CN203738565U - 研磨治具 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具反向组设于机台上进行抛光处理。由此，本实用新型可以避免待研磨物在进行抛光处理时不慎发生脱落的问题，并可提升待研磨物的抛光合格率。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种研磨治具，特别是指一种能避免待研磨物在进行抛光处理时不慎发生脱落，并提升待研磨物的抛光良率的研磨治具。
背景技术
目前用于抛光诸如智能型手机屏幕面板或各种辨识系统面板之类的研磨治具的结构基本是：一预设宽幅的基材上结合有多个PU发泡绵体，以将预作抛光的待研磨物(即组设在默认对象上的屏幕玻璃，或称为蓝宝石)吸附在基材的PU发泡绵体上，随即再将整个结合有待研磨物的研磨治具反向设置在抛光机台上(该机台的结合部位作用面是朝下状态)，以配合组设在抛光机台另一靠下部位的研磨机具在启动后旋转，来对待研磨物做所需精密度及预设厚度的抛光处理。在反向设置的过程中容易因PU发泡绵体的吸附力道不足，致使待研磨物因地心引力的因素而掉落，或者在研磨过程中无法控制待研磨物，致使待研磨物被抛出破裂等等因素，造成产品合格率低落。
上述这些允许待研磨物结合其间的研磨治具在使用上无法确实达到预期稳定的组设在抛光机台上的功效，而且结合在研磨治具中的待研磨物是利用PU发泡绵体进行方位结合，以致在作抛光处理时无法固定而产生空转或因待研磨物掉落、被抛出研磨治具，使得PU发泡绵体无法重复使用。
发明内容
针对上述问题，本实用新型的主要目的在于提供一种能克服在吸附上存在脱落问题的研磨治具，其可避免待研磨物在进行反向设置或抛光处理时发生脱落，并提升待研磨物的抛光合格率。
为达到上述目的，本实用新型所提供的一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
为达到上述目的，本实用新型还提供了另一技术方案：一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入朝上层面设有一层胶的结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述结合片上的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
为达到上述目的，本实用新型还提供了再一技术方案：一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与用水沾湿的结合片形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
采用上述技术方案，本实用新型采用在研磨治具的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，以使待研磨物可依序置入并受到每一承置空间相应部位的胶所产生的确切的方位结合，从而避免待研磨物反向设置在机台上时的脱落，同时达到确切固定且不致产生空转防止研磨过程中待研磨物被抛出的功效，以提升待研磨物的抛光合格率。
附图说明
图1是本实用新型研磨治具的俯视图；
图2是本实用新型研磨治具的构件分解前视截面图；
图3是本实用新型研磨治具的组体前视截面图；
图4是本实用新型研磨治具未结合待研磨物时的前视截面图；
图5是本实用新型研磨治具与待研磨物完成结合的前视截面图；
图6是本实用新型将结合有待研磨物的研磨治具贴设在机台上的前视图；
图7是本实用新型研磨治具第二实施例的构件分解前视截面图；
图8是本实用新型研磨治具第二实施例的组体前视截面图；
图9是本实用新型研磨治具第二实施例未结合待研磨物时的前视截面图；
图10是本实用新型研磨治具第二实施例与待研磨物完成结合的前视截面图；
图11是本实用新型将结合有待研磨物的研磨治具贴设在机台上的前视图；
图12是本实用新型研磨治具第三实施例的组体前视截面图；
图13是本实用新型研磨治具第三实施例未结合待研磨物时的前视截面图。
具体实施方式
为了详细说明本实用新型的结构、特点及功效，现举以下较佳实施例并配合附图说明如下。
本实用新型所提供的研磨治具的第一实施形态如图1、图2、图3所示，结合有厚度较薄且需抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物的研磨治具6包括：在一预设宽幅的基材1（在本实施例中基材1是以PP(Polyproylene)即聚丙烯作为实施）作用一侧设一层胶2，以通过这层胶2来结合一表层面形成有多个预设大小承置空间31（此承置空间31的孔径是依据预结合入的待研磨物的外周边作大小相符的设定）的置放座3，并在基材1的另一侧也设一层胶2，用来配合贴设一底座4，同时，设置在置放座3的每一承置空间31内部的胶2在未结合待研磨物之前是用离型膜5进行覆设，由此构成一研磨治具6。
将待研磨物7结合入上述结构的研磨治具6的操作，如图3、图4所示，是先将覆设在置放座3内每一承置空间31的离型膜5撕下，再将待研磨物7（在本实施例中是以如蓝宝石之类为例）依序置入基材1一侧置放座3中的承置空间31，并使待研磨物7底部能与承置空间31内部的胶2形成一确切的位置固定（如图5所示）；之后，再将研磨治具6反向并使其中的基材1另一侧结合的底座4能与抛光机台8上组设的陶磁盘作方位限制（如图6所示），由此，邻靠在抛光机台8下方的研磨机具在启动后通过旋转对待研磨物7进行所需精密度及预设厚度的抛光处理，而结合在研磨治具6内的每一待研磨物7在进行抛光处理时，因是呈完全的置入相应承置空间31内并呈确切贴合，而能避免研磨时的掉落，以提升待研磨物7的抛光合格率。
