CN204882024U - 一种落球试验装置 - Google Patents
一种落球试验装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN204882024U CN204882024U CN201520627824.1U CN201520627824U CN204882024U CN 204882024 U CN204882024 U CN 204882024U CN 201520627824 U CN201520627824 U CN 201520627824U CN 204882024 U CN204882024 U CN 204882024U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- scale
- guide rod
- test device
- vertical guide
- base plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012360 testing method Methods 0.000 title abstract description 17
- 238000009863 impact test Methods 0.000 claims description 28
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 229910052705 radium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N radium atom Chemical compound [Ra] HCWPIIXVSYCSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
一种落球试验装置，包括样品台，支架和电磁铁，该样品台包括底板，在底板的上表面设有刻度和滑槽，该支架包括竖直导杆和横梁，该竖直导杆可在滑槽内滑动，该横梁与该竖直导杆相互垂直交叉设置，该横梁可相对竖直导杆沿竖直方向和水平方向移动，该电磁铁包括凹槽和镭射光源，该凹槽用于收纳落球。该落球试验装置能够使得实际的落球点位与待测试样品的具体待测试点位的精准吻合，提高落球点位的精准性，从而提升工作效率以及测试试验结果的准确性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种抗冲击力试验装置，属于机械测试领域，特别涉及一种落球试验装置。
背景技术
笔记本电脑、平板电脑、手机等移动通讯终端所使用的显示屏幕，一般均需要进行落球试验，以测试其抗冲击能力。其中，落球试验即是通过使一定高度的、自由下落的、规定重量的钢球落到待测试样品上，对待测试样品进行冲击，然后检查待测试样品的外观、受损程度及各方面的性能，用于判定其品质。
图1是现有的落球试验装置，如图1所示，现有的落球试验装置包括样品台110，支架120，所述支架120包括设置于样品台上的竖直导杆121、一端部与竖直导杆121相互交叉垂直设置的横梁122、位于横梁122的远离竖直导杆121一侧端部的电磁铁140以及用于吸附固定落球300的凹槽，现有的落球试验装置由于只有横梁122在竖直方向上的高度调节功能，当需要对待测试样品某一具体点位进行测试时，此时只能手动移动待测试样品，依靠目测进行落球的中心点与待测试样品的具体的待测试点之间的粗略对位，然而，此种操作方式往往存在误差，落球中心点往往不能精准的与待测试样品的具体要测试的点位吻合，从而使得落球试验的实际测试点位不是需要的测试点，不能达到想要的测试结果。因此，需要提出一种能够精准确认落球点位的落球试验装置。
实用新型内容
针对上述问题，本实用新型提供一种落球试验装置，其能够精准的确认落球点位，达到落球点位与待测试样品的待测试点位的精准吻合。
本实用新型提供一种落球试验装置，其包括样品台，支架和电磁铁，所述样品台包括底板，在所述底板的上表面设有刻度和滑槽，所述支架包括竖直导杆和横梁，所述竖直导杆可在滑槽内滑动，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，所述横梁可相对竖直导杆沿竖直方向和水平方向移动，所述电磁铁包括凹槽和镭射光源，所述凹槽用于收纳落球。
进一步地，所述刻度包括第一刻度和第二刻度，所述第一刻度和第二刻度设置在所述底板的相邻侧的靠近边缘的上表面，所述第一刻度和第二刻度相互垂直共有刻度原点。
进一步地，所述滑槽设置在所述底板的靠近所述第一刻度的一侧，所述滑槽的一端起始于所述刻度原点并沿着所述第一刻度延伸设置，所述滑槽的边缘靠近所述第一刻度并露出所述第一刻度的刻度线。
进一步地，所述滑槽向内凹入底板形成“凹”字型，滑槽的深度小于底板的厚度。
进一步地，所述竖直导杆竖直设置于所述滑槽内，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，且所述横梁平行于X方向。
进一步地，所述电磁铁固定设置于所述横梁的远离所述竖直导杆的一端。
进一步地，所述电磁铁还上设有贯穿该电磁铁的圆孔，所述圆孔用于收纳所述镭射光源。
进一步地，所述圆孔与所述凹槽中心之间预设一定距离L。
优选地，所述圆孔的中心与所述凹槽的中心均位于所述电磁铁的平行于X方向的对称轴线I-I上。
进一步地，所述镭射光源射出平行光，该平行光照射在所述样品台的所述底板上形成一圆形光斑。
