CN204215145U - 一种涂胶显影机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种涂胶显影机，包括：排气管；调节板，包括第一调节板和第二调节板；第一调节板设有调节圆盘，调节圆盘上设有第一通孔；第二调节板上设有第二通孔；连接杆，适于在气缸滑块上下运动时，带动调节板随之上下运动。在排气管内设有一调节板，调节板在气缸滑块带动真空吸盘上下运动时随之上下运动，使得在每一片晶圆涂胶完成后进行晶圆传送时，排气管排气量达到最大，从而有效地避免了光刻胶粉尘在传送晶圆的表面产生球形缺陷；调节板上设有第一通孔和第二通孔，在涂胶过程中，通过调节晶圆对应不同位置处的第一通孔和第二通孔的相对位置，可以调节晶圆对应位置上方的排气量，进而可以控制晶圆表面涂胶膜厚的均匀性。

Description

一种涂胶显影机

技术领域

本实用新型涉及半导体工艺设备领域，特别是涉及一种涂胶显影机。

背景技术

涂胶显影机(Track)是制造半导体的常用设备，一般用于光刻胶涂布及显影等工艺。涂布光刻胶是涂胶显影机在光刻工艺中必要的一步。

如图1所示，现有的涂胶显影机的涂胶单元1包括真空吸盘11、环绕所述真空吸盘11周围的杯型防溅罩(cup)12、带动所述真空吸盘11上下运动的气缸滑块13，所述杯型防溅罩12下方设有排气口(未示出)。涂胶工艺过程中，所述涂胶显影机中用于隔离所述涂胶单元1和传送单元的百叶(shutter)向上打开，晶圆从所述传送单元被传送至所述真空吸盘11上，所述真空吸盘11下降至行程下端并带动位于其上的晶圆高速旋转，同时由涂胶显影机的光刻胶喷嘴向所述晶圆表面喷涂上光刻胶。涂胶工艺完成后，所述真空吸盘11停止旋转并向上运动至行程上端，所述百叶再次打开将完成涂胶工艺的晶圆传送出，同时将新的待涂胶的晶圆传送至所述真空吸盘11上。

但是，在整个涂胶过程中，所述真空吸盘11及位于其上的晶圆处于高速旋转状态，所述晶圆表面及涂胶单元1内的光刻胶粉尘14会被扬起，涂胶工艺完成以后，在百叶打开进行晶圆传送的过程中，扬起的所述光刻胶粉尘14会掉落在传送的晶圆表面上，在晶圆的表面上造成球形缺陷，所述球形缺陷会对晶圆造成明显的影响，降低产品的良率。

现有的降低所述球形缺陷的方法是，在涂胶的过程中，增大排气口的排气量(exhaust)，通过增大排气口的排气量可以带走更多的光刻胶粉尘14，在排气口排气的作用下，更多的所述光刻胶粉尘14可以沿如图1中所示的排气气流方向15被排出涂胶单元1。通过增大排气口的排气量，可以有效地避免在晶圆表面所述球形缺陷的产生。但是，当排气口的排气量增大以后，会产生比较明显的THK边际效应，影响晶圆表面光刻胶膜厚的均匀性，这是由于在晶圆中间喷涂光刻胶的时候，晶圆高速旋转，在离心力的作用下很多光刻胶被甩至晶圆的边缘，当排气口的排气量越大，光刻胶的水分蒸发的越快。从而使得光刻胶更易固化，使得晶圆边缘的光刻胶膜厚高于其他部分。

