CN203726328U - 改进抛光件吸附方式的抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种改进抛光件吸附方式的抛光机，包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，上/下盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的底部与吸附上/下盘相连接，中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头连通至封闭式连接气路，旋转气路接头外气路接口，吸附上/下盘开设有气路通孔，各气路接口通过连接气管与吸附上/下盘上开设的气路通孔连通；吸附上/下盘的下/上方设有紧贴其下表面的缓冲垫，缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，气路通孔的下/上端对齐吸附槽。本实用新型的结构简单、成本低、投资小、操作方便，有利于实现后期自动化抛光。

Description

改进抛光件吸附方式的抛光机

技术领域

本实用新型涉及一种抛光机，尤其涉及一种改进抛光件吸附方式的抛光机。

背景技术

目前抛光机所加工的玻璃都是贴在抛光机的上盘或下盘的平面来进行加工，靠聚酯合成材料的吸附垫吸附在上、下盘的平面上进行研磨抛光。现有抛光机的上、下盘多为平面无孔结构，且都不具有真空吸附功能，这些抛光机主要是依靠特殊材质的吸附垫来完成待抛光玻璃的贴合固定，吸附垫背面通过胶水、粘结剂等与上、下盘粘合，吸附垫正面则由许多质地细密的凹槽型小孔组成，紧压后将小孔内空气排出即具有真空吸附功能。经过一段时间的使用后，抛光粉会逐渐渗透到吸附垫正面的小孔内，使原有的小孔不具有真空吸附功能而不能使用，必须频繁更换。按抛光机每天工作八小时计算，聚酯合成材料的吸附垫每隔几天就得更换一次，由此导致聚酯合成材料的吸附垫作为一种抛光用耗材的成本一直居高不下。

另外，抛光机每加工完一片玻璃需要剥离去除吸附在玻璃上的吸附垫，按照现有的工艺只能靠人工一点点吹气或渗水的方法来移除，相当费时费力，且影响整个抛光机的自动化程度。现有技术中也有公开了将抛光机的上盘与一陶瓷移动盘进行真空吸附连接的方式，但是陶瓷移动盘的设置不仅增加了设备成本，而且陶瓷移动盘的质量较重，抛光所需的功耗大大增加，抛光晶片安置于陶瓷移动盘上不仅费时费力，而且这种硬性接触容易在抛光时造成晶片损坏，抛光质量也无法保证；现有技术中也有直接采用开孔的真空吸盘吸附工件的情形，但这种真空吸附方式往往气密性不佳，导致真空吸附所需的吸附压力过大，这不仅容易造成工件的变形而影响抛光精度，而且同样容易造成工件的损坏，而且抛光粉等杂质如果进入到真空吸盘上开设的细孔中，不仅清理困难，严重时需要更换整个真空吸盘，成本大大增加。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、成本低、投资小、操作方便、有利于实现后期自动化抛光的改进抛光件吸附方式的抛光机。

为解决上述技术问题，本实用新型提出的技术方案为一种改进抛光件吸附方式的抛光机（上吸式），包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，上盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的底部与吸附上盘相连接，所述中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头的内端通过封闭式连接气路与所述抽真空系统相连，旋转气路接头的外端设有多个气路接口，所述吸附上盘开设有多个气路通孔，各气路接口通过连接气管与吸附上盘上开设的气路通孔的上端连通；所述吸附上盘下方设有紧贴其下表面的缓冲垫，所述缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽（该吸附槽包括孔形、条形、L形等各种通透式结构），所述气路通孔的下端对齐所述吸附槽。

上述的抛光机中，优选的，所述多个气路接口沿所述旋转气路接头的中心转轴呈中心对称分布。这样的气路接口设置有利于配合后续吸附槽的优化布置，使缓冲垫能够均匀受力，更好地吸附抛光件达到抛光效果。更优选的，所述吸附上盘开设的多个气路通孔沿吸附上盘的中心转轴呈中心对称分布。这样的气路通孔布置有利于与旋转气路接头对接和连接气路中间增加通断阀门，而且同样有利于配合后续吸附槽的优化布置。更优选的，各连接气管上还设有通断阀门，这使得本实用新型的抛光机具有适应大小不同型号玻璃进行抛光操作的兼容性；若遇到小型号玻璃，只需要关闭玻璃所覆盖范围外的真空气路即可，而且还有利于玻璃的取片，在取片时，只需要关闭负压，接入正压吹气就能去除真空，顺利取下待抛光玻璃件，无须人工吹气或渗水来移除。

