CN203620868U - 电容器真空含浸吸拭一体结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型系揭露一种电容器真空含浸吸拭一体结构，其包括一真空槽机构、一转盘、一浸渍机构、一吸拭机构、数个第一移动机构、一第二移动机构、一转动机构及一第三移动机构。浸渍机构及吸拭机构配合第三移动机构，可上下位移的设置于真空槽机构，而转盘则配合第一移动机构及一转动机构，设置于真空槽机构上方，藉由第一移动机构使转盘可选择性的盖合真空槽机构，并藉由转动机构选择性的翻转转盘，另外，第二移动机构部份构件，分别配置于真空槽机构、第一移动机构及转盘，除提供转盘夹持电容器外，并可位移电容器分别对应浸渍机构及吸拭机构，使电容器可于真空槽机构内，以及负大气压力的环境下，同时完成电容器含浸吸拭等加工需求。

Description

电容器真空含浸吸拭一体结构

技术领域

本实用新型系关于一种电容器含浸装置，特别是指于负大气压力下进行电容器含浸加工之一种电容器真空含浸吸拭一体结构。 

背景技术

按，一般电子电路中，多会使用到电容器；因此，电容器对电子类产品来说，虽然不是关键的零组件，但其质量却直接影响到使用该电容器的电子产品良率。而电容器在制造的过程中，其中一个工序需将电容器进行浸渍，用以进行物理特性的处理，传统电容器的含浸装置作业方式，皆在正常的大气压力环境下，将电容器先经过浸渍后，再移置另一区域进行吸拭，将多余的浸渍液回收。 

然而，习知浸渍作业因在正常的大气压力环境；故电容器插入浸渍液时，会有压差的产生，以致电容器内形成微小气泡，而这些气泡会造成电容器无法完全被浸渍的缺失，导致电容器的不良。 

再者，在正常的大气压力下，要将浸渍液完全的渗入电容器，或将多余的浸渍液自电容器上吸拭，由于压差的关系，都需耗费相当的时间，造成作业与工序的冗长。且在习知技艺的吸拭过程中，电容器与空气完全接触，因浸渍液的特性，会导致含浸后的电容器与空气接触时间过长，容易吸收空气中的水分子，导致电容器质量不稳定，降低电容器寿命。 

实用新型内容

有鉴于上述习知技艺之问题与缺失，本实用新型之主要目的，就是在于提供一种电容器真空含浸吸拭一体结构，使电容器进行浸渍的工序中，可于负大气压力的环境下，同时完成浸渍与吸拭的动作，避免习知电容需分别作业的麻烦，与造成浸渍或吸拭的不良与电容器与含水空气接触之缺失。 

根据本实用新型上述目的，提供一种电容器真空含浸吸拭一体结构，所述结构包括： 

一真空槽机构，至少包含一真空槽，该真空槽具有一朝上开 

放之容置空间，以及数个贯穿该真空槽槽底之穿孔； 

一转盘，兼具盖板功能，对应该真空槽而可选择性的开闭该真空槽之开放端，该转盘两侧分别设有一传动枢轴及一被动枢轴，且该传动枢轴与该被动枢轴位于同一轴线； 

一浸渍机构，包含； 

一浸渍槽，系设置于该容置空间，具有一朝上开放之储液空间，该浸渍槽底部贯穿设有一入液孔及一出液孔； 

一进液管，为一中空之管体，该进液管一端与该入液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一入液阀连接，而可选择性的开闭该进液管；以及 

一出液管，为一中空之管体，该出液管一端与该出液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一出液阀连接，而可选择性的开闭该出液管； 

一吸拭机构，包含； 

一吸拭座，设置于该容置空间，该吸拭座贯穿设有至少一吸气穿孔；以及 

至少一吸气管，该吸气管为一中空之管体，一端连接该吸气穿孔，另端则可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一真空泵连接； 