因此，提供一种改进型的涂胶显影机非常必要。

实用新型内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种涂胶显影机，用于解决现有技术中为了减少光刻涂胶工艺中晶圆表面的球形缺陷，需要增大排气口的排气量，但增大排气口的排气量以后，会导致晶圆表面光刻胶膜厚的均匀性变差的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种涂胶显影机，所述涂胶显影机包括涂胶单元，所述涂胶单元内包括用于吸附晶圆的真空吸盘、带动所述真空吸盘上下运动的气缸滑块，所述涂胶单元还包括：排气管，位于所述真空吸盘上方，包括第一端和第二端；所述排气管的第一端伸向所述真空吸盘中心的上方，所述排气管的第二端与一排气发生装置相连接；所述排气管朝向所述真空吸盘的一侧设有第一开口；调节板，位于所述排气管内对应于所述第一开口的位置上，所述调节板的长度大于所述第一开口的长度；所述调节板包括第一调节板和第二调节板，所述第二调节板位于所述第一调节板的上表面；所述第一调节板设有多个调节圆盘，所述每个调节圆盘上设有多个第一通孔；所述第二调节板对应于所述调节圆盘的位置上设有第二通孔，适于通过调节所述第二通孔与所述第一通孔的相对位置来调节所述调节板通气量的大小；连接杆，一端与所述第一调节板相连接，另一端与所述气缸滑块相连接，适于在所述气缸滑块向上运动时，带动所述调节板随之向上运动，在所述气缸滑块向下运动时，带动所述调节板随之向下运动并压紧在所述第一开口上。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述调节圆盘为可旋转调节圆盘，适于所述调节圆盘在所述第一调节板上做360°旋转。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述调节圆盘沿所述第一调节板的宽度方向呈弧形分布，以形成调节圆盘组合结构。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述第一调节板上包括3个所述调节圆盘组合结构，每个所述调节圆盘组合结构中包括3个所述调节圆盘。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，每个所述调节圆盘上所述第一通孔的数目为4个，所述4个第一通孔均匀地分布于所述调节圆盘上，且直径互不相等。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述4个第一通孔的直径分别为2mm、4mm、6mm和8mm。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述第二通孔的直径为10mm。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述第二调节板为可旋转调节板，适于所述第二调节板在所述第一调节板的上表面做360°旋转。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述第二调节板的数目与所述调节圆盘的数目相同；所述第二调节板的形状和大小与所述调节圆盘的形状和大小相同；所述第二调节板与所述调节圆盘上下对应。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述第一开口四周的所述排气管内壁上设有弹性装置和阻隔装置，所述阻隔装置与所述弹性装置高度一致，适于将所述弹性装置和所述阻隔装置围成区域的内侧与外侧隔离开；所述弹性装置和所述阻隔装置围成区域的长度小于或等于所述调节板的长度。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述阻隔装置为雨衣质幕布。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述雨衣质幕布的上表面设有橡胶圈。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述排气管第一端距离所述真空吸盘中轴线的距离为5～15mm；靠近所述排气管第一端的所述弹性装置距离所述排气管第一端的距离为3～7mm；所述调节板的长度为50～100mm；所述排气管的长度为150～200mm，所述排气管的宽度为60～120mm。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述排气管第一端距离所述真空吸盘中轴线的距离为10mm；靠近所述排气管第一端的所述弹性装置距离所述排气管第一端的距离为5mm；所述调节板的长度为65mm；所述排气管的长度为170mm，所述排气管的宽度为90mm。

作为本实用新型的涂胶显影机的一种优选方案，所述排气管远离所述真空吸盘的一侧设有第二开口和盖板。

如上所述，本实用新型的涂胶显影机，具有以下有益效果：

1.在所述真空吸盘的上方设有第一开口朝向所述真空吸盘的排气管，排气管内设有一调节板，所述调节板通过一连接杆与气缸滑块相连接，所述调节板在气缸滑块带动所述真空吸盘上下运动时随之上下运动，使得在每一片晶圆涂胶完成后进行晶圆传送时，所述调节板位于最上方，所述第一开口与所述调节板之间具有最大的间隙，所述排气管排气量达到最大，有利于最大限度地将光刻胶粉尘排出，从而有效地避免了光刻胶粉尘在传送晶圆的表面产生球形缺陷的可能。

2.所述调节板上设有第一通孔和第二通孔，在涂胶过程中，所述调节板压在所述第一开口的上方，光刻胶粉尘只能通过所述第一通孔和第二通孔被排除；此时，通过调节晶圆对应不同位置处的所述第一通孔和第二通孔的相对位置，可以调节晶圆对应位置上方的排气量，进而可以控制晶圆表面涂胶膜厚的均匀性。

