CN203696695U - 一种单晶炉热场清理工作台 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种单晶炉热场清理工作台，属于单晶炉维护技术领域，用于清理热场石墨件，包括支撑底座、位于支撑底座上部的台面、罩于台面上的壳体状封闭室；所述台面面板上均匀分布着开孔；所述开孔与抽吸系统连接；所述台面上中心部位设有旋转托盘；所述封闭室侧壁上设有工作台门；所述封闭室侧壁上连接有气体反吹系统。本实用新型能够有效改善热场清理工作环境，提高热场清理效果，降低劳动强度。
Description
技术领域
本实用新型属于单晶炉维护技术领域。
背景技术
单晶炉是一种在惰性气体环境中，用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化，用直拉法生长无错位单晶的设备，其中，单晶炉热场是单晶炉中必备部件，主要由柱状等静压石墨加工而成，加热、保温、热屏、防漏（硅）等均是通过热场来实现的。单晶炉热场在运行一炉完成后，需要对其进行拆炉清理，清除附着在石墨件上的碳化硅、硅蒸汽等杂质。当前清理石墨件上附着杂质时，操作人员在石墨清理间内作业，主要采用百洁布和小型研磨机，在打磨杂质时容易造成扬尘，粉尘较多，清理作业环境较差；石墨件打磨完成后，需要将其表面扬尘清理干净，目前使用的方法是用吸尘器清理，对其表面粉尘清理质量较差，不能满足清炉质量要求；另外，操作人员清理热场时多为站立或者弯腰工作，不符合人体工程学，员工工作强度大。
实用新型内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供一种单晶炉热场清理工作台，能够有效改善热场清理工作环境，提高热场清理效果，降低劳动强度。
为解决上述技术问题，本实用新型所采取的技术方案是：
一种单晶炉热场清理工作台，用于清理热场石墨件，包括支撑底座、位于支撑底座上部的台面、罩于台面上的壳体状封闭室；所述台面面板上均匀分布着开孔；所述开孔与抽吸系统连接；所述台面上中心部位设有旋转托盘；所述封闭室侧壁上设有工作台门；所述封闭室壁上连接有气体反吹系统。
具体地，所述台面采用不锈钢材质；所述台面面板上设有均匀分布的篦子；所述篦子间隙与位于台面底部的抽气口联通；所述抽气口通过抽气管路与真空泵相连。
所述旋转式托盘的尺寸与热场中的石墨件尺寸相适配；所述旋转托盘同时具备手动转动和电机驱动转动两种转动方式。
所述封闭室为透明树脂材料；所述封闭室主体为横向长方体腔室，顶部为梯形体腔室；所述工作台门位于封闭室腔室前壁上；所述工作台门为一对左右推拉门。
所述封闭室的左右侧壁、顶部梯形体的两侧壁及顶壁上均设有压缩空气喷嘴；所述压缩空气喷嘴通过压缩空气管路与压缩空气连接；所述压缩空气压力为0.5~0.8兆帕。
所述支撑底座为分别位于台面四角底部的支撑柱，采用不锈钢材料。
本实用新型使用时，首先打开工作台门，将待清理的石墨件放置于旋转托盘之上，开启工作台抽气真空泵，操作人员坐于工作台之前，打磨待清理石墨件，手动转动旋转托盘，对石墨件进行全方位清理；打磨过程中产生的粉尘杂质等随着抽气气流通过篦子和抽气管路排走；当石墨件清理完毕之后，开启旋转托盘电机，打开压缩空气喷嘴，一边进行吹扫，一边进行排气，自动完成石墨件上粉尘清理的工作。
采用上述技术方案所产生的有益效果在于：旋转托盘大小与热场中的石墨件尺寸相适配，方便热场石墨件放置；封闭室材质为透明树脂，能够清楚地观察到里面的清理情况；在进行石墨件打磨时，工作台内部为负压状态，打磨产生粉尘会随着气流方向通过篦子和抽气管路排出工作台，不会对环境造成污染；操作人员坐在工作台之前就可以完成工作，手动转动旋转托盘，即可对石墨件进行全方位清理，工作强度小；所述封闭室的左右侧壁、顶部梯形体的两侧壁及顶壁上均设有压缩空气喷嘴，用来对石墨件吹扫，吹扫范围大，压缩空气压力高，同时旋转托盘进行转动，有效保证了粉尘清理效果，且能够自动完成。
附图说明
图1是本实用新型侧视图；
图2是本实用新型立体结构示意图；
图3是本实用新型立体结构剖视示意图；
其中，1、台面，2、工作台门，3、压缩空气管路，4、压缩空气喷嘴，5、封闭室，6、篦子，7、旋转托盘，8、抽气口，9、抽气管路，10、支撑底座。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图1~3所示的一种单晶炉热场清理工作台，用于清理热场石墨件，包括支撑底座10、位于支撑底座10上部的台面1、罩于台面1上的壳体状封闭室5；所述支撑底座10为分别位于台面1四角底部的不锈钢支撑柱。