本实用新型的实施例中，通过在样品台底板的相邻侧边的靠近边缘的上表面设置第一刻度和第二刻度，将支架中的竖直导杆设置为可沿Y方向往返移动，横梁设置为可沿X方向以及Z方向往返移动，在电磁铁上增加一镭射光源，从而使得在落球试验前，打开镭射光源，移动竖直导杆和横梁，使得镭射光源在底板上形成的光斑与具体的待测试点位吻合，之后再根据镭射光源与凹槽的预设距离在第一刻度和第二刻度的精确测量下进行移动横梁，最后使得实际的落球点位与待测试样品的具体待测试点位的精准吻合，提高落球点位的精准性，从而提升工作效率以及测试试验结果的准确性。
附图说明
图1为现有落球试验装置结构示意图。
图2为本实用新型实施例提供的落球试验装置结构示意图。
图3为图2所示的落球试验装置中的电磁铁的平面结构图示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本实用新型为达成预定实用新型目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对本实用新型的具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
图2为本实用新型实施例提供的落球试验装置的结构示意图，如图2所示，本实用新型实施例中的落球试验装置200包括样品台20，支架30以及电磁铁40。
样品台20包括底板21、刻度23以及滑槽25。底板21为水平设置的矩形板状结构，底板21具有一定的厚度，待测样品可放置于底板21上，底板21的相邻侧的靠近边缘的上表面设置有刻度23，刻度23包括平行于底板21的短边方向即沿图中的Y方向设置的第一刻度231和垂直于底板21的短边方向即沿图中的X设置的第二刻度233，X方向和Y方向互相垂直，第一刻度231和第二刻度233相互垂直，第一刻度231和第二刻度233共有刻度原点230，刻度原点230设置于靠近底板21的四个角中的任何一个，在本实施例中，刻度原点230设置于如图2中的A点，但不以此为限，也可设置在底板21的任何位置处。在底板21的靠近第一刻度231的一侧设置有滑槽25，滑槽25的一端起始于刻度原点230，并沿着第一刻度延伸设置，滑槽25的边缘靠近第一刻度231并露出第一刻度231的刻度线，在本实施例中，该滑槽25向内凹入底板21形成“凹”字型，滑槽25的深度小于底板21的厚度，但不以此为限，该滑槽25也可凸出于底板21设置。
支架30包括竖直导杆31和横梁33。竖直导杆31竖直设置于滑槽25中，即竖直导杆31的一端部位于滑槽25中，该竖直导杆31可在滑槽25内沿Y方向往返滑动。可以理解地，由于第一刻度231的存在，竖直导杆31在滑槽25内往返移动的距离很容易通过第一刻度231得出。横梁33与竖直导杆31相互垂直交叉设置，横梁33与底板21的表面平行且可相对于竖直导杆31沿竖直方向即图中的Z方向往返移动，用于调节横梁33相对于底板21上表面的距离。
进一步地，横梁33沿平行于X方向设置，并可相对于竖直导杆31沿水平方向即图中的X方向水平往返移动。
电磁铁40包括凹槽41和镭射光源43。电磁铁40固定设置于横梁33的远离竖直导杆31的一端，电磁铁40为长方体的块状结构。图3为电磁铁40的平面结构图示意图，请结合图2和图3所示，在电磁铁40的面向底板21的表面设有凹槽41，该凹槽41用于容纳落球300，显然地，该凹槽41的中心距离电磁铁40的各个侧边缘的尺寸是显而易见的。
在本实施例中，电磁铁40上还设有一贯穿该电磁铁40的圆孔45，该圆孔45用于收纳镭射光源43，该圆孔45与凹槽41之间预设一定距离L。进一步的，该镭射光源43收纳于该圆孔45中时，该镭射光源43的中心与该圆孔253的中心O’重合，此外，该镭射光源43在通电情况下射出平行光，该平行光照射在底板21的上表面可形成一光斑43’。
优选地，圆孔45的中心O’(也即镭射光源43的中心)与凹槽41的中心O均位于电磁铁40的平行于X方向的对称轴线I-I上。
承上所述，由于横梁33可相对于竖直导杆31沿X方向水平往返移动，因此在横梁33的带动下，电磁铁40也可相对于竖直导杆31沿X方向水平往返移动，显然地，由于第二刻度233的存在，镭射光源43射出的光线照射在底板21上形成的光斑43’在底板21上沿平行于X方向往返移动的距离可由第二刻度233量测出。同时又由于第一刻度231的存在，镭射光源43射出的光线照射在底板21上形成的光斑43’在底板21上沿平行于Y方向往返移动的距离可由第一刻度231量测出。
当需要测试待测样品的某一具体待测试点位时，首先可将待测样放置底板21上，接着在进行落球前打开镭射光源43，此时在底板21上形成有光斑43’，然后移动竖直导杆31沿Y方向移动，以及移动横梁33带动电磁铁40以及镭射光源43和落球300沿X方向运动，使镭射光源43在底板21上的光斑43’与待测试样品的具体待测试点位完全吻合时，停止移动，然后再根据镭射光源43与凹槽41的预设距离计算出此时实际的落球点位，为将该实际落球点位与待测试样品的具体待测试点位完全吻合，此时需根据镭射光源43与凹槽41的预设距离移动竖直导杆21和/或者横梁33，该实际的移动距离可根据第一刻度231和第二刻度233精确进行，从而使得该实际落球点位与待测试样品的具体待测试点位完全吻合，最后关闭镭射光源43，进行落球动作。
具体地，在本实施例中，当移动镭射光源43在底板21上的光斑43’与待测试样品的具体待测试点位完全吻合时，此时由于该镭射光源43的中心与该凹槽41的中心点O在电磁铁40的平行于X方向的对称轴线I-I上，且两者之间的预设距离为L，此时，只需将横梁33沿X方向向远离竖直导杆21的方向移动L即可，此移动距离L可由第二刻度233精确测量。当然并不以此为限，在别的实施例中，该镭射光源43的中心与该凹槽41的中心点O’也可不在同一条直线上，此时则需要根据镭射光源43与凹槽41的预设距离分别移动竖直导杆21和横梁33，且该移动距离只需分别由第一刻度231和第二刻度233精确测量即可。
