CN203339108U - Ms/ms型电感耦合等离子体质谱仪 - Google Patents
Ms/ms型电感耦合等离子体质谱仪 Download PDFInfo
- Publication number
- CN203339108U CN203339108U CN2013200049288U CN201320004928U CN203339108U CN 203339108 U CN203339108 U CN 203339108U CN 2013200049288 U CN2013200049288 U CN 2013200049288U CN 201320004928 U CN201320004928 U CN 201320004928U CN 203339108 U CN203339108 U CN 203339108U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- vacuum chamber
- vacuum
- ion
- pump
- icp
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/04—Arrangements for introducing or extracting samples to be analysed, e.g. vacuum locks; Arrangements for external adjustment of electron- or ion-optical components
- H01J49/0495—Vacuum locks; Valves
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/105—Ion sources; Ion guns using high-frequency excitation, e.g. microwave excitation, Inductively Coupled Plasma [ICP]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/24—Vacuum systems, e.g. maintaining desired pressures
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
本实用新型涉及MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)中的新的差分抽气构成。装置(10)包括:将包含被离子化的样品的等离子体引入到真空中的第一真空室(11)、包含从第一真空室所出射的离子中提取并引导离子束的单元(18)的第二真空室(12)、具有第一离子光学分离单元(20)的第三真空室(13)、具有反应气体被导入的池(25)的第四真空室(14)、具有第二离子光学分离单元(29)和检测器(30)的第五真空室(15),并且,第二真空室(12)和第三真空室(13)独立地被排气。
Description
技术领域
本实用新型涉及MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)中的新的差分抽气构成。
背景技术
至今为止没有MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)被转化成商品的例子,但是介绍有很多在实验研究中构成和使用的例子。即,ICP-MS/MS由电感耦合等离子体装置(ICP)和与其连接的MS/MS型质谱仪(MS/MS)构成。电感耦合等离子体装置用于生成包含分析样品在内的等离子体。MS/MS型质谱仪由接口以及离子透镜、碰撞/反应(Collision/reaction)池(cell)、夹持池分别设置在其前级和后级的两个滤质器、电子倍增管等的检测器构成。两个滤质器利用例如四极滤质器这样的抽出离子的分离单元来按照质量电荷比分离离子束中的预定的离子。碰撞/反应池导入氢等的分子量比较小的反应气体,通过使从前级的滤质器导入的离子束中的多原子分子离子与反应气体分子碰撞、反应来选择性地进行中和,由此防止对测量信号的干扰。
通过如上所述的构成,在电感耦合等离子体装置(ICP)中生成的等离子体经由接口作为离子束被导入到质谱仪(MS/MS)中,预定的质量电荷比的离子通过前级的滤质器被分离,被运送到碰撞/反应池中。在出前级的滤质器之后的离子束中可能包含具有同一质量电荷比的多种离子。该离子束在池内与反应气体碰撞、反应,生成具有更小或更大的质量电荷比的多原子分子离子,并且被运送到后级的滤质器中。后级的滤质器从碰撞/反应池导入的离子束中按照预定的质量电荷比进一步分离作为测量对象的离子,并运送到检测器。