上述的抛光机中，优选的，所述缓冲垫是通过粘结剂粘合方式或通过真空吸附方式紧贴在吸附上盘的下表面上；粘结剂粘合方式更加稳定可靠；但真空吸附方式将使得缓冲垫的清理和更换更加快捷和方便，有利于实现整个抛光机的全自动化，还可充分利用抛光机配套设置的抽真空系统。当采用真空吸附方式时，所述吸附上盘上增设有部分不对准所述吸附槽的吸附孔，该吸附孔通过连接气管与所述旋转气路接头外端设置的气路接口连通，通过该吸附孔可将缓冲垫吸附贴合在吸附上盘的下表面。

作为一个总的技术构思，本实用新型还提供另一种改进抛光件吸附方式的抛光机（下吸式），包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，下盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的顶部与吸附下盘相连接，所述中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头的上端与所述封闭式连接气路的底端相连通，旋转气路接头的下端与所述抽真空系统相连，所述封闭式连接气路上部连通至中心轴外侧开设的气路接口，所述吸附下盘开设有气路通孔，气路接口通过连接气管与吸附下盘上开设的气路通孔的底端连通；所述吸附下盘上方设有紧贴其上表面的缓冲垫，所述缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，所述气路通孔的上端对齐所述吸附槽。

上述的下吸式抛光机中，优选的，所述气路通孔的底端设有真空腔（吸附下盘与底部密封连接形成真空腔），该真空腔位于机座和吸附下盘之间，所述连接气管是通过该真空腔与所述吸附下盘上开设的气路通孔连通。通过在下吸式抛光机中设置一内部的真空腔，可使得真空吸附的压力更加稳定、均匀，而且便于简化后续气路接口和连接气管的设置。因此，在上述的下吸式抛光机中，更优选的，所述中心轴外侧仅开设一个气路接口，该气路接口通过一连接气管与所述真空腔连通。

上述的下吸式抛光机中，优选的，所述吸附下盘开设的气路通孔与吸附下盘的中心转轴连通；所述真空腔被分隔成多个真空子腔，且这多个真空子腔呈中心向外围扩散方式布置，各个真空子腔之间相互连通。

与上述上吸式抛光机相类似，优选的，所述缓冲垫可以是通过粘结剂粘合方式或通过真空吸附方式紧贴在吸附下盘的上表面上；当采用真空吸附方式时，所述吸附上盘上增设有部分不对准所述吸附槽的吸附孔，该吸附孔同样可通过连接气管与所述旋转气路接头外侧设置的气路接口连通或者也可直接连通至上述的真空腔，通过该吸附孔可将缓冲垫吸附贴合在吸附下盘的上表面。

上述的上吸式或下吸式抛光机中，优选的，所述吸附槽设置有多条，这多条的吸附槽在缓冲垫表面呈中心向外围扩散方式布置。该优选的吸附槽设置方式有利于保证工件玻璃能够稳固均匀地吸附在吸附上盘或吸附下盘上，更优选的，所述吸附槽呈类似“回”字形布置，且每两条U形的吸附槽对接后组成一个回路，位于同一回路的两条U形的吸附槽之间相互隔断。

上述的上吸式或下吸式抛光机中，优选的，当所述缓冲垫紧贴吸附上盘的下表面设置时，所述吸附上盘的下表面开设有与所述吸附槽对齐的非通透式凹槽，所述气路通孔的下端连通至该非通透式凹槽；

当所述缓冲垫紧贴吸附下盘的上表面设置时，所述吸附下盘的上表面开设有与所述吸附槽对齐的非通透式凹槽，所述气路通孔的上端连通至该非通透式凹槽。

上述的上吸式或下吸式抛光机中，优选的，基于本实用新型中采用的特殊结构或特殊方式，所述缓冲垫优选采用橡胶垫材料制作。现有缓冲垫中几乎没有采用橡胶垫制作的情形。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

