CN204058272U - 一种陶瓷上釉机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及陶瓷生产设备领域,具体涉及一种陶瓷上釉机,其特征在于:包括主机架、横移机构、升降机构、吸胚机构和喷釉机构,所述横移机构包括行车,升降机构设置于行车上,吸胚机构包括吸胚盘、旋转电机、吸管、空心轴和抽气机,空心轴由旋转电机带动可旋转的设置于升降机架上,空心轴的一端与吸管连通,一端穿过吸胚盘底部的中心孔并与吸胚盘连接,所述喷釉机构包括喷釉枪、输送泵、连接管和箱体,喷釉枪设置于箱体内部并与输送泵连通,连接管连通箱体底部和输送泵。本实用新型提供的陶瓷上釉机,可将胚体自动输送至上釉位置,节省人力,提高生产效率,胚体在喷釉过程边旋转边升降,上釉更均匀,保证同批次产品的质量。
Description
技术领域
本实用新型涉及陶瓷生产设备领域,具体的涉及一种陶瓷上釉机。
背景技术
陶瓷在烧制前需要给陶瓷表面上釉,传统的上釉方式为人工上釉,上釉方法包括浸釉发和喷釉法等,采用人工上釉的方式缺陷在于耗费人力,生产效率低,上釉易不均匀,不合符现代陶瓷规模化和自动化的需求。
为解决该问题,申请公布号为CN103724053A的发明提供了一种旋转式陶瓷上釉机。该实用新型提供的旋转式陶瓷上釉机,包括底架、旋转架、用于带动旋转架旋转的电机和喷釉浆装置,所述喷釉浆装置包括釉浆箱、泵和若干喷浆管,泵的入口连通所述釉浆箱,泵的出口连通喷浆管,该种旋转式陶瓷上釉机,虽能够实现对毛坯的自动涂覆釉浆,但需要人工将毛坯放置工作位置,耗费人力,生产效率不高,且上釉过程中喷枪和毛坯相对位置不变,这样无法实现对毛坯的整体的均匀上釉。
实用新型内容
为克服现有技术中的不足,本实用新型提供一种自动输送毛坯,上釉均匀的陶瓷上釉机。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案如下:一种陶瓷上釉机,其特征在于:包括主机架、横移机构、升降机构、吸胚机构和喷釉机构,所述横移机构包括行车、驱动电机和轨道,该轨道水平设置于主机架上,行车在驱动电机带动下可移动的设置于轨道上,所述升降机构设置于行车上,升降机构包括升降驱动和升降机架,升降驱动带动升降机架上下移动,所述吸胚机构包括吸胚盘、旋转电机、吸管、空心轴和抽气机,该抽气机与吸管相连通,空心轴由旋转电机带动可旋转的设置于升降机架上,空心轴的一端与吸管连通,一端与吸胚盘底部的中心孔连通,所述喷釉机构包括喷釉枪、输送泵、连接管和箱体,该箱体设置于主机架下方,喷釉枪设置于箱体内部并与输送泵连通,连接管连通箱体底部和输送泵。
进一步的,所述喷釉枪包括侧喷头和下喷头,侧喷头喷嘴沿水平方向,下喷头喷嘴竖直向上。
进一步的,所述下喷头为旋转喷头。
进一步的,所述吸管还包括旋转接头,旋转接头连接吸管和空心轴。
进一步的,所述升降驱动为液压缸。
由上述描述可知,本实用新型提供的一种陶瓷上釉机,可将胚体自动输送至上釉位置,节省人力,提高生产效率;胚体在喷釉过程边旋转边升降,上釉更均匀;通过控制胚体在喷枪头的停留时间,控制上釉厚度,使同一批产品上釉厚度相同。
附图说明
图1为本实用新型一种陶瓷上釉机的结构示意图。
图2为本实用新型一种陶瓷上釉机的胚体喷釉前的工作示意图。
图3为本实用新型一种陶瓷上釉机的胚体喷釉后的工作示意图。
具体实施方式
以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。