本实用新型所提供的研磨治具的另一实施形态如图7、图8所示，也是用来结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物的研磨治具6'包括：在一预设宽幅的基材1（在本实施例中基材1是以PP(Polyproylene)即聚丙烯作为实施）作用一侧设一层胶2，以通过这层胶2来结合一表层面形成有多个预设大小承置空间31（此承置空间31的孔径是依据预结合入的待研磨物外周边作大小相符的设定）的置放座3，并在每一承置空间31内部置入朝上层面设有一层胶33的结合片32（在本实施例中结合片32是以绒布作为实施），结合片32底部与承置空间31内的胶2呈一方位牵制，而在基材1的另一侧也设一层胶2，用来配合一底座4的方位贴设，而在置放座3的每一承置空间31内部结合片32上的胶33上，则可在未结合待研磨物之前用离型膜5进行覆设，由此构成一研磨治具6'。
将待研磨物7结合入上述结构的研磨治具6'的操作，如图8、图9所示，是先将覆设在置放座3中每一承置空间31的离型膜5撕下，再将待研磨物7（在本实施例中是以如蓝宝石之类为例）依序置入基材1一侧置放座3中的承置空间31，并使待研磨物7底部能与结合片32上的胶33形成确切的方位结合（如图10所示），之后，再将研磨治具6'反向并使其中的基材1另一侧结合的底座4能与抛光机台8上组设的陶磁盘作一方位限制（如图11所示），由此，对相邻靠下方位的研磨机具在启动后旋转来对待研磨物7进行所需精密度及预设厚度的抛光处理，而结合在研磨治具6'中的每一待研磨物7在进行抛光处理时，因是呈完全的置入相应承置空间31、并与其中的结合片32保持确切的贴合，使结合片32在研磨过程中担任缓冲舒压的功能，避免研磨过程中过于硬碰硬，以提升待研磨物7的抛光合格率。
本实用新型所提供的研磨治具的第三实施形态如图12、图13所示，也是用于结合厚度较薄(厚度约0.27mm)且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物的研磨治具6''包括：在一预设宽幅的基材1（在本实施例中基材1是以FRP作为实施）作用一侧为设一层胶2，以通过该层胶2来结合一表层面形成有多个预设大小承置空间31（此承置空间31的孔径是依据预结合入的待研磨物外周边作大小相符的设定）的置放座3，并在每一承置空间31内部置入结合片32（在本实施例中结合片32是以绒布作为实施），结合片32底部与承置空间31内的胶2呈一方位牵制，而在基材1的另一侧也设置一层胶2，用来配合一底座4的方位贴设，同时，在置放座3的每一承置空间31内部的结合片32与待研磨物7结合之前，是用水34将结合片32层面喷湿，以产生一与待研磨物7形成确切附着的附着力，从而构成一研磨治具6''。而研磨治具6''配合抛光机台的组设、及与相邻靠下方位的研磨机具作为待研磨物7的抛光处理是和前述第一、第二实施的动作方式一致。
Claims (3)
1.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶来结合一表层面形成有多个预设大小的承置空间的置放座，并在所述基材的另一侧设置一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入位于所述研磨治具基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述承置空间内部的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
2.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入朝上层面设有一层胶的结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与所述结合片上的胶形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
3.一种研磨治具，用于结合厚度较薄且须抛光成所需辨识清晰度高的待研磨物，其特征在于包括：在一预设宽幅的基材作用一侧通过胶结合一表层面形成有多个预设大小承置空间的置放座，并在每一所述承置空间内部置入结合片，所述结合片底部与所述承置空间内的胶呈方位牵制，而在所述基材的另一侧也设有一层用于贴设一底座的胶；
所述待研磨物置入所述研磨治具的基材一侧的置放座中的承置空间，且所述待研磨物底部能与用水沾湿的结合片形成确切的方位结合，所述研磨治具为反向组设于机台上进行抛光处理。
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| CN110576386A (zh) * | 2018-06-26 | 2019-12-17 | 蓝思精密(东莞)有限公司 | 指纹环的加工方法 |
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