附图说明

图1显示为现有技术中涂胶显影机的涂胶单元的截面结构示意图。

图2显示为本实用新型实施例一中提供的涂胶显影机的涂胶单元的俯视结构示意图。

图3显示为图2沿AA’方向的截面结构示意图。

图4显示为本实用新型实施例一中提供的调节板的三维结构示意图。

图5显示为本实用新型实施例一中提供的第一调节板的俯视结构示意图。

图6显示为本实用新型实施例一中提供的第二调节板的俯视结构示意图。

图7显示为本实用新型实施例一中提供的调节板与弹性装置和阻隔装置相对应的三维结构示意图。

图8显示为本实用新型实施例一中提供的涂胶显影机的涂胶单元在气缸滑块移动至最小量程处时的截面结构示意图。

图9显示为本实用新型实施例一中提供的涂胶显影机的涂胶单元在气缸滑块移动至最大量程处时的截面结构示意图。

图10显示为本实用新型实施例二中提供的调节板的三维结构示意图。

图11显示为本实用新型实施例二中提供的第二调节板的俯视结构示意图。

元件标号说明

1       涂胶单元

11      真空吸盘

12      杯型防溅罩

13      气缸滑块

14      光刻胶粉尘

15      排气气流方向

2       涂胶单元

200     真空吸盘

201     杯型防溅罩

202     气缸滑块

203     排气管

2031    排气管第一端

2032    排气管第二端

204     第一开口

205     调节板

2051    第一调节板

2052    第二调节板

206     调节圆盘

207     第一通孔

208     第二通孔

209     连接杆

210     弹性装置

211     阻隔装置

212     橡胶圈

213     盖板

214     光刻胶粉尘

215     排气气流方向

d₁      排气管第一端距离真空吸盘中轴线的距离

d₂      靠近排气管第一端的弹性装置距离第一端的距离

d₃      排气管的宽度

L₁      调节板的长度

L₂      排气管的长度

L₃      盖板的长度

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效。

请参阅图2至图11。须知，本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中部”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。

实施例一

本实用新型提供一种涂胶显影机，所述涂胶显影机包括涂胶单元，请参阅图2至图3，其中，图2为涂胶单元2的俯视结构示意图，图3为图2沿AA’方向的截面结构示意图。由图2和图3可知，所述涂胶单元2包括用于吸附晶圆的真空吸盘200、包围在所述真空吸盘200周围的杯型防溅罩(cup)201、带动所述真空吸盘200上下运动的气缸滑块202；排气管203，所述排气管203位于所述真空吸盘200上方，包括第一端和第二端；所述排气管第一端2031伸向所述真空吸盘200中心的上方，所述排气管第二端2032与一排气发生装置(未示出)相连接；所述排气管203朝向所述真空吸盘200的一侧设有第一开口204；调节板205，所述调节板205位于所述排气管203内对应于所述第一开口204的位置上；连接杆209，所述连接杆209的一端与所述调节板205相连接，另一端与所述气缸滑块202相连接，适于在所述气缸滑块202向上运动时，带动所述调节板205随之向上运动，在所述气缸滑块202向下运动时，带动所述调节板205随之向下运动并压紧在所述第一开口204上。

将所述调节板205通过所述连接杆209与所述气缸滑块202相连接，所述调节板205可以在所述气缸滑块202带动所述真空吸盘200上下运动时随之上下运动，使得在每一片晶圆涂胶完成后进行晶圆传送时，所述调节板205位于最上方，所述第一开口204与所述调节板205之间具有最大的间隙，所述排气管203排气量达到最大，有利于最大限度地将光刻胶粉尘排出，从而有效地避免了光刻胶粉尘在传送晶圆的表面产生球形缺陷的可能。

具体的，所述排气管一端2031距离所述真空吸盘200中轴线的距离d₁为5～15mm；所述排气管203的长度L₂为150～200mm；所述排气管203的宽度d₃为60～120mm。优选地，本实施例中，所述排气管一端2031距离所述真空吸盘200中轴线的距离d₁为10mm；所述排气管203的长度L₂为170mm，所述排气管203的宽度d₃为90mm。

具体的，，所述排气管203远离所述真空吸盘200的一侧还设有第二开口和盖板213，所述盖板213可以从所述排气管203上拆卸下来，所述盖板213可以通过螺丝等固定在所述排气管203上。所述盖板213的长度L₃为100mm～150mm，优选地，本实施例中，所述排气管203远离所述真空吸盘200的一侧还设有第二开口和盖板213。所述盖板213的长度L₃为120mm。在所述排气管203远离所述真空吸盘200的一侧还设有第二开口和盖板213，有利于定期对所述排气管203进行清理，以防止光刻胶颗粒堆积太多而堵塞所述排气管203。