数个第一移动机构，系对称设置于该真空槽相对之两侧，包含； 

数个导杆座，各该导杆座对称设置于该真空槽外侧； 

数支导杆，各该导杆可活动的垂直穿伸相对应之各该导杆座，且各该导杆至少一未端分别与一横杆连结；以及 

一第一压力缸，该第一压力缸与相对应之该横杆连接， 

以连动各该导杆同步上、下位移； 

一第二移动机构，包含； 

至少一滑轨组，该滑轨组分别设置于该转盘； 

至少一夹具组，该夹具组系设置蓝该滑轨组，并受该滑轨组选择性的于第一位置与第二位置之间位移；以及 

一下压力缸，该下压力缸设置于该真空槽外侧，且该下压力缸之顶杆穿伸该真空槽，并并选择性的与该转盘朝下面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置； 

一转动机构，至少包含数个轴座，各该轴座分别设置于相对应之该横杆，提供该传动枢轴、及该被动枢轴枢接；以及 

一第三移动机构，包含； 

一三角盘，该三角盘具有数个连接孔，各该连接孔分别与该进液管及该出液管一端套接，且该三角盘外周缘并与各该吸气管一端之外缘靠抵； 

一平衡杆，该平衡杆两端分别套衔各该吸气管一端； 

一调整螺栓，该调整螺栓分别贯穿并螺合该三角盘及该平衡杆，使该平衡杆与该三角盘同步连动；以及 

一第二压力缸，该第二压力缸系设置于该真空槽外侧底部，并与该三角盘连结，藉由该第二压缸之作动，连动该三角盘上、下位移，并同步连动该进液管、该出液管及各该吸气管上、下位移，使该进液管、该出液管及各该吸气管另端连接之该浸渍槽及该吸拭座，可选择性的于第一高度位置与第二高度位置之间上、下位移。 

藉由上述机构之组成，使电容器可于真空槽机构内，以及负大气压力的环境下，同时完成电容器含浸吸拭之加工需求。 

较佳的，上述滑轨组包含数支滑轨、数个滑座以及至少一弹性组件；滑座设置于各滑轨，并沿各滑轨于第一位置及第二位置间移动，而弹性组件一端对应各滑轨第一位置而固设于转盘上， 另端则固设于滑座，使滑座常态抵靠于各滑轨之第一位置。 

较佳的，上述真空槽机构进一步设有一泄气阀，泄气阀贯穿真空槽设置于真空槽外侧，而可选择性的解除真空槽的真空状态。 

较佳的，上述真空槽进一步于底部贯穿设有一泄液孔，并配合泄液孔设有一电磁阀闸口，而可选择性的开闭泄液孔，方便真空槽之清洁。 

较佳的，上述浸渍槽进一步包含有数个锁合件，各锁合件穿伸入、出液孔而分别与进、出液管连接，且各锁合件具有一流道，该流道连通浸渍槽及进液管与出液管。 

较佳的，上述浸渍机构进一步包含有至少一液面传感器，液面传感器系设置于真空槽，并与浸渍槽位置相对应，且与进液阀或(及)出液阀电性连接，以感测浸渍槽之液面，而使进液阀或(及)出液阀可选择性的开闭。 

较佳的，上述第二移动机构，进一步包含有一上压力缸，上压力缸设置于预设之横杆，并选择性的与转盘朝上面对应，而选择性的推顶夹具组藉由滑轨组，由第一位置位移至第二位置。 

较佳的，上述转动机构进一步包含有一马达，马达系设置于预设之横杆，并与传动枢轴连接，而可选择性的翻转转盘。 

较佳的，上述转动机构进一步包含有一准位盘及一传感器，准位盘同轴设置于马达；传感器，电性连接马达，并设置于各轴座其中之一，且位置与准位盘相对应，配合准位盘及传感器，以控制马达旋转之角度。 

