CN203343835U - 一种带式滚筒多粒平面磨抛机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒上下移动的升降装置I，所述抛光装置包括抛光滚筒、驱动抛光滚筒转动的驱动机构II、驱动抛光滚筒上下移动的升降装置II。本实用新型采用输送带连续不停送料的方式进行研磨抛光加工颗粒产品的平面，达到镜面效果，可根据颗粒产品的大小在输送带上方依次放置多个研磨装置和抛光装置，其加工效率高、产量大、生产成本低，构造简单精巧，消耗电量底，符合国家节能减排的政策需求。

Description

一种带式滚筒多粒平面磨抛机

技术领域

本实用新型涉及玻璃、陶瓷或水晶等颗粒状饰品上下大小平面加工的一种机械，特别是玻璃水晶钻石等饰品加工的机械。 

背景技术

现有加工玻璃水晶钻石饰品平面的机械是：研磨抛光用的是平板式圆盘。流程是：采用多工位回转断续跳跃式，第一步装夹产品，第1次转动到粗磨盘下方停止，上升粗磨，磨好下降，第2次转动到细磨盘下方停止，上升细磨，磨好再下降，第3次转动到粗抛盘下方停止，上升粗抛，抛好下降，第4次转动到细抛盘下方停止，上升细抛，抛好下降，回转到原位。相比缺点：能耗大，质量不稳定，产量低，机械造价高。 

实用新型内容

本实用新型所要解决的问题是，针对上述技术的不足，设计出一种结构合理，加工效率高，节能的连续带式滚筒多粒平面磨抛机。 

一种带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带、至少一个位于输送带上方的研磨装置、至少一个位于输送带上方的抛光装置，所述研磨装置和抛光装置沿输送带输送方向依次排列，所述研磨装置包括研磨滚筒、驱动研磨滚筒转动的驱动机构I、驱动研磨滚筒上下移动的升降装置I，所述抛光装置包括抛光滚筒、驱动抛光滚筒转动的驱动机构II、驱动抛光滚筒上下移动的升降装置II。 

进一步，所述输送带上放置有多个用于放置待加工产品的板。 

进一步，所述研磨装置和／或抛光装置旁设有喷淋机构。 

进一步，所述升降装置I包括多条竖直安装在机架上的丝杆I、用于放置研磨滚筒的支架I以及放置在支架I上的电机I，所述支架I通过带齿螺母I安装在丝杆I上，电机I通过链条I驱动带齿螺母I上下移动。 

进一步，所述升降装置II包括多条竖直安装在机架上的丝杆II、用于放置抛光滚筒的支架II以及放置在支架II上的电机II，所述支架II通过带齿螺母II安装在丝杆II上，电机II通过链条II驱动带齿螺母II上下移动。 

进一步，所述抛光滚筒旁设有修整装置。 

进一步，所述修整装置包括车刀、驱动车刀沿抛光滚筒外圆来回移动的修平驱动装置。 

进一步，所述抛光滚筒安装在一可水平移动的摇摆装置上。 

进一步，所述摇摆装置包括摇摆气缸，摇板座及光杆。 

本实用新型的有益效果是：本实用新型采用输送带连续不停送料的方式进行研磨抛光加工颗粒产品的平面，达到镜面效果，可根据颗粒产品的大小在输送带上方依次放置多个研磨装置和抛光装置，用于粗磨、精磨、粗抛、精抛等，其加工效率高、产量大、生产成本低，构造简单精巧，消耗电量底，符合国家节能减排的政策需求。 

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明： 

图1为本实施例的结构示意图； 

图2为图1的主视图； 

图3为研磨装置的结构示意图； 

图4为抛光装置的结构示意图； 

图5为抛光装置另一角度的结构示意图。 

具体实施方式

参照图1至图5，本实用新型所提供的一种连续带式滚筒多粒平面磨抛机，包括输送带1、一个位于输送带1上方的研磨装置2、一个位于输送带1上方的抛光装置3，根据加工需要，亦可在输送带1放置多个研磨装置2和抛光装置3，分别用于粗磨、精磨、粗抛、精抛。为了方便固定待加工的颗粒，所述输送带1上连续放置多板产品4，每板产品4的上面固定有多粒产品。所述输送带1上放置有多个用于放置待加工产品的板4，每块板4上面固定有多粒原料，固定方法有：吸塑，坑槽，胶水(蜡、沥青等)据体要看哪种产品而定。 