1.相比现有的抛光机吸附方式，本实用新型改进后的吸附方式不仅结构简单，而且改造成本很低；

2.本实用新型改进后的抛光机采用真空吸附和吹气的方式，非常便于被加工玻璃的装片和取片，而且便于缓冲垫的紧贴和剥离，能够大大简化人工；由于改进后的抛光机采用真空吸附和吹气的方式，待抛光件及缓冲垫的吸附和剥离过程大大简化，解决了目前抛光机人工取片的难题，有利于今后实现抛光机抛光加工的生产自动化；

3.本实用新型特殊的结构设计使得本实用新型的缓冲垫不局限于采用现有技术中专用于粘结吸附上盘或下盘的聚酯合成材料，可以采用其他价格更低廉的材质制作（如橡胶垫）缓冲垫，以满足吸附功能，且不需要频繁更换，大大降低抛光机中缓冲垫耗材的使用成本；

4.本实用新型特殊的结构设计使得本实用新型的缓冲垫还可承担其他更多的功能性定位，例如可以作为缓冲垫进行使用，大大提高抛光件抛光的工艺质量。

附图说明

图1为本实用新型实施例1中上吸式抛光机上部构造的结构示意图。

图2为本实用新型实施例1中上吸式抛光机上部构造沿中心轴的剖视图。

图3为本实用新型实施例1中上吸式抛光机的整体结构示意图。

图4为本实用新型实施例2中下吸式抛光机下部构造的结构示意图。

图5为本实用新型实施例2中下吸式抛光机下部构造沿中心轴的剖视图。

图6为本实用新型实施例中缓冲垫的俯视结构示意图。

图7为本实用新型实施例2中下吸式抛光机的整体结构示意图。

图例说明：

1、机架；2、吸附上盘；3、吸附下盘；4、上盘驱动系统；5、下盘驱动系统；6、中心轴；61、封闭式连接气路；62、旋转气路接头；63、气路接口；64、气路通孔；65、连接气管；66、通断阀门；7、缓冲垫；71、吸附槽；8、真空腔；81、真空子腔；9、机座；10、抛光件。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下文将结合说明书附图和较佳的实施例对本实用新型作更全面、细致地描述，但本实用新型的保护范围并不限于以下具体的实施例。

需要特别说明的是，当某一元件被描述为“固定于或连接于”另一元件上时，它可以是直接固定或连接在另一元件上，也可以是通过其他中间连接件间接固定或连接在另一元件上。

除非另有定义，下文中所使用的所有专业术语与本领域技术人员通常理解的含义相同。本文中所使用的专业术语只是为了描述具体实施例的目的，并不是旨在限制本实用新型的保护范围。

实施例1：

一种如图1～图3所示本实用新型的改进抛光件吸附方式的上吸式抛光机，包括机架1、吸附上盘2、吸附下盘3、上盘驱动系统4、下盘驱动系统5、回收系统和抽真空系统，上盘驱动系统4包括一中心轴6，中心轴6的底部与吸附上盘2相连接，中心轴6内开设有封闭式连接气路61，中心轴6靠近底部位置设有一旋转气路接头62，旋转气路接头62的内端通过封闭式连接气路61与外部的抽真空系统相连（采用常规的抽真空系统即可，图中未示出），旋转气路接头62的外端设有多个气路接口63，吸附上盘2开设有多个气路通孔64，各气路接口63通过连接气管65与吸附上盘2上开设的气路通孔64的上端连通；吸附上盘2下方设有通过粘结剂粘贴方式紧贴其下表面的缓冲垫7，缓冲垫7的表面开设有通透式吸附槽71，气路通孔64的下端对齐吸附槽71。缓冲垫7的下方设置抛光件10。

本实施例的上吸式抛光机中，多个气路接口63沿旋转气路接头62的中心转轴呈中心对称分布。另外，吸附上盘2开设的多个气路通孔64沿吸附上盘2的中心转轴呈中心对称分布。如图2所示，在各连接气管65上还设有通断阀门66。