较佳的，上述吸拭机构，进一步包含有一吸拭面盖，该吸拭面盖设有数道穿槽。 

较佳的，上述吸拭座进一步设有一集液凹槽，且集液凹槽与各穿槽配合，提升真空泵于穿槽位置之吸力。 

附图说明

通过参照附图更详细地描述本实用新型的示例性实施例，本实用新型的以上和其它方面及优点将变得更加易于清楚，在附图中： 

第1图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例示意图一。 

第2图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例示 意图二。 

第3图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例部份分解示意图一。 

第4图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例部份分解示意图二。 

第5图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例作动示意图一。 

第6图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例作动示意图二。 

第7图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例剖面作动示意图一。 

第8图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例剖面作动示意图二。 

第9图本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例剖面作动示意图三。 

【符号说明】 

110  真空槽 

111：槽壁 

112：槽底 

113：容置空间 

114：容置槽 

115：凹部 

116：泄液孔 

117：穿孔 

119：泄气阀 

120：防水垫圈 

130：防水滑套 

140：转盘 

141：传动枢轴 

142：被动枢轴 

210：浸渍槽 

211：储液空间 

212：入液孔 

213：出液孔 

220：进液管 

230：出液管 

240：锁合件 

241：流道 

250：进液阀 

260：出液阀 

270：液面传感器 

310：吸拭面盖 

311：穿槽 

320：吸拭座 

321：集液凹槽 

322：吸气穿孔 

330：吸气管 

340：连接件 

350：真空泵 

410、410’：导杆座 

420、420’：导杆 

431、431’、432：横杆 

440、440’：第一压力缸 

441、441’：顶杆 

510：滑轨组 

511：滑轨 

512：滑座 

513：弹性组件 

520：夹具组 

530：上压力缸 

531：顶杆 

540：下压力缸 

541：顶杆 

610：轴座 

611：轴孔 

620：马达 

621：传动轴 

630：准位盘 

640：传感器 

710：三角盘 

711：连接孔 

712：凹边 

720：平衡杆 

730：调整螺栓 

740：第二压力缸 

C：电容器 

具体实施方式

以下请参照相关图式进一步说明本实用新型电容器真空含浸吸拭一体结构实施例。为便于理解本实用新型实施方式，以下相同组件系采相同符号标示说明。 

请参阅第1至9图所示，本实用新型之电容器真空含浸吸拭一体结构，其包括一真空槽机构、一转盘、一浸渍机构、一吸拭机构、数个第一移动机构、一第二移动机构、一转动机构及一第三移动机构。浸渍机构及吸拭机构配合第三移动机构可上、下位移的设置于真空槽机构，而转盘配合第一移动机构及一转动机构，设置于真空槽机构上方，藉由第一移动机构使转盘可选择性的盖合真空槽机构，并藉由转动机构选择性的翻转转盘，另外，第二移动机构分别配置于真空槽机构、第一移动机构及转盘预设处，除提供转盘夹持电容器外，并可位移电容器分别对应浸渍机构及吸拭机构，使电容器可于真空槽机构内，以及负大气压力的环境下，同时完成电容器含浸吸拭之加工需求。 

上述真空槽机构(如第1～3图所示)，包含有一真空槽110、一防水垫圈120及数个防水滑套130。真空槽110包含有数个槽壁111、一槽底112、一容置空间113、一容置槽114、一凹部115、一泄液孔116、数个穿孔117、一电磁阀闸口(图中未示)及一泄气阀119。该真空槽110系由各槽壁111沿槽底112绕围所构成一 具朝上开放之容置空间113。容置槽114沿各槽壁111顶端形成，提供防水垫圈120设置，而凹部115则形成于槽底112。另外，泄液孔116及各穿孔117则分别贯穿槽底112（凹部115）形成于真空槽110。电磁阀闸口（图中未示）对应泄液孔116设置，而可选择性的开闭该泄液孔116，方便槽底112之清洁。该泄气阀119贯穿槽壁111设置于真空槽110外侧，而可选择性的解除真空槽110之真空状态(实施时，可选择性的省略)。另外，各穿孔117提供各防水滑套130对应设置。 

上述转盘140(如第1、2及4图所示)，兼具盖板功能，对应真空槽110而可选择性的开闭真空槽110之开放端。转盘140两侧对称分别设有一传动枢轴141及一被动枢轴142，且传动枢轴141与被动枢轴142为同一轴线。 