如上所述,ICP-MS/MS是利用两个滤质器和池来从干扰离子中有效地分离并定量测量对象离子的装置。在非专利文献1中,介绍了如下实验:在ICP-MS/MS中,利用离子分子反应能够选择性地减少被输入到检测器的离子。即,从离子源运送铽离子(Tb+、质量数159)、铈离子(Ce+、质量数140、142)、氧化铈离子(CeO+、质量数156、158)并使它们通过前级的滤质器,并将它们导入到以氧(O2)为反应气体的碰撞/反应池。在池内,Tb+和Ce+与O2反应形成TbO+(质量数175)、CeO+(质量数156、158),并将其运送到后级的滤质器,因此,通过使后级的滤质器以比前级的滤质器高16的质量电荷比进行动作,能够从与TbO+、CeO+对应的质量数中分别检测出铽和铈。另一方面,在池内几乎不形成CeO2 +离子(质量数172、174),而仅保留CeO+离子。其结果是,在后级的滤质器中,几乎不通过CeO2 +的质量数为172、174的离子。也就是说,利用池内的离子分子反应的差,相对于Tb+的信号能够显著降低CeO+的信号。如该实验所示,在ICP-MS/MS中,能够利用离子分子反应来选择性地减少离子,因此,基于该原理,ICP-MS/MS能够减少相对于测量对象离子的干扰离子。
ICP-MS/MS需要将分析室内保持为真空,专利文献1示出了用于此目的的排气结构。
专利文献1:国际公开00/16375号公报(日本专利文件特表2002-525801号公报)。
非专利文献1:Some Current Perspectives on ICP-MS”D.J.Douglas,Canadian Journal of Spectroscopy,Volume 34,No.2,1989
实用新型内容
如上所述,在ICP-MS/MS中,在容纳有被供应反应气体的池的真空室的前后设置了两个布置有四极杆的真空室。便于参照,将专利文献1的图2作为图6来附加示出。在专利文献1中,关于ICP-MS/MS的真空系统公开了:将容纳有现有的提取电极和碰撞/反应池的真空室划分为具有提取电极和四极杆的第一真空室6、具有碰撞/反应池的第二真空室20,使第一真空室6成为1×10-2Pa~1Pa、典型的是1~2×10-1Pa左右的真空度,并使第二真空室20成为1~2×10-2Pa左右的真空度。设置在第二真空室20的后级并且具有四极滤质器37和检测器38的第三真空室33为1×10-4Pa左右的真空度。并且,第一真空室6由容纳提取电极8的区域14和容纳四极杆17的区域15构成,这些区域被作为一个真空工作台而通过涡轮分子泵被真空排气。另外,真空室之间通过直径为2~3mm左右的开口19、32连通,这些区域14、15通过具有20mm左右的较大直径的开口11连通,并使它们具有相同的压力。然而,根据本实用新型的发明人的认知,这样的排气结构有问题。
即,如上所述,专利文献1中提出的真空排气结构试图使第一真空室6的压力成为1~2×10-1Pa左右。然而,实际上,第一真空室6是从存在于大气压下的离子源1被进行差分真空排气的第二级的真空工作台,其压力顶多能降低到1×10-2Pa左右。然而,通常在四极杆17上施加重叠了几MHz、几kV左右的比较高频率且高电压的交流电位以及几百V左右的直流电位,因此,当以这样的压力使ICP-MS/MS动作时,四极杆会放电,从而存在无法进行过滤器动作、或者背景噪声提高的风险。另外,为了使四极杆具有充分的质量选择性、质量分辨率,需要具有长度与四极杆相同程度的离子飞行距离,然而,在这样的压力下的离子的平均自由程虽然还根据离子种类而不同,然而,例如假定Ar离子和Ar气体分子碰撞时,缩短为30cm左右。因此,质量选择性、质量分辨率可能变得不充分,离子和气体分子之间由于碰撞也会导致敏感度降低。若假设为了防止这样的敏感度降低而缩短四极杆的长度,则这次出现如下不良情况:牺牲掉四极杆自身的质量分辨率,由于光谱干扰增加而降低ICP-MS/MS原本具有的分析性能。
本实用新型通过提供用于ICP-MS/MS中的新的差分真空排气的结构,来解决上述问题,其课题在于,在ICP-MS/MS中充分发挥能够以高敏感度检测出微量的金属离子的电感耦合等离子体质谱仪的特征。
本实用新型的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪(ICP-MS/MS)包括:将在大气压下产生的包含样品元素的等离子体引入到真空中、并将其出射到后级的真空室的第一真空室;从第一真空室所出射的等离子体中作为束而提取包含分析对象的离子、并包含使其收敛且引导的单元的第二真空室;与第二真空室连接、并具有第一离子光学分离单元的第三真空室;与第三真空室连接、并具有反应气体被导入的池的第四真空室;与第四真空室连接、并具有第二离子光学分离单元和检测器的第五真空室。第1和第二离子光学分离单元典型的是具有4根棒电极的四极滤质器(四极杆)。在碰撞/反应池内也具有四极杆。另外,池内的棒电极不限于四极杆,也可以使用由6根、8根等的棒电极构成的其他的多极杆。
本实用新型的ICP-MS/MS的5个真空室分别被排气,在这一点上作为差分排气构成是新的,尤其是,本实用新型与现有技术的区别在于:对第二真空室和第三真空室独立地排气。即,通过具有直径为2~3mm左右的小孔的隔壁来分开作为提取离子束、并使其收敛且引导该离子束的单元而容纳提取电极或离子透镜的第二真空室、以及容纳第一个四极杆的第三真空室,并通过涡轮分子泵来对各真空室进行排气,由此,将来自离子源的Ar气体分子对第三真空室的流入量降低到1×10-2sccm左右。另外,也可以对这样的隔壁施加电压,使其作为离子透镜来动作。从而,能够使隔开第二、第三真空室的隔壁和滤质器之间的距离减小到1mm~7mm左右,省去在该隔壁和滤质器之间设置离子透镜的必要性,并且能够减少离子的损失。其结果是,能够获得如下后述的效果:第三真空室的压力比现有技术低2个数量级左右,能够使离子的平均自由程变长等。