如图6所示，本实施例的上吸式抛光机中，吸附槽71设置有多条，这多条的吸附槽71在缓冲垫7表面呈中心向外围扩散方式布置。具体的，吸附槽71呈类似“回”字形布置，且每两条U形的吸附槽71对接后组成一个回路，位于同一回路的两条U形的吸附槽之间相互隔断。本实施例中，缓冲垫采用橡胶垫材料制作。

整个抛光机的上盘驱动系统4还包括有提升气缸、传动机构等常规部件，而下盘驱动系统5则包括相应的电机、传动机构等部件，上盘驱动系统4和下盘驱动系统5均安装于机架1上，且均可由操作面板控制。

上述本实施例的上吸式抛光机中，吸附上盘2的一次装片、取片操作流程包括：首先通过操作面板控制上盘驱动系统4使吸附上盘2倾斜，然后开启抽真空系统，将待抛光的工件玻璃对齐缓冲垫7表面开设的通透式吸附槽71，并使其贴合，然后对工件玻璃进行抛光操作，抛光完成后使吸附上盘2回正；控制上盘驱动系统4使吸附上盘2再次倾斜，手工托举或机械手固定抛光后的工件玻璃，关闭负压、接入正压，通过吹气即可使工件玻璃脱离。

实施例2：

一种如图4～图7所示本实用新型的改进抛光件吸附方式的下吸式抛光机，包括机架1、吸附上盘2、吸附下盘3、上盘驱动系统4、下盘驱动系统5、回收系统和抽真空系统（参见图7），下盘驱动系统5包括一中心轴6，中心轴6的顶部与吸附下盘3相连接，中心轴6内开设有封闭式连接气路61，中心轴6靠近底部位置设有一旋转气路接头62，旋转气路接头62的上端与封闭式连接气路61的底端相连通，旋转气路接头62的下端与抽真空系统相连，封闭式连接气路61上部连通至中心轴6外侧开设的气路接口63，吸附下盘3开设有多个气路通孔64，气路接口63通过连接气管65与吸附下盘3上开设的气路通孔64的底端连通。吸附下盘3上方设有通过粘结剂粘贴方式紧贴其上表面的缓冲垫7。缓冲垫7的表面开设有通透式吸附槽71，气路通孔64的上端对齐吸附槽71。本实施例中额缓冲垫7还可以通过真空吸附方式紧贴在吸附下盘3的上表面上；采用真空吸附方式时，吸附下盘3上除设置前述的多个气路通孔64外，还增设有部分不对准吸附槽71的吸附孔，这些吸附孔与气路通孔64在结构上无本质区别，均为通气孔，且这些吸附孔同样通过连接气管65与旋转气路接头62外端设置的气路接口63连通。此种情况下，气路通孔64和吸附孔均连通至抽真空系统，且气路通孔64直接透过缓冲垫7上设置的吸附槽71吸附上抛光工件，而吸附孔则直接吸附住缓冲垫7。

本实施例的下吸式抛光机中，气路通孔64的底端设有真空腔8，该真空腔8位于机座9和吸附下盘3之间，连接气管65是通过该真空腔8与吸附下盘3上开设的气路通孔64连通。本实施例中，中心轴6外侧仅开设一个气路接口63，该气路接口63通过一连接气管65与真空腔8连通。吸附下盘3开设的多个气路通孔64沿吸附下盘3的中心转轴呈中心对称分布；真空腔8则被分隔成多个真空子腔81，且这多个真空子腔81呈中心向外围扩散方式布置，各个真空子腔81相互连通。相应的气路通孔64下方对接连通真空腔8。

如图6所示，本实施例的上吸式抛光机中，缓冲垫7的上方设置抛光件。吸附槽71设置有多条，这多条的吸附槽71在缓冲垫7表面呈中心向外围扩散方式布置。具体的，吸附槽71呈类似“回”字形布置，且每两条U形的吸附槽71对接后组成同一个回路，位于同一回路的两条U形的吸附槽之间相互隔断。相应的气路通孔64上方对接连通同一回路。本实施例中，缓冲垫采用橡胶垫材料制作。