上述浸渍机构(如第1～3图所示)，包括有一浸渍槽210、一进液管220、出液管230、两锁合件240、一进液阀250、一出液阀260及至少一液面传感器270。该浸渍槽210包含有一储液空间211、一入液孔212及一出液孔213。浸渍槽210具有一朝上开放之储液空间211，而入液孔212及出液孔213分别贯穿浸渍槽210底部形成。进、出液管220、230，为一中空之管体，可活动的穿伸于对应之真空槽110穿孔117，配合锁合件240穿伸入、出液孔212、213与进、出液管220、230连接，使浸渍槽210与进、出液管220、230形成连结，并容置于真空槽110之容置空间113。锁合件240具有连通浸渍槽210储液空间211及进（出）液管220、230之流道241。而入液阀250及出液阀260分别与储液槽(图中未示)及进、出液管220、230之一端连接，藉由入液阀250及出液阀260自储液槽（图中未示）补给浸渍液至储液空间211或自储液空间211回收浸渍液，以控制储液空间211内之液面高低。液面传感器270系设置于槽壁110并与浸渍槽210位置相对应，且与进液阀250及出液阀260电性连接，用以感测浸渍槽210其储液空间211之液面，而使进液阀250及出液阀260可选择性的开闭。 

上述吸拭机构(如第1～3及7图所示)，包含有一吸拭面盖310、一吸拭座320、两吸气管330、两连接件340及一真空泵 350(如第7图所示)。吸拭面盖310具有数道穿槽311。吸拭座320提供吸拭面盖310迭设，并容置于真空槽110之容置空间113，其包含有一集液凹槽321及数个吸气穿孔322，其中集液凹槽321与各穿槽311位置相对应。各吸气管330为一中空之管体，配合连接件340连接吸气管330一端及吸拭座320之吸气穿孔322，而吸气管330另端则可活动的穿伸穿孔117至真空槽110外侧，并与真空泵350连接，藉由真空泵350配合集液凹槽321使穿槽311处形成强力吸力。 

各第一移动机构(如第1～4图所示)，系对称设置于真空槽110外相对之两侧，包含两导杆座410、410’两导杆420、420、至少一横杆431、431’（432）及一第一压力缸440、440’。两导杆座410、410’对称设置于真空槽110外表面，而各导杆420、420’可活动的垂直穿伸相对应之导杆座410、410’，且各导杆420、420’一未端与横杆431、431’连接。实施时，各导杆420、420’两端更可分别与横杆431、432连接。另外，第一压力缸440、440’则藉由顶杆441、441’与对应之横杆431’、432连接。 

各第二移动机构(如第1～4图所示)，包含数个滑轨组510、数个夹具组520、一上压力缸540、一下压力缸550。各滑轨组510对称的分别设置于转盘140两面，包含有数支滑轨511、数个滑座512以及至少一弹性组件513。滑座512设置于滑轨511，并沿滑轨511于第一位置及第二位置间移动，而弹性组件513一端对应滑轨511第一位置而固设于转盘140上，另端则固设于滑座512，使各滑座512常态抵靠于各滑轨511之第一位置。夹具组520系设置于转盘140两面相对应之滑座512上，提供夹持电容器C端脚(夹具组520为习知技艺)。上压力缸530设置于第一移动机构之横杆431，且上压力缸530之顶杆531并与转盘140朝上面之夹具组520位置相对应，而可选择性的推顶夹具组520沿滑轨511自第一位置往第二位置移动。而下压力缸540则设置于真空槽110一侧，并使下压力缸540之顶杆541穿伸真空槽110，而与转盘140朝下面之夹具组520位置相对应，且可选择性的推顶夹具组520沿滑轨511自第一位置往第二位置间移动。 

上述转动机构(如第4图所示)，包含数个轴座610、一马达 620、一准位盘630及一传感器640。各轴座610分别设置于第一移动机构上方之横杆431、431’，至少具有一轴孔611，各轴座610提供转盘140之传动枢轴141与被动枢轴142枢设。轴座610更分别提供上压力缸530连接与顶杆531之穿伸，以及马达620之设置与传动轴621之穿伸。使马达620传动轴621与转盘140之传动枢轴141连接，并提供转盘140翻转之动力。准位盘630同轴设置于马达620传动轴621上并同步旋转。传感器640设置于轴座610且位置与准位盘630相对应，并与马达620电性连接，配合准位盘630以控制马达620旋转之角度。实施时，准位盘630可以准位孔方式配合传感器640感测准位孔位置，配合电性连接马达620旋转(习知技艺)。 