请参阅图4，图4为所述调节板205的三维结构示意图。由图4可知，所述调节板205包括第一调节板2051和第二调节板2052，所述第二调节板2052位于所述第一调节板2051的上表面。

具体的，所述调节板205的长度L₁和宽度均应大于所述第一开口204的长度和宽度，以确保所述调节板205压在所述第一开口204上时可以将所述第一开口204完全压住。优选地，所述调节板205的长度为50～100mm；更为优选地，本实施例中，所述调节板205的长度为65mm。

请结合图4参阅图5至图6，其中，图5为所述第一调节板2051的俯视结构示意图，图6为所述第二调节板2052的俯视结构示意图。由图5可知，所述第一调节板2051上设有多个调节圆盘206，所述每个调节圆盘206上设有多个第一通孔207；由图6可知，所述第二调节板2052对应于所述调节圆盘206的位置上设有第二通孔208，适于通过调节所述第二通孔208与所述第一通孔207的相对位置来调节所述调节板205通气量的大小。

具体的，所述调节圆盘206为可旋转调节圆盘，以便于所述调节圆盘206可以在所述第一调节板2051上做360°旋转。

具体的，所述调节圆盘206沿所述第一调节板2051的宽度方向呈弧形分布，以形成调节圆盘206组合结构。优选地，本实施例中，所述第一调节板2051上包括3个所述调节圆盘206组合结构，每个所述调节圆盘206组合结构中包括3个所述调节圆盘206。

具体的，可以根据实际需要在所述调节圆盘206上设置所述第一通孔207的数目，优选地，本实施例中，每个所述调节圆盘206上所述第一通孔207的数目为4个，所述4个第一通孔207均匀地分布于所述调节圆盘206上，且直径互不相等。优选地，本实施例中，所述每个调节圆盘206上的4个所述第一通孔207的直径分别为2mm、4mm、6mm和8mm。所述第二通孔208的直径应略大于所述第一通孔207的直径，以便于当所述第二通孔208旋转至与一个所述第一通孔207相重合时，可以将所述第一通孔207完全打开。优选地，本实施例中，所述第二通孔208的直径为10mm。

具体的，本实施例中，所述连接杆209是与所述第一调节板2051相连接的。

需要说明的是，所述每个调节圆盘206上的4个所述第一通孔207的圆心应位于同一圆弧上，且所述第二通孔208的圆心也应位于所述第一通孔207的圆心所在的圆弧上。

所述调节板205上设有所述第一通孔207和所述第二通孔208，且所述调节圆盘206沿所述第一调节板2051的宽度方向呈弧形分布，在涂胶过程中，所述调节板205压在所述第一开口204的上方，光刻胶粉尘只能通过所述第一通孔207和所述第二通孔208被排除；此时，通过调节晶圆对应不同位置处的所述第一通孔207和所述第二通孔208的相对位置，可以调节晶圆对应位置上方的排气量，进而可以控制晶圆表面涂胶膜厚的均匀性。

请结合图1参阅图7，由图1和图7可知，所述第一开口204四周的所述排气管203的内壁上设有弹性装置210和阻隔装置211，所述阻隔装置211与所述弹性装置210的高度一致，适于将所述弹性装置210和所述阻隔装置211围成区域的内侧与外侧隔离开；所述弹性装置210和所述阻隔装置211围成区域的长度小于或等于所述调节板205的长度，以确保所述调节板205压在所述弹性装置210和所述阻隔装置211上时可以将所述弹性装置210和所述阻隔装置211完全压住。优选地，本实施例中，所述弹性装置210和所述阻隔装置211围成区域的长度等于所述调节板205的长度。

具体的，靠近所述排气管第一端2031的所述弹性装置210距离所述排气管第一端2031的距离d₂为3～7mm；优选地，本实施例中，靠近所述排气管第一端2031的所述弹性装置210距离所述排气管第一端2031的距离d₂为5mm。