通常,第一真空室通过旋转泵被排气,从第二真空室至第五真空室通过涡轮分子泵或油扩散泵被排气。涡轮分子泵可以是分流式,即是一个泵具有多个入口(吸入口)的型式的涡轮分子泵。但是,在分流式中,下游侧的吸入口的压力变得比上游侧的吸入口的压力高。从而,即便对本实用新型的ICP-MS/MS单纯地采用了分流式的涡轮分子泵,一旦碰撞/反应池的前级区域中的气体的分压提高,则也能想到放电或极端的敏感度降低等风险,因此在应用时需要注意。真空室的压力典型的是:在没有气体被引入到碰撞/反应池时,包含提取电极或离子透镜的第二真空室被维持在0.1Pa~0.5Pa左右的压力,容纳第一个四极杆的第三真空室被维持在比第二真空室低的1×10-4Pa~1×10-3Pa左右的压力,容纳了碰撞/反应池的第四真空室和第五真空室都被维持在1×10-4Pa以下的压力。在没有气体的导入时,第二真空室的压力为0.1Pa~0.5Pa左右、第三真空室的压力为1×10- 4Pa~1×10-2Pa左右、第四真空室的压力为1×10-3Pa~0.2Pa左右、第五真空室的压力为1×10-4Pa~5×10-3Pa左右。
在本实用新型的一个实施方式中,第五真空室可以是与第三真空室经由流路连接的构成,在该情况下这些真空室成为相同的压力。在如上所述的本实施方式中,在容纳了碰撞/反应池的第四真空室的前后分别设有容纳了四极杆的第三真空室和第五真空室,与现有技术不同地,第三真空室被构成为与第二真空室独立地排气,由此排除发挥离子导向部或质量选择功能的这些四极杆上的放电或敏感度降低这样的风险。在该情况下,第三真空室和第五真空室也可以通过分别独立的涡轮分子泵来真空排气,通过将这些真空室经由流路连接,能够获得因减少转子以几万rpm级的高速旋转的涡轮分子泵的个数而带来的优点。
在本实用新型的具体的应用中,既可以通过一个分流式涡轮分子泵来对第二真空室和第三真空室进行排气,另外可以对第三真空室和第四真空室、或第四真空室和第五真空室分别通过一个分流式涡轮分子泵来排气,并且可以将其组合,与上述的通过流路来连接的构成合并使用。
另外,在第一真空室的粗真空中所使用的旋转泵也可以兼做前级泵,所述前级泵用于对来自对从第二真空室至第五真空室进行排气的涡轮分子泵或油扩散泵的排气进行排气。
根据本实用新型,由于能够使容纳四极杆的第三真空室的压力充分降低,因此,能够使得离子的平均自由程变长,从而几乎没有第三真空室内的离子和气体分子的碰撞导致的敏感度损失。另外,由于能够使四极杆的长度充足,能够充分降低敏感度损失并且提高质量选择性、质量分辨率。并且,能够降低没有蒸发的样品基体和中性分子被导入第三真空室中的量,其结果是,四极杆和周边的离子透镜难以被污染,因此能够减轻这些部件的维修的负担。
另一方面,在将第三和第五真空室如上所述的那样通过流路连接的情况下,能够减少由于高速旋转而可靠性比其他部件低且每隔几年就需要进行更换轴承等检修的涡轮分子泵的个数,或者能够使其成为更小的泵。这使得能够降低成本,且提高质谱仪的组装性能,减轻维护工作量,并且能够降低泵故障的频率,从而提高可靠性。
附图说明
图1是表示根据本实用新型的ICP-MS/MS的新的差分抽气构成的基本概念的简示图;
图2是根据本实用新型的一个实施方式的ICP-MS/MS的新的差分抽气构成的简要图;
图3是根据本实用新型的其他的实施方式的ICP-MS/MS的新的差分抽气构成的简要图;
图4是根据本实用新型的另一个实施方式的ICP-MS/MS的新的差分抽气构成的简要图;
图5是根据本实用新型的另一个实施方式的ICP-MS/MS的新的差分抽气构成的简要图;
图6是示出专利文献1的图2所公开的现有的ICP-MS/MS的构成的截面图。
具体实施方式
在图1中示出本实用新型中的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪的实施方式的基本型。如已经叙述的那样,其与专利文献1所记载的现有技术的区别在于:容纳提取电极的真空室、以及与其连续的容纳四极杆的真空室分别作为独立的真空室而通过真空泵被排气。
MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪10包含未图示的等离子体喷枪,所述等离子体喷枪用于产生样品被喷雾导入的电感耦合等离子体P。如众所周知的那样在等离子体喷枪的附近配置有与高频电源连接的线圈,通过其动作来产生等离子体P。在装置10内配置有能够相互连通的5个真空室11~15。第一真空室11与等离子体P邻接,并具有包含采样锥16和截取锥17的接口构造。通过等离子体喷枪产生的包含样品的离子的等离子体P的一部分经由该接口构造而以离子束的形态被抽取出来。采样锥16的外侧为大气压左右的压力,因此,第一真空室11成为比较高的压力,然而,如S1所示,经由排气管通过例如旋转泵这样的粗真空泵而被减压。另外,排气管包含阀,该阀在装置启动时被操作而在分析动作中维持打开状态。