在本实用新型中，通过在样品台20底板21的相邻侧边的边缘的上表面设置第一刻度231和第二刻度233，将支架30中的竖直导杆31设置为可沿Y方向往返移动，横梁33设置为可沿X方向以及Z方向往返移动，在电磁铁40上增加一镭射光源43，从而使得在落球试验前，打开镭射光源43，移动竖直导杆31和横梁33，使得镭射光源43在底板21上形成的光斑43’与具体的待测试点位吻合，之后再根据镭射光源43与凹槽41的预设距离在第一刻度231和第二刻度233的精确测量下进行移动横梁33，最后使得实际的落球点位与待测试点位的精准吻合，提高落球点位的精准性，从而提升工作效率以及测试的准确性。
以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型已以较佳实施例揭露如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当可利用上述揭示的技术内容作出些许更动或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。
Claims (10)
1.一种落球试验装置，包括样品台，支架和电磁铁，其特征在于，所述样品台包括底板，在所述底板的上表面设有刻度和滑槽，所述支架包括竖直导杆和横梁，所述竖直导杆可在滑槽内滑动，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，所述横梁可相对竖直导杆沿竖直方向和水平方向移动，所述电磁铁包括凹槽和镭射光源，所述凹槽用于收纳落球。
2.如权利要求1所述的落球试验装置，其特征在于：所述刻度包括第一刻度和第二刻度，所述第一刻度和第二刻度设置在所述底板的相邻侧的靠近边缘的上表面，所述第一刻度和第二刻度相互垂直共有刻度原点。
3.如权利要求2所述的落球试验装置，其特征在于：所述滑槽设置在所述底板的靠近所述第一刻度的一侧，所述滑槽的一端起始于所述刻度原点并沿着所述第一刻度延伸设置，所述滑槽的边缘靠近所述第一刻度并露出所述第一刻度的刻度线。
4.如权利要求3所述的落球试验装置，其特征在于：所述滑槽向内凹入底板形成“凹”字型，滑槽的深度小于底板的厚度。
5.如权利要求3所述的落球试验装置，其特征在于：所述竖直导杆竖直设置于所述滑槽内，所述横梁与所述竖直导杆相互垂直交叉设置，且所述横梁平行于X方向。
6.如权利要求5所述的落球试验装置，其特征在于：所述电磁铁固定设置于所述横梁的远离所述竖直导杆的一端。
7.如权利要求6所述的落球试验装置，其特征在于：所述电磁铁上设有贯穿该电磁铁的圆孔，所述圆孔用于收纳所述镭射光源。
8.如权利要求7所述的落球试验装置，其特征在于：所述圆孔与所述凹槽中心之间预设一定距离L。
9.如权利要求8所述的落球试验装置，其特征在于：所述圆孔的中心与所述凹槽的中心均位于所述电磁铁的平行于X方向的对称轴线I-I上。
10.如权利要求1所述的落球试验装置，其特征在于：所述镭射光源射出平行光，该平行光照射在所述样品台的所述底板上形成一圆形光斑。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520627824.1U CN204882024U (zh) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | 一种落球试验装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201520627824.1U CN204882024U (zh) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | 一种落球试验装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN204882024U true CN204882024U (zh) | 2015-12-16 |
Family
ID=54826386
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201520627824.1U Active CN204882024U (zh) | 2015-08-19 | 2015-08-19 | 一种落球试验装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN204882024U (zh) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105865944A (zh) * | 2016-04-14 | 2016-08-17 | 北京工业大学 | 一种用于工业建筑的楼板结构抗冲击性能试验装置和测试方法 |
| CN107192528A (zh) * | 2017-03-28 | 2017-09-22 | 广西南岜仔科技有限公司 | 一种钢球冲击测试治具 |
| CN107807054A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-03-16 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 多功能抗冲击性能测试装置 |
