该废液收集口72，进而集中至该废液收集槽。

此外，在本实施例中，该基板固定单元30还包含一弹性胶卷33，该弹性胶卷33围绕设置于该载台31的顶面周缘，当该真空装置运作时，将于该基板W的底部与该弹性胶卷33内侧产生负压，驱使该弹性胶卷33的顶部吸附于该基板W的底部，从而，施加至该基板W表面的处理液离开该基板W后，该弹性胶卷33都能防止该处理液经由该基板W的底部被吸入至该真空装置中而破坏该真空装置。

请参照图3至图6，是本实用新型一具体实施例的流体工艺处理装置使用状态的剖面示意图。如图所示，于该流体工艺处理装置开始进行处理程序前，先将该基板W放置于该基板固定单元30的载台31上，并该基板W与该基板固定单元30借由该旋转马达20的带动而以该轴Z为中心轴旋转。

如图3所示，进行该基板W的处理程序时，若设定由该液体供给单元50施加处理液A至该基板W，则可由一控制模块(未图标)控制该收集单元40的该升降模块42的该第一排液气压缸421升起该第一收集环411，控制该第二排液气压缸(未图示)升起该第二收集环412，控制该第一升降气压缸423升起该第三收集环413，且控制该第二升降气压缸424升起该外侧挡板414，此时，该第一收集环411的第一挡板411d、该第二收集环412的第二挡板412b、该第三收集环413的第三挡板413a及该外侧挡板414的前端依序抵靠在一起而相互密合，并在该第一收集环411与该基板W之间形成一第一开口T1，且该第一开口T1对应于该基板W的周缘。接着，施加至该基板W表面的该处理液A会因为离心力的作用朝该基板W的周缘甩出，自该基板W离开的该处理液A与该气体G将由该第一开口T1进入该第一环状集液槽411a内，该处理液A顺着该第一环状集液槽411a流至该伸缩排液管411c排至该底部收集盘43上的对应排液口431。呈雾状的处理液A则会随着该气体G进入该第一环状集液槽411a，且雾状的处理液A将流动于该第一环状集液槽411a内并凝结于该第一环状集液槽411a的壁面，再顺着该第一环状集液槽411a的壁面向下集中流至该伸缩排液管411c中，而该气体G则沿着该第一收集环411流动，并由该第一收集环411与该阻隔模块44之间的间隙均匀地朝该底部收集盘43向下流动，进而再集中由该底部收集盘43的抽气口432排出，达到分离该处理液A与该气体G的功效。在一实施例中，该底部收集盘43为一较大空间，换言之，该底部收集盘43的气体流道远大于通过该收集环模块41的气体流道，因此，气体G在该底部收集盘43的流速较慢，导致未在该第一环状集液槽411a凝结的雾状处理液A在该底部收集盘43与气体G进一步分离。

如图4所示，进行该基板W的处理程序时，若设定由该液体供给单元50施加处理液B至该基板W，则可由该控制模块控制该收集单元40的该升降模块42的该第一排液气压缸421降下该第一收集环411，控制该第二排液气压缸(未图示)升起该第二收集环412，控制该第一升降气压缸423升起该第三收集环413，且控制该第二升降气压缸424升起该外侧挡板414，此时，该第二收集环412的该第二挡板412b、该第三收集环413的该第三挡板413a及该外侧挡板414的前端依序抵靠在一起而相互密合，并在该第一收集环411与该第二收集环412之间形成一第二开口T2，且该第二开口T2对应于该基板W的周缘。接着，施加至该基板W表面的该处理液B会因为离心力的作用朝该基板W的周缘甩出，自该基板W离开的该处理液B与该气体G将由该第二开口T2进入该第二环状集液槽411b内，该处理液B顺着该第二环状集液槽411b流至该第一排液气压缸421的该第一中空轴杆4212排至该底部收集盘43上的对应排液口431。呈雾状的处理液B则会随着该气体G进入该第二环状集液槽411b，且雾状的处理液B将流动于该第二环状集液槽411b内并凝结于该第二环状集液槽411b的壁面，再顺着该第二环状集液槽411b的壁面向下集中流至该第一中空轴杆4212中，而该气体G则沿着该第二收集环412流动，并绕过该第二收集环412下端与该第二环状集液槽411b之间的间隙均匀地朝该底部收集盘43向下流动，进而再集中由该底部收集盘43的抽气口432排出，达到分离该处理液B与该气体G的功效。