通过第一真空室11被引入的、包含被离子化的样品在内的等离子体通过截取锥17的孔口(orifice)被引导到第二真空室12。在第二真空室12中可以配置用于在截取锥17的背后形成离子束并进行引导的离子光学部件,例如提取电极或离子透镜18。另外,只要是能够对从通过第一真空室11的界面结构射出的离子进行收敛并且将其传送到后级的离子光学设备(例如,用于Perkin Elmer公司的NexION中的Quadrupole IonDeflector)就可以,可以是提取电极以外的设备。第二真空室12如S2所示通过例如涡轮分子泵或油扩散泵而被排气到例如0.1Pa~0.5Pa左右的中真空。
在第二真空室12的后级设有通过隔壁19与第二真空室12隔开的第三真空室13。在第三真空室13内容纳有四极滤质器20,四极滤质器20提高质量选择性、质量分辨率且将离子束传输到第四真空室14,并且防止等离子体气体和载气等被送入。四极滤质器20由四极滤质器主体20b、以及分别设置在其前后级的离子导向部20a、20c构成。第三真空室13如S3所示的那样与第二真空室12不同且独立地被排气到例如1×10-4Pa~2×10- 2Pa左右的高真空。然而,这并不妨碍利用分流式涡轮分子泵的各吸入口来对这些真空室独立地进行排气。即,例如,第二真空室12能够连接到分流式涡轮分子泵的低真空侧吸入口,第三真空室13能够连接到其高真空侧吸入口。在隔开第二真空室12和第三真空室13的隔壁19上设有孔口(Orifice)21,在隔壁19的前级设有停止时闭锁的闸阀(未图示)。由于压力足够低,因此,隔壁19和四极滤质器20之间的距离短至1mm。隔壁19成为离子透镜。
通过具有孔口22的隔壁23与第三真空室13隔开的是第四真空室14。该室内放置有碰撞/反应池24,如由25所示的那样可以导入反应气体。如在非专利文献1中所述的那样,池是公知的,从输送过来的离子束中通过与反应气体的分子之间发生电荷移动反应等来除去载气或等离子体气体、以及包含辅助气体的元素并对质谱产生干扰的多原子分子离子。另外,池24内包含有如四极滤质器26这样的多极电极等。第四真空室14如S4所示的那样例如被排气到1×10-5Pa~0.2Pa左右的压力,在该情况下,既可以单独地通过涡轮分子泵排气,也可以与其他的真空室共用分流式涡轮分子泵来排气。
装置10的最后一级设有通过具有孔口27的隔壁28与第四真空室14隔开的第五真空室15。在该室内,设有四极滤质器29作为用于提取具有预定的质量电荷比的离子的分离单元,另外,在四极滤质器29的后侧布置有用于检测所提取的离子的、例如电子倍增管这样的检测器30。四极滤质器29由离子导向部29a和四极滤质器主体29b构成。检测器30向设置在装置10的外部的信号处理单元输出检测信号。第五真空室15如S5所示的那样通过涡轮分子泵而被排气到高真空。第五真空室15能够被排气至比第四真空室14低的1×10-5Pa~2×10-2Pa左右的压力,然而,如后所述,其有时也经由流路与第三真空室13连接,被维持为同一压力。
从图2至图5举例示出基于图1的基本构成的真空泵的具体的配置。在这些图中,装置10的真空室内的构成要素与图1相同,便于简化而没有示出。关于其他的构成要素,对于与图1相同的要素,附加了相同的参照符号。
图2示出使用了两台分流式涡轮分子泵31、32的例子。如图所示,第一真空室11通过旋转泵33被排气,第二真空室12和第三真空室13都通过分流式涡轮分子泵31被排气且减压。即,第二真空室13通过吸入口S2、且第三真空室13通过吸入口S3分别与在分流式涡轮分子泵31的轴向上连续的低真空侧段34和高真空侧段35连接,低真空侧段34和高真空侧段35中的每一个包含多个旋转翼36,旋转翼36能够在水平方向的面内旋转。如众所周知的那样,还有使轴向朝向水平方向且旋转翼在铅垂面内旋转的构成的涡轮分子泵,也可以同样用于本实施方式中。根据图2的实施方式的构成,第三真空室13通过位于低真空侧段34内的旋转翼群和位于高真空侧段35内的旋转翼群这两者的作用而被加压,与此相对,第二真空室12仅通过位于低真空侧段34内的旋转翼群而被减压。因此,能够将第二真空室12和第三真空室13中的每一个独立地排气到所期望的真空度。
同样地,第四真空室14和第五真空室15都通过分流式涡轮分子泵32被排气且减压。第四真空室14通过吸入口S4、且第五真空室15通过吸入口S5分别与在分流式涡轮分子泵32的轴向上连续的低真空侧段37和高真空侧段38连接。另外,在图2的构成中,分流式涡轮分子泵32的排气口39经由排气管40连接在分流式涡轮分子泵31的低真空侧段34的中途,并且分流式涡轮分子泵31的排气口41经由排气管42连接在旋转泵33。从而,旋转泵33作为对分流式涡轮分子泵31和32进行排气的前级泵(Backing pump)而动作。
图3是示出第三真空室13和第五真空室15经由流路43连接的构成的实施方式的简要图。与图2的实施例的情况同样地,第二真空室12和第三真空室13都通过与图2同样的分流式涡轮分子泵31’而被排气,第三真空室13与其高真空侧段35’连接,第二真空室12与其低真空侧段34’连接。然而,另外一个涡轮分子泵44与图2的涡轮分子泵32不同,不是分流式的,并且仅与第四真空室14连接。因此,与图2的情况相比,在成本上是有利的。作为流路43,可以使用波纹管等的管,或者也可以在室或涡轮分子泵的歧管(Manifold)上设置流路。但是,尤其在导入反应气体26时,为了尽量减小第五真空室15的升压,尽量扩大流路的截面积且尽量缩短流路长度,由此,希望尽量增加流路电导。涡轮分子泵44的排气口经由排气管40’连接在分流式涡轮分子泵31’的低真空侧段34’的中途。