上述第三移动机构(如第3图所示)，包含一三角盘710、一平衡杆720、一调整螺栓730及一第二压力缸740。三角盘710具有数个连接孔711及数个凹边712。各连接孔711提供进、出液管220、230一端套接，而各凹边712提供各吸气管330一端之外侧缘靠抵。平衡杆720两端分别套接各吸气管330一端之外表面。而调整螺栓740则贯穿并螺合平衡杆720及三角盘710，除使平衡杆720与三角盘710同步连动外，并可调节平衡杆720及各吸气管330轴向的高低，以连动吸气管330另端吸拭座320相对于浸渍槽210之高低。第二压力缸740系设置于真空槽110外底侧，而第二压力缸740之顶杆741则与三角盘710连结，藉由第二压缸740之作动，使三角盘710可垂直的上、下位移，并同步连动进、出液管220、230及吸气管330上、下位移，使进、出液管220、230及吸气管330另端连接之浸渍槽210及吸拭座320，可于第一高度与第二高度之间上、下位移，且下吸拭座320常态位于第一高度位置。 

是以，上述即为本实用新型所提供一较佳实施例，电容器真空含浸吸拭一体结构的各部构件介绍，接着再将本实用新型之组装方式及使用特点介绍如下：首先，请参阅第1～9图所示，将待浸置之电容器C设置于夹具组520后，该转动机构之马达620作动，藉由传动轴621旋转同轴连接之传动枢轴141而翻转转盘140，使待浸置之电容器C朝下面向浸渍槽210。马达620转动时 同步转动同轴设置之准位盘630，配合传感器640确保该马达620旋转之角度，使转盘140可呈180度的正反面翻转；后续作动如下: 

<浸渍液调节> 

进液阀250选择性的开闭，使浸渍液由储液槽(图中未示)补给，经进液管220而流入浸渍槽210之储液空间211，配合液面传感器270感测，取得浸渍槽210储液空间211之液面高度，确保电容器C能完全被浸渍(脚部除外)。当液面传感器270感测浸渍槽210之液面高度过高时，电性连接之出液阀260作动而选择性的开闭出液管230，使浸渍槽210内之浸渍液可经由出液管230，回流到储液槽(图中未示)。 

<转盘盖合真空槽机构> 

设于真空槽110两侧之第一移动机构同步作动，使第一压缸440、440’收缩而下拉横杆432(431’)，同步连动各导杆420、420’沿导杆座410、410’垂直下降，使枢设于横杆431、431’上之转盘140下降，并盖合真空槽110之开放端，且压抵各槽壁111顶端，配合防水垫圈120，使真空槽110之容置空间113形成密闭。 

<真空槽机构抽真空> 

吸拭机构之真空泵350启动，使真空槽110容置空间113内之空气沿穿槽311、吸拭座320、吸气穿孔322及吸气管330后，被真空泵350抽离真空槽110，确保真空槽110内保持趋近于真空(负大气压力)的状态。 

<浸渍电容器> 

待真空槽内趋近于真空时(负大气压力)，第三移动机构之第二压力缸740作动，拉动三角盘710向上位移，并同步连动进、出液管220、230及吸气管330向上位移，使进、出液管220、230及吸气管330另端连接之浸渍槽210及吸拭座320，自第一高度位置朝第二高度位置位移。待浸渍槽210及吸拭座320到达第二高度位置时，浸渍槽210内之浸渍液恰好淹没电容器C至一预设高度。且由于真空槽110内处于真空状态(负大气压力)，故可有效的避免电容器C内含有气泡，产生浸渍不完全而导致不良品之 缺失。 

<吸拭电容器> 

待电容器C浸渍一预设时间后，第三移动机构之第二压力缸740作动，推动三角盘710向下位移，并同步连动进、出液管220、230及吸气管330向下位移，使进、出液管220、230及吸气管330另端连接之浸渍槽210及吸拭座320，自第二高度位置朝第一高度位置移动。浸渍槽210及吸拭座320(吸拭面盖310)到达第一高度位置后。第二移动机构之下压力缸540作动，使顶杆541推顶夹具组520沿滑轨511自第一位置往第二位置移动，并拉伸弹性组件513形成蓄压状态，且保持夹具组520位于第二位置。 