在本实施例中，所述研磨装置2和抛光装置3沿输送带1输送方向依次排列，所述研磨装置2包括研磨滚筒21、驱动研磨滚筒21转动的驱动机构I22、驱动研磨滚筒21上下移动的升降装置I，所述研磨滚筒21的自转轴线垂直于输送带1的输送方向。参照图3，所述升降装置I包括四条竖直安装在机架7上的丝杆I23、用于放置研磨滚筒21的支架I24以及放置在支架I24上的电机I25，所述支架I24的四个角通过带齿螺母I27、推力轴承I以及丝杆底座I安装在丝杆I23上，链条I26环绕在支架I24的四周并同时与四个带齿螺母I27以及电机I25连接，电机I25通过链条I26驱动带齿螺母I27沿丝杆123上 下移动。所述电机I25为小型减速马达。在此处，链条I26亦可采用皮带代替，具有相同的技术效果。所述驱动机构I22为电动机，并通过皮带与研磨滚筒21连接，驱动机构I22与研磨滚筒21均安装在支架I24上。 

参照图4、图5，所述抛光装置3包括抛光滚筒31、驱动抛光滚筒31转动的驱动机构II32、驱动抛光滚筒31上下移动的升降装置II，所述抛光滚筒31的自转轴线垂直于输送带1的输送方向。升降装置II与升降装置I的结构基本相同，所述升降装置II包括四条竖直安装在机架7上的丝杆II33、用于放置抛光滚筒31的支架II34以及放置在支架II34上的电机II35，所述支架II34的四个角通过带齿螺母II37、推力轴承II以及丝杆底座II安装在丝杆II33上，电机II35通过链条II36驱动带齿螺母II37沿丝杆II33上下移动。所述电机II35亦为小型减速马达，所述驱动机构II32亦为电动机，并通过皮带与抛光滚筒31连接，所述驱动机构II32与抛光滚筒31均安装在一可水平移动的摇摆装置6上，所述摇摆装置6包括摇摆气缸61，摇板座62、直线轴承座及光杆63，通过摇摆装置6实现抛光滚筒31在水平方向上的摇摆，使其抛光效果更好。在本实施例中，所述摇摆装置6安装在支架II34上。 

进一步，所述研磨装置2和／或抛光装置3旁设有喷淋机构，喷淋机构所喷出的液体正对着研磨滚筒21和／或抛光滚筒31，起到冷却散热润滑等作用，该喷淋机构未在附图中画出。 

作为优选的实施方式，所述抛光滚筒31旁设有修整装置5，所述修整装置5包括车刀51、驱动车刀51沿抛光滚筒31外圆来回移动的 修平驱动装置，所述修平驱动装置包括电机Ⅱ152、传动链轮53、丝杆固定座、丝杆ⅡI54、丝杆运动座、直线轴承座等部件。所述电机Ⅱ152为小型减速马达。当抛光滚筒31使用过一段时间后，当其表面出现磨损、不平整等状况时，驱动车刀51对抛光滚筒31表面进行修整，保证抛光滚筒31表面处于最佳的工作状态，保证了产品的加工质量。 

以上所述，仅是本实用新型优选的实施例，并非对本实用新型作完全的限制，凡是依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化或装饰，均属本实用新型技术方案的范围。 

Claims (9)

1.一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：包括输送带(1)、至少一个位于输送带(1)上方的研磨装置(2)、至少一个位于输送带(1)上方的抛光装置(3)，所述研磨装置(2)和抛光装置(3)沿输送带(1)输送方向依次排列，所述研磨装置(2)包括研磨滚筒(21)、驱动研磨滚筒(21)转动的驱动机构I(22)、驱动研磨滚筒(21)上下移动的升降装置I，所述抛光装置(3)包括抛光滚筒(31)、驱动抛光滚筒(31)转动的驱动机构II(32)、驱动抛光滚筒(31)上下移动的升降装置II。 

2.根据权利要求1所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述输送带(1)上放置有多个用于放置待加工产品的板(4)。 

3.根据权利要求1所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述研磨装置(2)和／或抛光装置(3)旁设有喷淋机构。 

4.根据权利要求1、2或3所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述升降装置I包括多条竖直安装在机架(7)上的丝杆I(23)、用于放置研磨滚筒(21)的支架I(24)以及放置在支架I(24)上的电机I(25)，所述支架I(24)通过带齿螺母I(27)安装在丝杆I(23)上，电机I(25)通过链条I(26)驱动带齿螺母I(27)上下移动。 

5.根据权利要求1、2或3所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述升降装置II包括多条竖直安装在机架(7)上的丝杆II(33)、用于放置抛光滚筒(31)的支架II(34)以及放置在支架II(34)上的电机II(35)，所述支架II(34)通过带齿螺母II(37)安装在丝杆II (33)上，电机II(35)通过链条II(36)驱动带齿螺母II(37)上下移动。 

6.根据权利要求1、2或3所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述抛光滚筒(31)旁设有修整装置(5)。 

7.根据权利要求6所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述修整装置(5)包括车刀(51)、驱动车刀(51)沿抛光滚筒(31)外圆来回移动的修平驱动装置。 

8.根据权利要求1所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述抛光滚筒(31)安装在一可水平移动的摇摆装置(6)上。 

9.根据权利要求8所述的一种带式滚筒多粒平面磨抛机，其特征在于：所述摇摆装置(6)包括摇摆气缸(61)，摇板座(62)及光杆(63)。 

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