图4示出第三真空室13和第五真空室15经由流路43连接的其他的构成。在该例子中,第二真空室12通过单独的涡轮分子泵45被排气,第三真空室13和第四真空室14通过分流式涡轮分子泵46被排气。具体来说,第三真空室13与高真空侧段47连接,第四真空室14与低真空侧段48连接。图5为与图4类似的构成,分流式涡轮分子泵46’的高真空侧段47’与第五真空室15连接。
(实施例)
准备了具有图1的5级差分抽气的基本构成的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪。第三真空室13内的四极杆被设定为铊205,测量了1ppb的信号强度。第五真空室15内的四极杆作为离子导向部而被驱动,对碰撞/反应池24没有导入气体。为了进行比较,封住第二真空室12的泵退路S2,作为4级差分抽气的构成而进行了同样的测量,但是在隔壁22上作为气体的缺口而开设了面积约为600mm2的开口。表1示出关于信号强度和第二真空室内的压力的测量结果。
符号说明
10MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪
11第一真空室
12第二真空室
13第三真空室
14第四真空室
15第五真空室
20、26、29四极滤质器
24碰撞/反应池
31、31’、32、46、46’分流式涡轮分子泵
33旋转泵
43流路
44、45涡轮分子泵
Claims (12)
1.一种MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,所述质谱仪包括:
第一真空室,所述第一真空室将包含被离子化的样品在内的等离子体引入到真空中;
第二真空室,所述第二真空室与所述第一真空室连接,并且包括从所述第一真空室所出射的离子中提取并引导离子束的单元;
第三真空室,所述第三真空室与所述第二真空室连接,并且具有第一离子光学分离单元;
第四真空室,所述第四真空室与所述第三真空室连接,并具有反应气体被导入的池;以及
第五真空室,所述第五真空室与所述第四真空室连接,并具有第二离子光学分离单元以及检测器,
其中,所述第二真空室和所述第三真空室独立地被排气。
2.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其特征在于,
所述离子光学分离单元根据质量电荷比来分离离子。
3.如权利要求1或2所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第二真空室被维持在0.5Pa的压力以下,所述第三真空室被维持在1×10-4Pa~2×10-2Pa的压力。
4.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第四真空室被维持在1×10-5Pa~0.2Pa的压力。
5.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第一真空室通过旋转泵被排气,从所述第二真空室至所述第五真空室通过涡轮分子泵或油扩散泵被排气。
6.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第三真空室和所述第五真空室经由流路相互连接。
7.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第二真空室和所述第三真空室通过一个分流式涡轮分子泵被排气。
8.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第三真空室和所述第四真空室通过一个分流式涡轮分子泵被排气。
9.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第四真空室和所述第五真空室通过一个分流式涡轮分子泵被排气。
10.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述第二真空室和所述第三真空室通过一个分流式涡轮分子泵被排气,所述第四真空室和所述第五真空室通过一个分流式涡轮分子泵被排气。
11.如权利要求5所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
所述旋转泵兼用于对从所述第二真空室至所述第五真空室进行排气的泵的前级泵。
12.如权利要求1所述的MS/MS型电感耦合等离子体质谱仪,其中,
从所述第二真空室和所述第三真空室之间的隔壁至所述第一离子光学分离单元为止的距离为1mm至7mm。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012001616A JP6087056B2 (ja) | 2012-01-06 | 2012-01-06 | 誘導結合プラズマms/ms型質量分析装置 |
JP2012-001616 | 2012-01-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN203339108U true CN203339108U (zh) | 2013-12-11 |