当夹具组520位于第二位置。第三移动机构之第二压力缸740作动，拉动三角盘710向上位移，并同步连动进、出液管220、230及吸气管330向上位移，使进、出液管220、230及吸气管330另端连接之浸渍槽210及吸拭座320，自第一高度位置朝第二高度位置移动。浸渍槽210及吸拭座320(吸拭面盖310)到达第二高度位置，电容器C朝下端恰好置于吸拭面盖310之穿槽311上，使得电容器C上多余之浸渍液，则沿穿槽311、吸拭座320、吸气穿孔322及吸气管330后被真空泵350抽离，避免电容器C过多的浸渍液造成电容器生产时，后续步骤的困扰，而被真空泵350抽离之浸渍液更可经由外部设备进行回收(图中未示，习知技艺)。 

<浸渍电容器回收> 

位于第二位置之电容器C吸拭完成后。第三移动机构之第二压力缸740作动，推动三角盘710向下位移，并同步连动进、出液管220、230及吸气管330向下位移，使进、出液管220、230及吸气管330另端连接之浸渍槽210及吸拭座320，自第二高度位置朝第一高度位置位移。 

此时；第二移动机构之下压力缸540作动回缩顶杆541，而不再推顶夹具组520。使得滑座512受弹性组件513之弹性回复力牵引，沿滑轨511于第二位置往第一位置移动，并同步位移于设于滑座512上之夹具组520回到第一位置。 

真空槽机构之泄气阀119启动，解除真空槽机构之真空状态后(实施时，亦可藉由吸拭机构其真空泵350的停止来达成)。设 于真空槽110两侧之第一移动机构同步作动，令第一压力缸440、440’顶撑上移横杆432、431’，同步连动各导杆420、420’沿导杆410、410’座垂直上升，使枢设于横杆431、431’上之转盘140亦上升并开放真空槽110之开放端。 

转盘140上升回到预设高度后，转动机构之马达620作动，藉由传动轴621旋转转盘140传动枢轴141并翻转转盘140，使浸置完成之电容器C由朝下面翻至朝上后。第二移动机构之上压力缸530作动使顶杆531推顶夹具组520沿滑轨511自第一位置往第二位置移动，并拉伸弹性组件513形成蓄压的状况，且保持夹具组520位于第二位置。供外部机构(习知技艺)可收拾浸渍过后之电容器C，待收拾完成后。第二移动机构之上压力缸530作动回缩顶杆531，而不再推顶夹具组520。使得滑座512受弹性组件513弹性回复力之牵引，沿滑轨511于第二位置往第一位置移动，并同步位移设于滑座512上之夹具组520回到第一位置。如此便可再重复上述步骤进行下批电容器C之浸渍工序。 

以上所述说明，仅为本实用新型的较佳实施方式而已，意在明确本实用新型的特征，并非用以限定本实用新型实施例的范围，本技术领域内的一般技术人员根据本实用新型所作的均等变化，以及本领域内技术人员熟知的改变，仍应属本实用新型涵盖的范围。 

Claims (11)

1.一种电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，所述结构包括： 

一真空槽机构，至少包含一真空槽，该真空槽具有一朝上开放之容置空间，以及数个贯穿该真空槽槽底之穿孔； 

一转盘，兼具盖板功能，对应该真空槽而可选择性的开闭该真空槽之开放端，该转盘两侧分别设有一传动枢轴及一被动枢轴，且该传动枢轴与该被动枢轴位于同一轴线； 

一浸渍机构，包含； 

一浸渍槽，系设置于该容置空间，具有一朝上开放之储液空间，该浸渍槽底部贯穿设有一入液孔及一出液孔； 

一进液管，为一中空之管体，该进液管一端与该入液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一入液阀连接，而可选择性的开闭该进液管；以及 

一出液管，为一中空之管体，该出液管一端与该出液孔连接，另端可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一出液阀连接，而可选择性的开闭该出液管； 