所述台面1采用不锈钢材质；所述台面1面板上设有均匀分布的篦子6；所述篦子6间隙与位于台面1底部的抽气口8联通；所述抽气口8通过抽气管路9与真空泵相连；在进行石墨件打磨时，工作台内部为负压状态，打磨热产生粉尘会随着气流方向通过篦子和抽气管路排出工作台，不会对环境造成污染。
所述台面1上中心部位设有旋转托盘7；旋转托盘7大小与热场中的石墨托盘大小一致，方便热场石墨件放置；所述旋转托盘7同时具备手动转动和电机驱动转动两种转动方式，分别满足手动进行石墨件打磨和自动进行全方位清理的需求。
所述封闭室5为透明树脂材料，能够清楚地观察到里面的清理情况；所述封闭室5主体为横向长方体腔室，顶部为梯形体腔室；所述工作台门2位于封闭室5腔室前壁上；所述工作台门2为一对左右推拉门，操作人员坐在工作台之前就可以完成工作。
所述封闭室5的左右侧壁、顶部梯形体的两侧壁及顶壁上均设有压缩空气喷嘴4；所述压缩空气喷嘴4通过压缩空气管路3与压缩空气连接，所述压缩空气压力为0.6兆帕，用来对石墨件吹扫，吹扫范围大，压缩空气压力高，同时旋转托盘进行转动，有效保证了粉尘清理效果，且能够自动完成。
本实用新型使用时，首先打开工作台门，将待清理的石墨件放置于旋转托盘之上，开启工作台抽气真空泵，操作人员坐于工作台之前，打磨待清理石墨件，手动转动旋转托盘，对石墨件进行全方位清理；打磨过程中产生的粉尘杂质等随着抽气气流通过篦子和抽气管路排走；当石墨件清理完毕之后，开启旋转托盘电机，打开压缩空气喷嘴，一边进行吹扫，一边进行排气，自动完成石墨件上粉尘清理的工作。
Claims (7)
1.一种单晶炉热场清理工作台，用于清理热场石墨件，其特征在于：包括支撑底座（10）、位于支撑底座（10）上部的台面（1）、罩于台面（1）上的壳体状封闭室（5）；所述台面（1）面板上均匀分布着开孔；所述开孔与抽吸系统连接；所述台面（1）上中心部位设有旋转托盘（7）；所述封闭室（5）侧壁上设有工作台门（2）；所述封闭室（5）壁上连接有气体反吹系统。
2.根据权利要求１所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述台面（1）采用不锈钢材质；所述台面（1）面板上设有均匀分布的篦子（6）；所述篦子（6）间隙与位于台面（1）底部的抽气口（8）联通；所述抽气口（8）通过抽气管路（9）与真空泵相连。
3.根据权利要求１所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述旋转式托盘（7）的尺寸与热场中的石墨件尺寸相适配；所述旋转托盘（7）同时具备手动转动和电机驱动转动两种转动方式。
4.根据权利要求１所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述封闭室（5）为透明树脂材料；所述封闭室（5）主体为横向长方体腔室，顶部为梯形体腔室。
5.根据权利要求１或4所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述工作台门（2）位于封闭室（5）腔室前壁上；所述工作台门（2）为一对左右推拉门。
6.根据权利要求１所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述封闭室（5）的左右侧壁、顶部梯形体的两侧壁及顶壁上均设有压缩空气喷嘴（4）；所述压缩空气喷嘴（4）通过压缩空气管路（3）与压缩空气连接；所述压缩空气压力为0.5~0.8兆帕。
7.根据权利要求１所述的一种单晶炉热场清理工作台，其特征在于：所述支撑底座（10）为分别位于台面（1）四角底部的支撑柱，采用不锈钢材料。
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|---|---|---|---|---|
| CN104538289A (zh) * | 2014-12-17 | 2015-04-22 | 中国科学院半导体研究所 | 一种多片碳化硅半导体材料制造装置 |
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