Family
ID=48743270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN2013200049288U Expired - Lifetime CN203339108U (zh) | 2012-01-06 | 2013-01-06 | Ms/ms型电感耦合等离子体质谱仪 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8610053B2 (zh) |
JP (1) | JP6087056B2 (zh) |
CN (1) | CN203339108U (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104576289A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 一种可调真空压力的电感耦合等离子体质谱仪 |
CN106711011A (zh) * | 2015-11-17 | 2017-05-24 | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 | 向质谱仪中的icp源添加反应性物质 |
CN108344622A (zh) * | 2017-01-23 | 2018-07-31 | 深圳出入境检验检疫局食品检验检疫技术中心 | 同时检测食品中多种准金属含量的检测方法 |
CN106373853B (zh) * | 2015-07-21 | 2018-10-09 | 株式会社岛津制作所 | 一种用于质谱仪离子化以及离子引入装置 |
CN106687808B (zh) * | 2014-07-07 | 2019-08-20 | 纳米技术分析责任有限公司 | 用于分析时变气流的便携式电子系统 |
CN114207774A (zh) * | 2019-07-26 | 2022-03-18 | 株式会社日立高新技术 | 质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法 |
US11848184B2 (en) | 2018-12-19 | 2023-12-19 | Shimadzu Corporation | Mass spectrometer |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102014226038A1 (de) * | 2014-12-16 | 2016-06-16 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Druckreduzierungseinrichtung, Vorrichtung zur massenspektrometrischen Analyse eines Gases und Reinigungsverfahren |
US9368335B1 (en) * | 2015-02-02 | 2016-06-14 | Thermo Finnigan Llc | Mass spectrometer |
GB201509412D0 (en) | 2015-06-01 | 2015-07-15 | Micromass Ltd | Coupling intermediate pressure regions |
GB2544959B (en) | 2015-09-17 | 2019-06-05 | Thermo Fisher Scient Bremen Gmbh | Mass spectrometer |
JP6734061B2 (ja) | 2016-01-29 | 2020-08-05 | アジレント・テクノロジーズ・インクAgilent Technologies, Inc. | プラズマ分光分析装置 |
US10290482B1 (en) | 2018-03-13 | 2019-05-14 | Agilent Technologies, Inc. | Tandem collision/reaction cell for inductively coupled plasma-mass spectrometry (ICP-MS) |
US10854438B2 (en) | 2018-03-19 | 2020-12-01 | Agilent Technologies, Inc. | Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) with improved signal-to-noise and signal-to-background ratios |
JP7196763B2 (ja) * | 2018-10-25 | 2022-12-27 | 株式会社島津製作所 | ターボ分子ポンプおよび質量分析装置 |