具体的，所述阻隔装置211为雨衣质幕布。

具体的，所述雨衣质幕布的上表面设有橡胶圈212。

在所述第一开口204四周的所述排气管203的内壁上设有弹性装置210和阻隔装置211，并在所述阻隔装置211的上表面设置所述橡胶圈212，可以在所述调节板205向下运动压在所述第一开口204上时，增加所述调节板205与所述第一开口204之间的密封性。

所述涂胶单元2的工作原理请参阅图8至图9。首先，请参阅图8，晶圆传送至所述涂胶单元2以后，所述气缸滑块202向下运动至最小行程处，所述真空吸盘200随之运动至最低位置处，相应的，所述调节板205随着所述气缸滑块202运动至最低处并压紧在所述第一开口204上。而后对所述晶圆进行涂胶，在涂胶的过程中，由于所述晶圆及所述真空吸盘200高速旋转，涂胶过程中产生的光刻胶颗粒214被扬起。又由于所述调节板205压紧在所述第一开口204上，在所述排气管203的作用下，所述光刻胶颗粒214只能沿着排气气流方向215由所述调节板205的通孔排出。

接着，请参阅图9，对所述晶圆涂胶作业完成后，所述气缸滑块202向上运动并推动所述真空吸盘200随之向上运动，相应的，所述调节板205也随之向上运动，当所述气缸滑块202运动至最大行程处时，所述真空吸盘200和所述调节板205也均运动至最大位置处，此时，涂胶显影机中用于隔离所述涂胶单元2和传送单元的百叶(shutter)向上打开，完成涂胶的晶圆从所述涂胶单元2传出至传送单元，并将需要涂胶的晶圆从所述传送单元传入至所述涂胶单元2内，而一般被扬起的所述光刻胶颗粒214就是在此时晶圆的传送过程中落在晶圆的表面形成球形缺陷的。而本实施例中，晶圆传送时，所述调节板205位于最高处，所述调节板205与所述第一开口204之间的间距最大，所述排气管203的排气量为最大，所述光刻胶颗粒214会沿着所述气流排出方向215从调节板205与所述第一开口204之间的间隙被排除，大大降低了在传送的晶圆上产生球形缺陷的概率。

实施例二

请参阅图10至图11，本实施例中，还提供一种涂胶显影机，所述涂胶显影机包括涂胶单元2，本实施例中的所述涂胶单元2的结构与实施例一中的涂胶显影机的涂胶单元的结构几乎相同，二者的不同之处只在于调节板的不同。

图10为调节板的三维结构示意图，图11为第二调节板的俯视结构示意图。由图10可知，所述调节板205同样包括第一调节板2051和第二调节板2052，所述第二调节板2052位于所述第一调节板2051的上表面。本实施例中，所述第一调节板2051的结构与实施例一相同，可以参阅图5。只是本实施例中，所述第二调节板2052为可旋转调节板，适于所述第二调节板2052在所述第一调节板2051的上表面做360°旋转。

具体的，结合实施例一中的图5，请参阅图10至11，所述第二调节板2052的数目与所述调节圆盘206的数目相同；所述第二调节板2052的形状和大小与所述调节圆盘206的形状和大小相同；所述第二调节板2052与所述调节圆盘206上下对应。

需要说明的是，所述第二调节板2052的形状不仅限于与所述调节圆盘206的形状相同，所述第二调节板2052的形状也可以为正方形、长方形等多种形状。

本实施例中所述涂胶单元2的其他结构及工作原理均与实施例一相同，这里不再累述。

综上所述，本实用新型提供一种涂胶显影机，在所述真空吸盘的上方设有第一开口朝向所述真空吸盘的排气管，排气管内设有一调节板，所述调节板通过一连接杆与气缸滑块相连接，所述调节板在气缸滑块带动所述真空吸盘上下运动时随之上下运动，使得在每一片晶圆涂胶完成后进行晶圆传送时，所述调节板位于最上方，所述第一开口与所述调节板之间具有最大的间隙，所述排气管排气量达到最大，有利于最大限度地将光刻胶粉尘排出，从而有效地避免了光刻胶粉尘在传送晶圆的表面产生球形缺陷的可能。所述调节板上设有第一通孔和第二通孔，在涂胶过程中，所述调节板压在所述第一开口的上方，光刻胶粉尘只能通过所述第一通孔和第二通孔被排除；此时，通过调节晶圆对应不同位置处的所述第一通孔和第二通孔的相对位置，可以调节晶圆对应位置上方的排气量，进而可以控制晶圆表面涂胶膜厚的均匀性。