如图5所示，进行该基板W的处理程序时，若设定由该液体供给单元50施加处理液C至该基板W，则可由该控制模块控制该收集单元40的该升降模块42的该第一排液气压缸(未图示)降下该第一收集环411，控制该第二排液气压缸422降下该第二收集环412，控制该第一升降气压缸423升起该第三收集环413，且控制该第二升降气压缸424升起该外侧挡板414，此时，该第一收集环411的第一挡板411d及该第二收集环412的第二挡板412b的前端抵靠在一起而相互密合，该第三收集环413的第三挡板413a及该外侧挡板414的前端抵靠在一起而相互密合，并在该第二收集环412与该第三收集环413之间形成一第三开口T3，且该第三开口T3对应于该基板W的周缘。接着，施加至该基板W表面的该处理液C会因为离心力的作用朝该基板W的周缘甩出，自该基板W离开的该处理液C与该气体G将由该第三开口T3进入该第三环状集液槽412a内，该处理液C顺着该第三环状集液槽412a流至该第二排液气压缸422的该第二中空轴杆4222排至该底部收集盘43上的对应排液口431。呈雾状的处理液C则会随着该气体G进入该第三环状集液槽412a，且雾状的处理液C将流动于该第三环状集液槽412a内并凝结于该第三环状集液槽412a的壁面，再顺着该第三环状集液槽412a的壁面向下集中流至该第二中空轴杆4222中。该气体G则沿着该第三收集环413流动，并绕过该第三收集环413下端与该第三环状集液槽412a之间的间隙均匀地朝该底部收集盘43向下流动，进而再集中由该底部收集盘43的抽气口432排出，达到分离该处理液C与该气体G的功效。

如图6所示，进行该基板W的处理程序时，若设定由该液体供给单元50施加处理液D(一般为清水)至该基板W，则可由该控制模块控制该收集单元40的该升降模块42降下该第一收集环411、该第二收集环412及该第三收集环413，且控制该第二升降气压缸424升起该外侧挡板414，此时，该第一收集环411的第一挡板411d、该第二收集环412的第二挡板412b及该第三收集环413的第三挡板413a的前端抵靠在一起而相互密合，并在该第三收集环413与该外侧挡板414之间形成一第四开口T4，且该第四开口T4对应于该基板W的周缘。接着，施加至该基板W表面的处理液D会因为离心力的作用朝该基板W的周缘甩出，自该基板W离开的处理液D与气体G将由该第四开口T4进入该底部收集盘43，该处理液D顺着该外侧挡板414流至该底部收集盘43上并清洗该底部收集盘43，以保持该底部收集盘43湿润且防止因其它处理液沾粘而结晶，该处理液D再由该抽气口432流至连通的废液收集槽。呈雾状的处理液D则会随着该气体G进入该外侧挡板414下方，进而由该底部收集盘43的抽气口432排出。

再者，当携带着雾状的处理液D的气体通过该收集环模块41后，由于该底部收集盘43的空间比该第三收集环413与该外侧挡板414之间所形成该环状气体通道大，使得该气体从该环状气体通道流动到该底部收集盘43后速度降低，导至由该气体所携带的雾状的处理液D失去动能而附着于该底部收集盘43的壁面及底面，并在该处理液D累积汇集后流至该抽气口432，再由该气箱70底部的废液收集口72排出，而该气体则由设置于该废液收集口72上方的该抽气管71抽出，达到分离该处理液D与该气体G的功效。

综上所述，本实用新型的流体工艺处理装置具有多个可独立地升降的收集环，因此可简化机构的设计。较佳者，非工作中的收集环可关闭以防止不同流体间的互相污染。此外，透过该收集环模块与形成于该底部收集盘的底部的抽气口，使得一外部抽气装置由该抽气口抽气时，该收集环模块内的气体沿着该多个收集环之间的所形成的环状气体通道形成均匀的下降气流，而达到均匀抽气的功效。

上面结合附图对本实用新型的实施方式作了详细说明。本实用新型虽然以较佳实施例公开如上，但其并不是用来限定本实用新型，任何本领域技术人员在不脱离本实用新型的精神和范围内，都可以做出可能的变动和修改，因此本实用新型的保护范围应当以权利要求书所界定的范围为准。

Claims (15)

