CN204894707U - 一种荧光体的结构 - Google Patents

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黄运铨
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Abstract

本实用新型是一种荧光体的结构，其结构自下而上包括衬底层、荧光材料层、发光釉层。该荧光体可用于白光LED封装、Logo装饰、瓷器、瓷砖、仪表刻盘、路标等，具有发光强度大，导热性好，颜色可以多样，且化学稳定性高，可在恶劣环境中使用。

Description

一种荧光体的结构
技术领域
本实用新型涉及一种荧光体的结构，尤其涉及一种发光强度大、导热性好的荧光体的结构设计。该荧光体可应用于白光LED封装及应用、Logo装饰、瓷器、瓷砖、仪表刻盘、路标等。
背景技术
目前常用的荧光体结构大部分是将荧光粉与胶体的混合物涂覆在衬底或者基片上，而胶体的耐热性、抗老化性和抗湿气性差，特别是在恶劣环境中使用寿命低，而且荧光粉的量子效率也会受到影响，尤其这种结果的散热性差，降低了产品的光效，影响了产品的可靠性。
实用新型内容
针对现有技术中的缺陷，本实用新型的目的是提供一种荧光体的结构。本实用新型旨在解决现有技术的前述问题，而提供一种结构简单、发光强度大、导热性好且性能可靠的的荧光体结构。
本实用新型是通过以下技术方案实现的：
本发实用新型提供一种荧光体的结构，所述结构自下而上依次为衬底层、荧光材料层、发光釉层；
优选地，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：(10-6～0.5)：(0.01～0.5)。
更优选地，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：(10-3～0.1)：(0.05～0.2)。
对比更优选地方案和优选地方案，其优势效果是衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的结合更紧密，不易脱落，在恶劣环境中使用能提高使用寿命。
优选地，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层结合的面是平滑面接触。
优选地，所述荧光体的结构是通过下述操作形成的：先在衬底层上覆盖一层或任意层厚度均匀的荧光材料，形成荧光层；再将发光釉层印刷到荧光层上；最后在100～200℃条件下热烘0.5～20h，即得到荧光体的结构。
优选地，所述热烘的装置为烘箱。
优选地，所述发光釉层的材料是在低温釉中加入0～60wt％的荧光粉并搅拌均匀获得的。
优选地，所述的衬底层为任意形状的透明陶瓷、单晶、玻璃或者其他可耐200℃及以上的透明材料中的一种。
优选地，所述的荧光材料层包括荧光粉或者是荧光薄膜。
优选地，所述的荧光材料层是通过喷涂法覆到衬底层上的。可采用热喷涂法，包括火焰喷涂法、爆炸喷涂法、超音速喷涂法、电弧喷涂法、等离子喷涂法、激光喷涂法，或者冷喷涂法。喷涂前将衬底的表面进行预处理，打磨平整，并用酸或者碱或者丙酮或者酒精清洗，接着待喷的表面进行预热，进行溅射荧光材料，最后进行重熔处理。
优选地，所述的荧光材料层是通过溅射法覆到衬底层上的。
优选地，所述的荧光材料层是通过气相沉积法覆到衬底层上的。
溅射前或者气相沉积前同样将衬底的表面进行预处理，打磨平整，并用酸或者碱或者丙酮或者酒精清洗，并烘干，再进行溅射或者气相沉积荧光材料，获得荧光材料层。
优选地，所述的荧光材料层包括黄色荧光材料、红色荧光材料、绿色荧光材料中的一种、或20～80wt％的黄色荧光材料与80～20wt％红色荧光材料混合、或20～80wt％的黄色荧光材料与80～20wt％绿色荧光材料混合；
优选地，所述荧光材料的成分为激活离子掺杂的硫化物、或铝酸盐、或磷酸盐、或硼酸盐、或硅酸盐、或硅基氮(氧)化物、或钇铝石榴石等，其中激活离子为Nd、Dy、Ho、Tm、La、Ce、Pr、Er、Eu、Tb、Sm等中的一种或几种。
与现有技术相比，本实用新型具有如下的有益效果：
1、衬底层、荧光材料层、发光釉层可以根据实际需要进行调配，并且3层可以任意面的结合；
2、所述的荧光体在釉层添加发光材料增大了发光强度，并且无胶化，避免了胶体的老化问题，导热性好，且化学稳定性高，在恶劣环境中可长期使用，提高了产品的可靠性。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述，本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显：
图1为本实用新型荧光体的结构示意图；
其中，1是衬底层，2是荧光材料层，3是发光釉层。
具体实施方式
下面结合具体实施例对本实用新型进行详细说明。以下实施例将有助于本领域的技术人员进一步理解本实用新型，但不以任何形式限制本实用新型。应当指出的是，对本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进。这些都属于本实用新型的保护范围。
实施例1
下面，结合图1介绍本实用新型的具体实施方式。
如图1所示，一种荧光体结构，包括自下而上的衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3；其中衬底层1为YAG透明陶瓷、荧光材料层2为YAG：Ce荧光粉、发光釉层3为含5wt％YAG：Ce荧光粉的低温玻璃釉3。将YAG：Ce荧光粉2均匀的喷涂在YAG透明陶瓷1上，再将含5wt％YAG：Ce荧光粉的低温玻璃釉3均匀的印刷在YAG：Ce荧光粉2上，放入烘箱，在150℃烘干1h，即得到荧光体结构。
本实施例制备的荧光体结构中，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：10-6：0.01。
实施例2
本实施例提供一种荧光体的结构，包括自下而上的衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3；其中衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3与实施例1相同，不同之处在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：0.5：0.5。
实施例3
本实施例提供一种荧光体的结构，包括自下而上的衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3；其中衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3与实施例1相同，不同之处在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：10-3：0.05。
实施例4
本实施例提供一种荧光体的结构，包括自下而上的衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3；其中衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3与实施例1相同，不同之处在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：0.1：0.2。
实施例5
本实施例提供一种荧光体的结构，包括自下而上的衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3；其中衬底层1、荧光材料层2、发光釉层3与实施例1相同，不同之处在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：0.01：0.1。
以上对本实用新型的具体实施例进行了描述。需要理解的是，本实用新型并不局限于上述特定实施方式，本领域技术人员可以在权利要求的范围内做出各种变形或修改，这并不影响本实用新型的实质内容。

Claims (4)

1.一种荧光体的结构，其特征在于，所述结构自下而上依次为衬底层、荧光材料层、发光釉层。
2.根据权利要求1所述的荧光体的结构，其特征在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：(10-6～0.5)：(0.01～0.5)。
3.根据权利要求2所述的荧光体的结构，其特征在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层之间的厚度比例为1：(10-3～0.1)：(0.05～0.2)。
4.根据权利要求1～3任一项所述的荧光体的结构，其特征在于，所述衬底层、荧光材料层、发光釉层结合的面是平滑面。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018188326A1 (zh) * 2017-04-10 2018-10-18 深圳市光峰光电技术有限公司 发光装置及其制备方法

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