上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。

Claims (15)

1.一种涂胶显影机，包括涂胶单元，所述涂胶单元内包括用于吸附晶圆的真空吸盘、带动所述真空吸盘上下运动的气缸滑块，其特征在于，所述涂胶单元还包括：

排气管，位于所述真空吸盘上方，包括第一端和第二端；所述排气管的第一端伸向所述真空吸盘中心的上方，所述排气管的第二端与一排气发生装置相连接；所述排气管朝向所述真空吸盘的一侧设有第一开口；

调节板，位于所述排气管内对应于所述第一开口的位置上，所述调节板的长度大于所述第一开口的长度；所述调节板包括第一调节板和第二调节板，所述第二调节板位于所述第一调节板的上表面；所述第一调节板设有多个调节圆盘，所述每个调节圆盘上设有多个第一通孔；所述第二调节板对应于所述调节圆盘的位置上设有第二通孔，适于通过调节所述第二通孔与所述第一通孔的相对位置来调节所述调节板通气量的大小；

连接杆，一端与所述第一调节板相连接，另一端与所述气缸滑块相连接，适于在所述气缸滑块向上运动时，带动所述调节板随之向上运动，在所述气缸滑块向下运动时，带动所述调节板随之向下运动并压紧在所述第一开口上。

2.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：所述调节圆盘为可旋转调节圆盘，适于所述调节圆盘在所述第一调节板上做360°旋转。

3.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：所述调节圆盘沿所述第一调节板的宽度方向呈弧形分布，以形成调节圆盘组合结构。

4.根据权利要求3所述的涂胶显影机，其特征在于：所述第一调节板上包括3个所述调节圆盘组合结构，每个所述调节圆盘组合结构中包括3个所述调节圆盘。

5.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：每个所述调节圆盘上所述第一通孔的数目为4个，所述4个第一通孔均匀地分布于所述调节圆盘上，且直径互不相等。

6.根据权利要求5所述的涂胶显影机，其特征在于：所述4个第一通孔的直径分别为2mm、4mm、6mm和8mm。

7.根据权利要求6所述的涂胶显影机，其特征在于：所述第二通孔的直径为10mm。

8.根据权利要求1或7所述的涂胶显影机，其特征在于：所述第二调节板为可旋转调节板， 适于所述第二调节板在所述第一调节板的上表面做360°旋转。

9.根据权利要求8所述的涂胶显影机，其特征在于：所述第二调节板的数目与所述调节圆盘的数目相同；所述第二调节板的形状和大小与所述调节圆盘的形状和大小相同；所述第二调节板与所述调节圆盘上下对应。

10.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：所述第一开口四周的所述排气管内壁上设有弹性装置和阻隔装置，所述阻隔装置与所述弹性装置高度一致，适于将所述弹性装置和所述阻隔装置围成区域的内侧与外侧隔离开；所述弹性装置和所述阻隔装置围成区域的长度小于或等于所述调节板的长度。

11.根据权利要求10所述的涂胶显影机，其特征在于：所述阻隔装置为雨衣质幕布。

12.根据权利要求10或11所述的涂胶显影机，其特征在于：所述阻隔装置的上表面设有橡胶圈。

13.根据权利要求10所述的涂胶显影机，其特征在于：所述排气管第一端距离所述真空吸盘中轴线的距离为5～15mm；靠近所述排气管第一端的所述弹性装置距离所述排气管第一端的距离为3～7mm；所述调节板的长度为50～100mm；所述排气管的长度为150～200mm，所述排气管的宽度为60～120mm。

14.根据权利要求13所述的涂胶显影机，其特征在于：所述排气管第一端距离所述真空吸盘中轴线的距离为10mm；靠近所述排气管第一端的所述弹性装置距离所述排气管第一端的距离为5mm；所述调节板的长度为65mm；所述排气管的长度为170mm，所述排气管的宽度为90mm。

15.根据权利要求1所述的涂胶显影机，其特征在于：所述排气管远离所述真空吸盘的一侧设有第二开口和盖板。