CN204927249U - 一种硅片清洗装置 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种硅片清洗装置，包括浸泡槽、以及用以对浸泡槽内溶液进行加热的加热装置。本实用新型的优点在于：(1)、可以提高70％以上流失的柠檬酸，可以多次侵泡；(2)、缓解企业废水处理压力；(3)、降低生产用水，因按一定比例调和的水和柠檬酸可以重复使用，从而节约了水用量。

Description

一种硅片清洗装置

技术领域

本申请属于太阳能电池硅片切割技术领域，特别是涉及一种硅片清洗装置。

背景技术

目前传统的RCA清洗法，很难去除硅片在切割过程中附着的金属、有机沾污、小颗粒污染物等。

为了使硅片表面的附着物能彻底清除，需要用柠檬酸加热侵泡硅片，柠檬酸是一种较强的有机酸，有3个H+可以电离，加热后可分解成多种产物，与酸、碱、甘油等反应。再次进行清洗。

现有浸泡返洗办法是把柠檬酸和热水按一定比例混合，放置周转箱内浸泡。存在的问题是水温会随时间的推移下降。导致柠檬酸无法完全溶解，不能完全去除硅片表面的附着物，不能重复使用造成不必要的浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种硅片清洗装置，以克服现有技术中的不足。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

本申请公开了一种清洗装置，包括浸泡槽、以及用以对浸泡槽内溶液进行加热的加热装置。

优选的，在上述的清洗装置中，所述浸泡槽的顶端密封有盖体。

优选的，在上述的清洗装置中，所述盖体的顶端表面固定有开启把手。

优选的，在上述的清洗装置中，所述浸泡槽上还安装有搅拌装置。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

(1)、可以提高70％以上流失的柠檬酸，可以多次侵泡；

(2)、缓解企业废水处理压力；

(3)、降低生产用水，因按一定比例调和的水和柠檬酸可以重复使用，从而节约了水用量。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本实用新型具体实施例中清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

参图1所示，清洗装置，包括浸泡槽1、以及用以对浸泡槽内溶液进行加热的加热装置。浸泡槽1的顶端密封有盖体2。盖体2的顶端表面固定有开启把手3。浸泡槽1上还安装有搅拌装置4。

在该技术方案中，加热装置用以对浸泡槽内的溶液进行加热并保持其恒温状态；浸泡槽顶端密封有盖体，一方面避免液体挥发，另一方面可以起到保温效果；搅拌装置可以实现浸泡槽内液体的均匀混合。

利用上述清洗装置进行硅片清洗方法，包括步骤：

(1)、把柠檬酸和水按3:100的比例倒入可以恒温的侵泡槽内，加热至65±5℃；

(2)、搅拌直至柠檬酸完全溶解；

(3)、恒温条件下侵泡时间在2～3小时。

(4)、侵泡至5000片时，将水排掉，重新加人自来水和柠檬酸。

本实用新型所要解决的技术问题就是侵泡硅片时柠檬酸再利用方法。其优点在于：

(1)、可以提高70％以上流失的柠檬酸，可以多次侵泡；

(2)、缓解企业废水处理压力；

(3)、降低生产用水，因按一定比例调和的水和柠檬酸可以重复使用，从而节约了水用量。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。

以上所述仅是本申请的具体实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims (2)

1.一种硅片清洗装置，其特征在于，包括浸泡槽、以及用以对浸泡槽内溶液进行加热的加热装置,所述浸泡槽的顶端密封有盖体,所述浸泡槽上还安装有搅拌装置。

2.根据权利要求1所述的硅片清洗装置，其特征在于：所述盖体的顶端表面固定有开启把手。