US11239068B2 (en) * | 2018-11-02 | 2022-02-01 | Agilent Technologies, Inc. | Inductively coupled plasma mass spectrometer with mass correction |
CN111665103B (zh) * | 2020-05-13 | 2023-08-18 | 中国科学院微电子研究所 | 一种低真空痕量气体的快速无损采样分析装置和方法 |
JP7396237B2 (ja) * | 2020-09-15 | 2023-12-12 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
US11443933B1 (en) | 2020-10-30 | 2022-09-13 | Agilent Technologies, Inc. | Inductively coupled plasma mass spectrometry (ICP-MS) with ion trapping |
JP7544279B2 (ja) | 2021-07-30 | 2024-09-03 | 株式会社島津製作所 | 質量分析装置 |
US20240290603A1 (en) * | 2023-02-28 | 2024-08-29 | Young In Ace Co., Ltd. | Mass spectrometer and mass spectrometry method using the same |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3947762B2 (ja) * | 1997-11-26 | 2007-07-25 | アジレント・テクノロジーズ・インク | 誘導結合プラズマ質量分析装置、及び、その排気制御方法 |
GB9820210D0 (en) | 1998-09-16 | 1998-11-11 | Vg Elemental Limited | Means for removing unwanted ions from an ion transport system and mass spectrometer |
US6703607B2 (en) * | 2002-05-30 | 2004-03-09 | Mds Inc. | Axial ejection resolution in multipole mass spectrometers |
JP2007157529A (ja) * | 2005-12-06 | 2007-06-21 | Ulvac Japan Ltd | 四極子形質量分析計用イオン源 |
US8507850B2 (en) * | 2007-05-31 | 2013-08-13 | Perkinelmer Health Sciences, Inc. | Multipole ion guide interface for reduced background noise in mass spectrometry |
US8481923B1 (en) * | 2012-06-29 | 2013-07-09 | Agilent Technologies, Inc. | Atmospheric pressure plasma mass spectrometer |
-
2012
- 2012-01-06 JP JP2012001616A patent/JP6087056B2/ja active Active
-
2013
- 2013-01-04 US US13/734,378 patent/US8610053B2/en active Active
- 2013-01-06 CN CN2013200049288U patent/CN203339108U/zh not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106687808B (zh) * | 2014-07-07 | 2019-08-20 | 纳米技术分析责任有限公司 | 用于分析时变气流的便携式电子系统 |
US10697944B2 (en) | 2014-07-07 | 2020-06-30 | Nanotech Analysis S.R.L. | Portable electronic system for the analysis of time-variable gaseous flows |
CN104576289A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-04-29 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 一种可调真空压力的电感耦合等离子体质谱仪 |
CN104576289B (zh) * | 2014-12-31 | 2017-08-25 | 聚光科技(杭州)股份有限公司 | 一种可调真空压力的电感耦合等离子体质谱仪 |
CN106373853B (zh) * | 2015-07-21 | 2018-10-09 | 株式会社岛津制作所 | 一种用于质谱仪离子化以及离子引入装置 |