1.一种流体工艺处理装置，是应用于一基板的处理工艺中，其特征在于，该流体工艺处理装置包括：

一基座；

一旋转马达，是设置于该基座；

一基板固定单元，是设置于该旋转马达上，该基板固定单元包含一载台以及一固定装置，该载台用于承载该基板并利用该固定装置固定该基板；

一收集单元，是设置于该基座并围绕该基板固定单元，且该收集单元包含一收集环模块、一升降模块以及一底部收集盘，该收集环模块包含多个收集环依序径向设置，且该升降模块包含多个升降装置分别连接该多个收集环，以独立地升降该多个收集环至一上升位置或一下降位置，该底部收集盘设置于该收集环模块下方，且该底部收集盘的底部包含多个排液口与至少一抽气口；以及

一液体供给单元，其是设置于该基座，用以供应处理液至该基板上。

2.如权利要求1所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该收集环模块包含一第一收集环、一第二收集环、一第三收集环以及一外侧挡板，且该第一收集环、该第二收集环、该第三收集环以及该外侧挡板依序径向朝外排列设置，其中，该第一收集环、该第二收集环以及该第三收集环分别具有向上延伸的一第一挡板、一第二挡板以及一第三挡板，且处于该上升位置的该第一挡板、该第二挡板、该第三挡板以及该外侧挡板之前端抵靠在一起，以及处于该下降位置的该第一挡板、该第二挡板以及该第三挡板之前端抵靠在一起。

3.如权利要求2所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该第一挡板、该第二挡板、该第三挡板以及该外侧挡板相对于该基板所在的一平面的夹角小于90度。

4.如权利要求2所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该第一收集环包含一第一环状集液槽以及一第二环状集液槽，且该第一环状集液槽以及该第二环状集液槽分别设置于该第一挡板之内侧以及外侧。

5.如权利要求4所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该第一收集环还包含一伸缩排液管，该伸缩排液管连通该第一环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

6.如权利要求4所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该收集单元还包含一阻隔模块，该阻隔模块设置于该收集单元的中央并包含一上盖与一侧环，其中该上盖设置于该基板固定单元的该载台下方，且具有一第一突出部，其该延伸至该第一环状集液槽上方，且该第一突出部与处于上升位置的该第一环状集液槽的一槽壁于径向方向上部分重叠，且该侧环围绕该基板固定单元并设置于该底部收集盘上方。

7.如权利要求4所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该第二收集环包含一第三环状集液槽以及一第二突出部，其中，该第三环状集液槽设置于该第二挡板之外侧，该第二收集环的该第二突出部沿该第二挡板的一内侧表面向下延伸至该第二环状集液槽内，该第二收集环的该第二突出部与该第二环状集液槽的该槽壁于径向方向上部分重叠。

8.如权利要求7所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该第三收集环包含分别沿该第三挡板的一内侧表面以及一外侧表面向下延伸的一第三突出部以及一第四突出部，其中该第三收集环的该第三突出部延伸至该第三环状集液槽内，且该第三收集环的该第三突出部以及该第四突出部与该第三环状集液槽的一槽壁于径向方向上部分重叠。

9.如权利要求8所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该升降模块包含一第一排液气压缸以及一第一升降气压缸，其连接至该第三收集环，其中该第一排液气压缸设置于该第一收集环的该第二环状集液槽的底部，且该第一排液气压缸包含一第一气压缸体以及一第一中空轴杆，该第一中空轴杆设置于该第一气压缸体内，该第一中空轴杆连通该第二环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

10.如权利要求9所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该升降模块还包含一第二升降气压缸，其连接至该外侧挡板。

11.如权利要求10所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该升降模块包含一第二排液气压缸，其设置于该第二收集环的该第三环状集液槽的底部，且该第二排液气压缸包含一第二气压缸体与一第二中空轴杆，该第二中空轴杆设置于该第二气压缸体内，该第二中空轴杆连通该第三环状集液槽至该底部收集盘的其中的一该排液口。

12.如权利要求2所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该外侧挡板的一内侧表面延伸至该底部收集盘。

13.如权利要求1所述的流体工艺处理装置，其特征在于，还包含一气箱，其连接至该底部收集盘的该抽气口。

14.如权利要求13所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该底部收集盘的气体通道大于通过该收集环模块的气体信道。

15.如权利要求1所述的流体工艺处理装置，其特征在于，该固定装置为一真空装置，且该基板固定单元还包含一弹性胶卷，该弹性胶卷围绕设置于该载台的顶面周缘，以在该真空装置运作时该弹性胶卷吸附于该基板的底部。