| CN113124293A (zh) * | 2021-04-29 | 2021-07-16 | 高杰 | 一种市政工程测绘系统及其调节的方法 |
| CN115752991A (zh) * | 2022-11-21 | 2023-03-07 | 荣耀终端有限公司 | 冲击测试装置及冲击测试系统 |
-
2015
- 2015-08-19 CN CN201520627824.1U patent/CN204882024U/zh active Active
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105865944A (zh) * | 2016-04-14 | 2016-08-17 | 北京工业大学 | 一种用于工业建筑的楼板结构抗冲击性能试验装置和测试方法 |
| CN105865944B (zh) * | 2016-04-14 | 2018-10-19 | 北京工业大学 | 一种用于工业建筑的楼板结构抗冲击性能试验装置和测试方法 |
| CN107192528A (zh) * | 2017-03-28 | 2017-09-22 | 广西南岜仔科技有限公司 | 一种钢球冲击测试治具 |
| CN107807054A (zh) * | 2017-10-19 | 2018-03-16 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 多功能抗冲击性能测试装置 |
| CN113124293A (zh) * | 2021-04-29 | 2021-07-16 | 高杰 | 一种市政工程测绘系统及其调节的方法 |
| CN113124293B (zh) * | 2021-04-29 | 2022-07-05 | 临沂市国土资源局测绘院 | 一种市政工程测绘系统及其调节的方法 |
| CN115752991A (zh) * | 2022-11-21 | 2023-03-07 | 荣耀终端有限公司 | 冲击测试装置及冲击测试系统 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| CN204882024U (zh) | 一种落球试验装置 | |
| CN201122093Y (zh) | 厚度测量装置 | |
| CN106773525B (zh) | 掩模板、对位方法、显示面板、显示装置及其对盒方法 | |
| CN201955061U (zh) | 工件用平面度测量装置 | |
| CN102829943B (zh) | 一种落球试验机 | |
| CN203786038U (zh) | 自动定位样品移动平台 | |
| CN204924205U (zh) | 一种基于激光测距传感器的便携式二维随动激光测量装置 | |
| CN210089623U (zh) | 一种槽形承载基台及检测设备 | |
| CN105004252A (zh) | 方形截面细长工件的拼接面与基准面间垂直度的检测方法 | |
| CN105258899A (zh) | 一种抗冲击试验测试机 | |
| CN202793724U (zh) | 一种落球试验机 | |
| CN205300530U (zh) | 玻璃屏幕平面度检测装置 | |
| JPWO2011059003A1 (ja) | 検査装置 | |
| CN210036678U (zh) | 一种翘曲度测试仪 | |
| CN208636260U (zh) | 一种用于超声扫描显微镜的定位系统 | |
| CN106595450B (zh) | 一种用于汽车碰撞试验的轨道对中测量工具及方法 | |
| CN2922002Y (zh) | 一种库仑定律的定量验证试验装置 | |
| CN104507259A (zh) | 一种用于pcb板贴标机的定位夹紧装置 | |
| CN204478975U (zh) | 鞍座测量标尺 | |
| CN202661749U (zh) | 一种液晶盒测试设备 | |
| CN110052894B (zh) | 透明模型箱底座与振动台螺孔精确定位装置及其使用方法 | |
| CN203148424U (zh) | 一种自动测量仪器高度的全站仪 | |
| CN107246853A (zh) | 一种用于检测板材表面的检测系统及检测方法 | |
| CN104596414B (zh) | 一种校检装置 | |
| CN204142167U (zh) | 垂直测量装置及百分表装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C14 | Grant of patent or utility model | ||
| GR01 | Patent grant | ||
| CP03 | Change of name, title or address |
Address after: 215301, 1, Longteng Road, Kunshan, Jiangsu, Suzhou Patentee after: InfoVision Optoelectronics(Kunshan)Co.,Ltd. Address before: 215301 No.1 Longteng Road, Kunshan City, Suzhou City, Jiangsu Province Patentee before: INFOVISION OPTOELECTRONICS (KUNSHAN) Co.,Ltd. |
|
| CP03 | Change of name, title or address |