一吸拭机构，包含； 

一吸拭座，设置于该容置空间，该吸拭座贯穿设有至少一吸气穿孔；以及 

至少一吸气管，该吸气管为一中空之管体，一端连接该吸气穿孔，另端则可活动的自各该穿孔其中之一穿伸出该真空槽机构，并与一真空泵连接； 

数个第一移动机构，系对称设置于该真空槽相对之两侧，包含； 

数个导杆座，各该导杆座对称设置于该真空槽外侧； 

数支导杆，各该导杆可活动的垂直穿伸相对应之各该导 

杆座，且各该导杆至少一未端分别与一横杆连结；以及 

一第一压力缸，该第一压力缸与相对应之该横杆连接，以连动各该导杆同步上、下位移； 

一第二移动机构，包含； 

至少一滑轨组，该滑轨组分别设置于该转盘； 

至少一夹具组，该夹具组系设置蓝该滑轨组，并受该滑轨组选择性的于第一位置与第二位置之间位移；以及 

一下压力缸，该下压力缸设置于该真空槽外侧，且该下压力缸之顶杆穿伸该真空槽，并并选择性的与该转盘朝下面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置； 

一转动机构，至少包含数个轴座，各该轴座分别设置于相对应之该横杆，提供该传动枢轴及该被动枢轴之枢接；以及一第三移动机构，包含； 

一三角盘，该三角盘具有数个连接孔，各该连接孔分别与该进液管及该出液管一端套接，且该三角盘外周缘并与各该吸气管一端之外缘靠抵； 

一平衡杆，该平衡杆两端分别套衔各该吸气管一端； 

一调整螺栓，该调整螺栓分别贯穿并螺合该三角盘及该平衡杆，使该平衡杆与该三角盘同步连动；以及 

一第二压力缸，该第二压力缸系设置于该真空槽外侧底部，并与该三角盘连结，藉由该第二压缸之作动，连动该三角盘上、下位移，并同步连动该进液管、该出 液管及各该吸气管上、下位移，使该进液管、该出液管及各该吸气管另端连接之该浸渍槽及该吸拭座，可选择性的于第一高度位置与第二高度位置之间上、下位移。 

2.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该滑轨组包含数支滑轨、数个滑座以及至少一弹性组件；该滑座设置于各该滑轨，并沿各该滑轨于第一位置及第二位置间移动，而该弹性组件一端对应各该滑轨第一位置而固设于该转盘上，另端则固设于该滑座，使该滑座常态抵靠于各该滑轨之第一位置。 

3.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该真空槽机构进一步设有一泄气阀，该泄气阀贯穿该真空槽设置于该真空槽外侧，而可选择性的解除该真空槽的真空状态。 

4.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该真空槽，进一步于该真空槽底部贯穿设有一泄液孔，并配合该泄液孔设有一电磁阀闸口，而可选择性的开闭该泄液孔，方便该真空槽之清洁。 

5.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该浸渍槽进一步包含有数个锁合件，各该锁合件穿伸该入液孔、该出液孔而分别与该进液管及该出液管连接，且各该锁合件具有一流道，该流道连通该浸渍槽及该进液管与该出液管。 

6.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该浸渍机构进一步包含有至少一液面传感器，该液面传感器系设置于该真空槽，并与该浸渍槽位置相对应，且与该进液阀或/和该出液阀电性连接，以感测该浸渍槽之液 面，而使进液阀或/和该出液阀可选择性的开闭。 

7.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该第二移动机构，进一步包含有一上压力缸，该上压力缸设置于预设之该横杆，并选择性的与该转盘朝上面对应，而选择性的推顶该夹具组藉由该滑轨组，由第一位置位移至第二位置。 

8.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该转动机构进一步包含有一马达，该马达系设置于预设之该横杆，并与该传动枢轴连接，而可选择性的翻转该转盘。 

9.根据权利要求8所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该转动机构进一步包含有一准位盘及一传感器，该准位盘同轴设置于该马达；该传感器，电性连接该马达，并设置于各该轴座其中之一，且位置与该准位盘相对应，配合该准位盘及该传感器，以控制该马达旋转之角度。 

10.根据权利要求1所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该吸拭机构，进一步包含有一吸拭面盖，该吸拭面盖设有数道穿槽。 

11.根据权利要求10所述的电容器真空含浸吸拭一体结构，其特征在于，其中该吸拭座进一步设有一集液凹槽，且该集液凹槽与各该穿槽配合，提升该真空泵于该穿槽位置之吸力。 

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