如图1所示,本实用新型一种陶瓷上釉机,包括主机架1、横移机构2、升降机构3、吸胚机构4和喷釉机构5,所述横移机构2包括行车21、驱动电机22和轨道23,该轨道23水平设置于主机架1上,行车21在驱动电机22带动下可移动的设置于轨道23上,所述升降机构3设置于行车21上,升降机构3包括升降驱动31和升降机架32,所述升降驱动31为液压缸,升降驱动31带动升降机架32上下移动,所述吸胚机构4包括吸胚盘41、旋转电机42、吸管43、空心轴44和抽气机45,该抽气机45与吸管43相连通,吸管43包括旋转接头431,旋转接头431连接吸管43和空心轴44,空心轴44由旋转电机42带动可旋转的设置于升降机架32上,空心轴44的一端与吸管43连通,一端与吸胚盘41底部的中心孔411连通,所述喷釉机构5包括喷釉枪51、输送泵52、连接管53和箱体54,该箱体54设置于主机架1下方,喷釉枪51设置于箱体54内部并与输送泵52连通,喷釉枪51包括侧喷头511和下喷头512,侧喷头511喷嘴沿水平方向,下喷头512喷嘴竖直向上,下喷头512为旋转喷头,连接管53连通箱体54底部和输送泵52。
如图1至图3,本实用新型一种陶瓷上釉机的工作过程为:行车21处于如图2所示位置时,为起始工作状态,此时毛坯放置于上料皮带100处,吸胚盘41处于毛坯正上方,升降机构3带动吸胚盘41下降直至吸胚盘41停在毛坯开口处,抽气机45工作将毛坯内的空气抽干,使毛坯吸附在吸胚盘41上,升降机构3上升,行车21移动至箱体54上方,升降机构3下降至毛坯的侧壁底部对准侧喷头511,此时如图1所示工作状态,旋转电机42工作,带动毛坯旋转,喷釉枪51将釉液喷至毛坯侧壁,与此同时升降机构以一定速率下降,使釉液均匀喷上毛坯的整个侧壁,当毛坯底部接近下喷头512时,下喷头512工作,为毛坯底部上釉,喷釉过程中多余的釉液落入箱体54底部重新利用,避免浪费,喷釉完成后,升降机构3带动毛坯上升,行车21移动至出料皮带200处,升降机构3将毛坯放置到出料皮带200上,抽气机45停止工作,如图3所示工作状态,完成一个对毛坯的上釉。
上述仅为本实用新型的若干具体实施方式,但本实用新型的设计构思并不局限于此,凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动,均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。
Claims (5)
1.一种陶瓷上釉机,其特征在于:包括主机架、横移机构、升降机构、吸胚机构和喷釉机构,所述横移机构包括行车、驱动电机和轨道,该轨道水平设置于主机架上,行车在驱动电机带动下可移动的设置于轨道上,所述升降机构设置于行车上,升降机构包括升降驱动和升降机架,升降驱动带动升降机架上下移动,所述吸胚机构包括吸胚盘、旋转电机、吸管、空心轴和抽气机,该抽气机与吸管相连通,空心轴由旋转电机带动可旋转的设置于升降机架上,空心轴的一端与吸管连通,一端与吸胚盘底部的中心孔连通,所述喷釉机构包括喷釉枪、输送泵、连接管和箱体,该箱体设置于主机架下方,喷釉枪设置于箱体内部并与输送泵连通,连接管连通箱体底部和输送泵。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述喷釉枪包括侧喷头和下喷头,侧喷头喷嘴沿水平方向,下喷头喷嘴竖直向上。
3.根据权利要求2所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述下喷头为旋转喷头。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述吸管还包括旋转接头,旋转接头连接吸管和空心轴。
5.根据权利要求1所述的一种陶瓷上釉机,其特征在于:所述升降驱动为液压缸。
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