整个抛光机的上盘驱动系统还包括有提升气缸、传动机构等常规部件，而下盘驱动系统5则包括相应的电机、传动机构等部件，上盘驱动系统和下盘驱动系统5均安装于机架1上，且均可由操作面板控制。

上述本实施例的下吸式抛光机的装片、取片操作流程与实施例1中的上吸式抛光机基本相同。

Claims (10)

1.一种改进抛光件吸附方式的抛光机，包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，上盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的底部与吸附上盘相连接，其特征在于：所述中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头的内端通过封闭式连接气路与所述抽真空系统相连，旋转气路接头的外端设有多个气路接口，所述吸附上盘开设有多个气路通孔，各气路接口通过连接气管与吸附上盘上开设的气路通孔的上端连通；所述吸附上盘下方设有紧贴其下表面的缓冲垫，所述缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，所述气路通孔的下端对齐所述吸附槽。

2.根据权利要求1所述的抛光机，其特征在于：所述多个气路接口沿所述旋转气路接头的中心转轴呈中心对称分布；所述吸附上盘开设的多个气路通孔沿吸附上盘的中心转轴呈中心对称分布；各连接气管上设有通断阀门。

3.根据权利要求1或2所述的抛光机，其特征在于：所述缓冲垫是通过粘结剂粘合方式或通过真空吸附方式紧贴在吸附上盘的下表面上；

当采用真空吸附方式时，所述吸附上盘上增设有部分不对准所述吸附槽的吸附孔，所述吸附孔通过连接气管与所述旋转气路接头外端设置的气路接口连通。

4.一种改进抛光件吸附方式的抛光机，包括机架、吸附上盘、吸附下盘、上盘驱动系统、下盘驱动系统和抽真空系统，下盘驱动系统包括一中心轴，中心轴的顶部与吸附下盘相连接，其特征在于：所述中心轴内开设有封闭式连接气路，中心轴靠近底部位置设有一旋转气路接头，旋转气路接头的上端与所述封闭式连接气路的底端相连通，旋转气路接头的下端与所述抽真空系统相连，所述封闭式连接气路上部连通至中心轴外侧开设的气路接口，该气路接口通过连接气管与吸附下盘上开设的气路通孔的底端连通；所述吸附下盘上方设有紧贴其上表面的缓冲垫，所述缓冲垫的表面开设有通透式吸附槽，所述气路通孔的上端对齐所述吸附槽。

5.根据权利要求4所述的抛光机，其特征在于：所述气路通孔的底端设有真空腔，该真空腔位于机座和吸附下盘之间，所述连接气管是通过该真空腔与所述吸附下盘上开设的气路通孔连通。

6.根据权利要求5所述的抛光机，其特征在于：所述中心轴外侧仅开设一个气路接口，该气路接口通过一连接气管与所述真空腔连通。

7.根据权利要求5或6所述的抛光机，其特征在于：所述真空腔被分隔成多个真空子腔，且这多个真空子腔呈中心向外围扩散方式布置，各个真空子腔之间相互连通。

8.根据权利要求1～7中任一项所述的抛光机，其特征在于：所述吸附槽设置有多条，这多条的吸附槽在缓冲垫表面呈中心向外围扩散方式布置；

当所述缓冲垫紧贴吸附上盘的下表面设置时，所述吸附上盘的下表面开设有与所述吸附槽对齐的非通透式凹槽，所述气路通孔的下端连通至该非通透式凹槽；

当所述缓冲垫紧贴吸附下盘的上表面设置时，所述吸附下盘的上表面开设有与所述吸附槽对齐的非通透式凹槽，所述气路通孔的上端连通至该非通透式凹槽。

9.根据权利要求8所述的抛光机，其特征在于：所述吸附槽呈类似“回”字形布置，且每两条U形的吸附槽对接后组成一个回路，位于同一回路的两条U形的吸附槽之间相互隔断。

10.根据权利要求1～7中任一项所述的抛光机，其特征在于：所述缓冲垫采用橡胶垫材料制作。