CN106711011A (zh) * | 2015-11-17 | 2017-05-24 | 塞莫费雪科学(不来梅)有限公司 | 向质谱仪中的icp源添加反应性物质 |
US10056241B2 (en) | 2015-11-17 | 2018-08-21 | Thermo Fisher Scientific (Bremen) Gmbh | Addition of reactive species to ICP source in a mass spectrometer |
CN108344622A (zh) * | 2017-01-23 | 2018-07-31 | 深圳出入境检验检疫局食品检验检疫技术中心 | 同时检测食品中多种准金属含量的检测方法 |
US11848184B2 (en) | 2018-12-19 | 2023-12-19 | Shimadzu Corporation | Mass spectrometer |
CN114207774A (zh) * | 2019-07-26 | 2022-03-18 | 株式会社日立高新技术 | 质量分析装置以及控制该质量分析装置的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013143196A (ja) | 2013-07-22 |
JP6087056B2 (ja) | 2017-03-01 |
US8610053B2 (en) | 2013-12-17 |
US20130175442A1 (en) | 2013-07-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN203339108U (zh) | Ms/ms型电感耦合等离子体质谱仪 | |
DE112014002582B4 (de) | Kompaktes Massenspektrometer | |
US20200335317A1 (en) | IRMS Sample Introduction System and Method | |
US8481923B1 (en) | Atmospheric pressure plasma mass spectrometer | |
EP2204842B1 (en) | Means for removing unwanted ions from an ion transport system and mass spectrometer | |
CA2218158C (en) | Mass spectrometer system and method for transporting and analyzing ions | |
JP4982087B2 (ja) | 質量分析装置及び質量分析方法 | |
EP3540758B1 (en) | Tandem collision/reaction cell for inductively coupled plasma-mass spectrometry (icp-ms) | |
EP2559055B1 (en) | Mass spectrometry system with molecular dissociation and associated method | |
CN102290315B (zh) | 一种适合于飞行时间质谱仪的离子源 | |
CN103329241B (zh) | 质谱分析方面或相关的改进 | |
US20090194679A1 (en) | Methods and apparatus for reducing noise in mass spectrometry | |
DE112014002609T5 (de) | Kompaktes Massenspektrometer | |
DE112014002617B4 (de) | Kompaktes Massenspektrometer | |
CN105308713A (zh) | 用于质谱仪的污染物过滤器 | |
US9006646B2 (en) | Mass spectrometry apparatus | |
DE112014002624T5 (de) | Kompaktes Massenspektrometer | |
CN107768230A (zh) | 一种二阶质子转移反应离子源装置及其使用方法 | |
CN105428199B (zh) | 质谱分析方法及具有大气压接口的质谱分析装置 | |
CN107887251A (zh) | 一种离子分子反应质谱系统 | |
US12002672B2 (en) | Apparatus and methods for reduced neutral contamination in a mass spectrometer | |
JP4811361B2 (ja) | 大気圧化学イオン化質量分析装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
CX01 | Expiry of patent term |
Granted publication date: 20131211 |
|
CX01 | Expiry of patent term |